文献[45]实测的对应8/20us和1/2.5us的双指数电流冲击波的电压响应,作用在ZnO阀片上的电压均超前电流到达峰值,试验中的测量采用带孔阀片的同轴布置方式，可以减小试验回路中电感的影响。所有测量
2024-03-22 08:00:53
磁控溅射技术是在真空中，经电场作用，将氩气电离成Ar+正离子，Ar+经加速后撞击靶材膜料，从而溅射到衬底上，制成薄膜。
2024-03-20 11:27:13
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由于只有热氧化法可以提供最低界面陷阱密度的高质量氧化层，因此通常采用热氧化的方法生成栅氧化层和场氧化层。
2024-03-13 09:49:05103 
1、三相组合式过电压保护器采用氧化锌非线性电阻和放电间隙相组合的结构，使二者互为保护。放电间隙使氧化锌电阻的荷电率为零，氧化锌的非线性特性又使放电间隙动作后立即熄弧，无续流，无截波，放电间隙不再承受
2024-03-12 10:44:0360 碳化硅圆盘压敏电阻 |碳化硅棒和管压敏电阻 | MOV / 氧化锌 （ZnO） 压敏电阻 |带引线的碳化硅压敏电阻 | 硅金属陶瓷复合电阻器 |ZnO 块压敏电阻 关于EAK碳化硅压敏电阻我们
2024-03-08 08:37:49
随着太阳能电池技术的快速迭代，异质结太阳能电池因其高转换效率、高开路电压、低温度系数、低工艺温度、可双面发电等优点而受到广泛关注。其中ITO薄膜在异质结太阳能电池中发挥着重要作用，其制备过程中
2024-03-05 08:33:28278 
ITO薄膜在提高异质结太阳能电池效率方面发挥着至关重要的作用，同时优化ITO薄膜的电学性能和光学性能使太阳能电池的效率达到最大。沉积温度和溅射功率也是ITO薄膜制备过程中的重要参数，两者对ITO薄膜
2024-03-05 08:33:20235 相对于块体材料，膜一般为二维材料。薄膜和厚膜从字面上区分，主要是厚度。薄膜一般厚度为5nm至2.5μm，厚膜一般为2μm至25μm，但厚度并不是区分薄膜和厚膜的标准。
2024-02-28 11:08:51370 在半导体制造领域，我们经常听到“薄膜制备技术”，“薄膜区”，“薄膜工艺”等词汇，那么有厚膜吗？答案是：有。
2024-02-25 09:47:42237 
蚀刻时间和过氧化氢浓度对ZnO玻璃基板的影响 本研究的目的是确定蚀刻ZnO薄膜的最佳技术。使用射频溅射设备在玻璃基板上沉积ZnO。为了蚀刻ZnO薄膜，使用10%、20%和30%的过氧化氢（H2O2
2024-02-02 17:56:45306 
Molex 的薄膜电池由锌和二氧化锰制成，让最终用户更容易处置电池。大多数发达国家都有处置规定;这使得最终用户处置带有锂电池的产品既昂贵又不便。消费者和医疗制造商需要穿着舒适且轻便的解决方案
2024-01-26 15:51:04
高质量的p型隧道氧化物钝化触点(p型TOPCon)是进一步提高TOPCon硅太阳能电池效率的可行技术方案。化学气相沉积技术路线可以制备掺杂多晶硅层，成为制备TOPCon结构最有前途的工业路线之一
2024-01-18 08:32:38288 动力。 溅射靶材是制备半导体晶圆、显示面板、太阳能电池等表面电子薄膜的核心材料。其纯度、致密度和成分均匀性等性能对下游客户的镀膜质量具有直接影响。超卓航科所采用的冷喷涂技术，作为一种颇具前景的固态粉末沉积方法
2024-01-15 10:35:5887 
。 一、薄膜电容的工艺 薄膜电容的制造工艺主要包括金属薄膜沉积、光刻、腐蚀等步骤。 金属薄膜沉积：金属薄膜沉积是薄膜电容制备过程中的关键步骤，它直接影响到电容的性能。金属薄膜沉积方法有蒸发镀膜、磁控溅射等。蒸发
2024-01-10 15:41:54443 
近年来，随着研究人员对红外微光学元器件的深入研究，高精度制备器件备受关注。传统的制备技术存在许多缺点，而飞秒激光有着超强、超快的特性，非常合适用来制备红外微光学元器件。
2023-12-29 16:25:01224 
2023年12月，日本Novel Crystal Technology宣布采用垂直布里奇曼（VB）法成功制备出直径6英寸的β型氧化镓（β-Ga2O3）单晶。通过增加单晶衬底的直径和质量，可以降低β-Ga2O3功率器件的成本。
2023-12-29 09:51:35339 
在太阳能电池的沉积工艺中，制备高性能的ITO薄膜是其首要任务。电池厂商在制备ITO薄膜时，往往需要考虑自身的方阻与影响ITO薄膜方阻的因素，从而在了解的基础上更好的解决对ITO薄膜方阻有不利
2023-12-28 08:33:00418 石墨烯的制备方法主要有2类（图1）：一为“自上而下”法，即通过物理或者化学方法对碳材料进行剥离或者剪切，从而获得高品质石墨烯，主要包括机械剥离法、氧化还原法及电弧放电法等。
2023-12-27 10:23:37135 
氧化锌避雷器具有良好的保护性能，在电气系统和低压电路中应用的很多。氧化锌避雷器的工作原理是利用了氧化锌压敏电阻的非线性特点。
2023-12-25 11:35:07489 
芯片晶圆里TaN薄膜是什么？TaN薄膜的性质、制备方法 TaN薄膜是一种在芯片晶圆制备过程中常用的材料。它具有高熔点、高硬度和良好的热稳定性，因此在芯片技术中应用广泛。本文将对TaN薄膜的性质和制备
2023-12-19 11:48:16376 氧化诱导期分析仪是一款用于测量材料在氧化过程中的诱导期的仪器。它通过测量材料在氧化过程中产生的热量变化，从而确定材料的氧化诱导期。氧化诱导期分析仪具备哪些优势？1、准确性高。该仪器采用较高的测量技术
2023-12-14 13:33:45127 
电力安全是至关重要的。为了确保电力系统的稳定运行，氧化锌避雷器发挥着重要的作用。 氧化锌避雷器是一种用于电力系统的过电压保护设备。它采用高性能的氧化锌电阻片，能够在雷电或操作过电压等情况下，迅速
2023-12-14 10:26:59177 薄膜沉积技术主要分为CVD和PVD两个方向。 PVD主要用来沉积金属及金属化合物薄膜,分为蒸镀和溅射两大类，目前的主流工艺为溅射。CVD主要用于介质/半导体薄膜，广泛用于层间介质层、栅氧化层、钝化层等工艺。
2023-12-05 10:25:18994 常重要的技术之一，其次由于具有溅射速率高，沉积速率高，沉积温度低，薄膜质量好的等优点，越来越受到有关方面的关注。 磁控溅射原理 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电
2023-12-04 11:17:41243 
在现代工业和科技应用中，压力变送器是不可或缺的关键元件之一。而在特定环境下，如受到高强度震动冲击、高温高压等极端条件的影响时，溅射薄膜压力变送器就显得尤为重要。溅射薄膜技术是一种先进的制造工艺，它为
2023-11-22 17:40:41532 
众所周知，材料的宏观性质，例如硬度、热和电传输以及光学描述符与其微观结构特征相关联。通过改变加工参数，可以改变微结构，从而能够控制这些性质。在薄膜沉积的情况下，微结构特征，例如颗粒尺寸和它们的颗粒
2023-11-22 10:20:59213 
氧化锌的灵敏度、成本效益、环境兼容性、稳定性和集成能力，使其成为监测并降低二氧化碳排放的高效气体传感系统不可或缺的材料。
2023-11-21 12:31:43265 
在当今的高压电力系统中，氧化锌避雷器扮演着至关重要的角色。它的实用性在于能够有效地保护电力设备免受雷电过电压和操作过电压的损害，从而确保了电力系统的稳定运行。 氧化锌避雷器是一种特殊的避雷器，它采用
2023-11-16 15:59:36167 
上海伯东美国 KRi 高能量射频离子源 RFICP 220 应用于光学镀膜机, 增强光学基片反射及透射率, 助力光学薄膜技术发展.
2023-11-14 12:57:22305 钒敏感材料采用微测辐射热计技术与CMOS工艺兼容，能够与CMOS读出电路集成，可以基于半导体制造工艺大规模生产制造，属于半导体热敏薄膜，薄膜电阻温度系数与电阻率都成正
2023-11-03 16:54:37280 
在电力系统中，氧化锌避雷器是一种重要的保护设备，用于防止雷电和电力系统过电压对设备造成的损害。然而，如果氧化锌避雷器被击穿，它还能继续使用吗？首先，我们要了解什么是氧化锌避雷器。氧化锌避雷器是一种
2023-11-01 16:51:44373 复合铜箔是指在塑料薄膜 PET、PP、PI 等材质表面上采用磁控溅射、蒸镀、离子置换等方式，将铜均匀地镀在塑料薄膜表面从而制作而成的一种新型材料。
2023-10-27 15:22:18430 
溅射是一种在晶圆表面形成金属薄膜的物理气相沉积(PVD)6工艺。如果晶圆上形成的金属薄膜低于倒片封装中的凸点，则被称为凸点下金属层(UBM，Under Bump Metallurgy)。通常
2023-10-20 09:42:212737 
在异质结太阳能电池的结构中，ITO薄膜对其性能的影响是非常重要且直接的，ITO薄膜自身的优劣与制备ITO薄膜过程的顺利往往能直接决定异质结太阳能电池的后期生产过程以及实际应用是否科学有效
2023-10-16 18:28:09700 电子发烧友网站提供《基于ARM的扩散氧化控制系统的设计.pdf》资料免费下载
2023-10-12 11:20:41
0 规模化制备具有高强度和优异导电性的自支撑薄膜电极对于超级电容器等柔性电子产品的发展至关重要。受植物叶片的启发，华南理工大学王小慧教授团队将“叶肉状”MXene (Ti3C2TX) 纳米片、“叶脉状”纤维素细丝和银纳米线 (Ag NW) 进行快速真空抽滤得到自支撑复合薄膜。
2023-10-08 10:28:19285 
薄膜和多层中的应力会降低性能，甚至导致技术应用中的故障，通过诸如破裂、弯曲或分层的机制。然而，在某些情况下，应力是理想的，因为它可以用来提高涂层的特定性能，例如导电性，热稳定性，机械强度或磁性。由于这个原因，评估和控制薄膜和涂层的应力状态具有技术重要性。
2023-09-28 10:04:13196 
PECVD作为太阳能电池生产中的一种工艺，对其性能的提升起着关键的作用。PECVD可以将氮化硅薄膜沉积在太阳能电池片的表面，从而有效提高太阳能电池的光电转换率。但为了清晰客观的检测沉积后太阳能电池
2023-09-27 08:35:491772 一氧化碳检测仪是一种用于公共场所具有检测及超限报警功能的仪器，能起到预防一氧化碳中毒的效果，使人们安全放心的工作。系统以单片机为核心，利用一氧化碳检测传感器检测环境中的一氧化碳的浓度，并利用显示器显示当前的浓度值，同时可设定报警值，超过设定值时进行声光报警。
2023-09-25 06:39:48
随着消费者和商业应用对快速通信需求的不断增长，射频器件的工作频率要求也变得越来越高，这给射频器件的设计师们带来了诸多挑战
2023-09-18 16:53:39619 
工业上制备传统塑料薄膜的主要方法有挤出吹塑法、挤出流延法（含双向拉伸）、压延法、溶液流延法等。其中高性能塑料薄膜的制备方法主要有挤出吹塑法、挤出流延法、溶液流延法等，前两种方法是工业化大规模生产的首选方法，而溶液流延法因受环境保护等的限制，目前主要是实验室研究制样用。
2023-09-13 15:36:09767 
作为各类薄膜工业化制备的关键材料，溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域。但由于各应用领域对溅射靶材的制备技术、产品性能等要求各异，这就意味着能够满足
2023-08-25 10:56:34173 性能。在射频应用中，多层陶瓷电感可支持更高额定电流和更大电感值。
应用：
音频/视频：音频设备、音响功放、音响/扬声器、监视器
汽车：电子节气门控制系统（ETC）、胎压监测系统
消费
2023-08-22 09:29:59
氧化镓（Ga2O3）半导体具有4.85 eV的超宽带隙、高的击穿场强、可低成本制作大尺寸衬底等突出优点。
2023-08-17 14:24:16412 
高性能溅射靶材行业技术壁垒较高，涉及电子光学、工程学、材料学、物理学、化学等多门专业学科，融合了微观结构控制、靶材结构设计、金属粉末制备、高精度成型、机加工、绑定焊接、清洗包装等多个专业技术
2023-08-17 09:12:44158 近年来，广东欧莱高新材料股份有限公司（下称：欧莱新材）等国内溅射靶材厂商在下游产业快速发展的带动下逐渐发展壮大，通过持续自主研究开发突破关键技术，不断加大力度开拓各下游应用领域的知名客户，在部分
2023-08-16 10:24:31184 K 系列压敏电阻器氧化锌压敏电阻器是以氧化锌为主要材料制造的半导体无极性电子陶瓷元件。当施加在压敏电 阻器两端的电压达到某一阀值时，压敏电阻器的电阻值迅猛变小，从而在电子（电力）线路
2023-08-12 16:12:23
石墨烯作为一种特殊的二维材料，具有高导电性、 高比表面积以及优异的化学和机械稳定性，金属氧化物纳米颗粒与石墨烯结合制备获得的复合催化剂材料，可增强催化剂体系的导电性、分散性、ORR活性以及稳定性
2023-08-11 10:45:39364 在电力系统中，保护设备免受雷电冲击和过电压的影响至关重要。氧化锌避雷器作为一种先进的过电压保护设备，经历了漫长的发展过程，并在不断地进步和完善。 氧化锌避雷器的发展可以追溯到19世纪末期，当时
2023-08-09 14:27:41301 一、产品简介避雷器在线检测仪用于氧化锌[MOA]泄漏电流的测量分析。主要是用于测量阻性电流，3～7次谐波电流，从而分析氧化锌老化和受潮的程度。是检测氧化锌避雷器运行中的各项交流电气参数
2023-08-09 10:49:13
一、产品简介HM6020氧化锌避雷器测试仪是专门用于检测10kV及以下电力系统用无间隙氧化锌避雷器MOA阀电间接触不良的内部缺陷，测量MOA的直流参考电压（U1mA）和0.75 U1mA
2023-08-08 11:01:16
氧化锌避雷器是一种用于保护电气设备免受电压过载损害的装置。其工作原理是基于氧化锌的电阻特性，在高压下阻值迅速增加，从而限制电流，使电气设备免受过度电压的损害。以下将详细介绍氧化锌避雷器的用途
2023-08-07 15:43:24723 一、产品简介HM6010氧化锌避雷器测试仪以先进的微型计算机为控制部件，全智能操作，具有抗干扰能力强，测量准确可靠,功能强大,操作方便等优点，是现场和实验室检测氧化锌避雷器各项交流电
2023-08-07 11:25:59
氮化铝（AlN）具有优良的物理化学特性以及与标准CMOS晶硅技术的兼容性，且在多方面性能上优于氧化锌（ZnO）和锆钛酸铅（PZT），因此成为最受关注的压电材料之一。
2023-07-28 11:33:32587 
由遇水膨胀的交联聚合物网络组成的超薄水凝胶薄膜，具有类似生物组织的柔软和保湿特性，在柔性生物传感器和可穿戴电子产品中发挥着至关重要的作用。然而，实现这种薄膜的高效和连续制备仍然是一个挑战。
2023-07-24 18:23:462109 
柔性光电膜是⼀种由透明导电材料和聚合物基材组成的薄膜。其中，透明导电材料可以是ITO、ZnO、Ag等，聚合物基材可以是PET、PI等⾼分⼦材料。柔性光电膜的制备过程是通过物理⽓相沉积、溶液法、热转印
2023-07-17 15:29:02503 氧化铝是一种化学化合物，由铝和氧元素组成，化学式为Al2O3。它是一种非导电的陶瓷材料，具有高熔点、高硬度和优异的耐腐蚀性。氧化铝广泛应用于陶瓷制品、磨料、催化剂、绝缘材料等领域。在工业上，氧化铝常用于制备金属铝的原料。
2023-07-05 16:30:154542 ）上。 高质量固态纳米孔的制备是DNA测序、纳流器件以及纳滤膜等应用的关键技术。当前，在无机薄膜材料中制备固态纳米孔的主流方法是聚焦离子/电子束刻蚀。该方法在制备过程中需实时反馈，更适合于单个纳米孔的制备。因此，探索孔径可调、孔密度可控和无
2023-07-04 11:10:56364 
高质量固态纳米孔的制备是DNA测序、纳流器件以及纳滤膜等应用的关键技术。当前，在无机薄膜材料中制备固态纳米孔的主流方法是聚焦离子/电子束刻蚀。
2023-07-04 11:08:08137 
的发明历史 自发现电性质以来，人们一直在探索和研发导电材料。20世纪50年代，美国贝尔实验室的研究人员发现了导电聚合物薄膜，并于1977年获得了专利。随着科技的进步，导电聚合物薄膜逐渐被替代，金属氧化物薄膜逐渐成为主流。目前，
2023-06-30 15:38:36958 近日，复合集流体设备厂商——无锡光润真空科技有限公司（下称“光润真空”）完成天使轮融资，本轮融资由无锡市天使基金独家完成。本轮融资资金将主要用于推进复合集流体专用磁控溅射镀膜设备的研发生产，加速
2023-06-30 15:28:12525 电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。
2023-06-27 10:08:555835 
DPC（磁控溅射）陶瓷基板是一种重要的电子材料，主要应用于微电子器件、集成电路、LED等领域。铜面处理是提高DPC（磁控溅射）陶瓷基板性能的重要手段。本文将从铜面处理方法和处理后的性能影响两个方面探讨DPC（磁控溅射）陶瓷基板的铜面处理及其对性能的影响。
2023-06-25 14:35:51472 
近年来，薄膜陶瓷基板在电子器件中的应用逐渐增多。在制备和应用过程中，介电常数是一个极其重要的参数，不同介电常数的薄膜陶瓷基板在性能方面存在较大差异。本文旨在研究介电常数对薄膜陶瓷基板性能的影响，为薄膜陶瓷基板的制备和应用提供理论依据和实验数据。
2023-06-21 15:13:35623 
高温下DPC（磁控溅射工艺）覆铜陶瓷基板的设计和应用
2023-06-19 17:35:30654 
陶瓷线路板（ceramic circuit boards，CCBs）是一种由陶瓷材料制成的电路板，因其高耐热、耐湿、耐化学腐蚀等特性而广泛应用于军工、航空航天、医疗器械等领域。在制造陶瓷线路板时，磁控溅射工艺是一种重要的制造技术。
2023-06-17 14:41:04601 
上海微系统所异质集成XOI课题组孵化的上海新硅聚合半导体有限公司（简称：新硅聚合）近期实现了6英寸的光学级硅基高均匀性铌酸锂薄膜（LNOI）的工程化制备。
2023-06-09 09:43:15949 
离子束辅助沉积 (IBAD) 是一种薄膜沉积技术，可与溅射或热蒸发工艺一起使用，以获得具有出色工艺控制和精度的最高质量薄膜。
2023-06-08 11:10:22983 
工艺区别传统方法，以磁控溅射新技术在完成金属化制作的陶瓷线路板上生长一层陶瓷介质，再在这层介质上重新金属化制作第二层线路。
2、陶瓷基板性能和应用不同。 陶瓷基板的导热率远远超过普通PCB板，氧化铝陶瓷
2023-06-06 14:41:30
薄膜电容是指将金属膜或半导体薄膜沉积在绝缘基板上，然后制成电容器。这种电容器具有结构简单、体积小、重量轻、可靠性高等特点，被广泛应用于电子设备领域。本文将从薄膜电容的基本原理、制备工艺、应用领域等方面进行介绍。
2023-05-31 14:24:552881 据麦姆斯咨询报道，近期，天津理工大学的研究人员采用电子辅助热丝化学气相沉积技术制备了垂直石墨烯（VG），并且通过B原子和N原子的单独及同步掺杂，制备了B掺杂垂直石墨烯（BVG）、N掺杂垂直石墨烯（NVG）以及B-N共掺杂垂直石墨烯（BNVG）薄膜
2023-05-29 14:13:02467 
薄膜电容是以金属箔当电极，将其和聚乙酯，聚丙烯，聚苯乙烯或聚碳酸酯等塑料薄膜，从两端重叠后，卷绕成圆筒状构造的电容器。电解电容是以金属箔为正极(铝或钽)，与正极紧贴金属的氧化膜(氧化铝或五氧化
2023-05-26 17:03:234717 
PVD篇 PVD是通过溅射或蒸发靶材材料来产生金属蒸汽，然后将金属蒸汽冷凝在晶圆表面上的过程。应用材料公司在 PVD 技术开发方面拥有 25 年以上的丰富经验，是这一领域无可争议的市场领导者
2023-05-26 16:36:511749 上海伯东客户某高校使用国产品牌离子束溅射镀膜机用于金属薄膜制备, 工艺過程中, 国产离子源钨丝仅使用 18个小时就会烧断, 必须中断镀膜工艺更换钨丝, 无法满足长时间离子束溅射镀膜的工艺要求, 导致
2023-05-25 15:53:36770 
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积 和 IBD 离子束沉积是其典型的应用.
2023-05-25 10:18:34501 
上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预清洁 Pre-clean 的工艺, 对基材表面有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等！
2023-05-25 10:10:31378 
以金刚石、氧化镓、氮化铝、氮化硼、石墨烯等为代表的超宽禁带半导体材料具有更高的禁带宽度、热导率以及材料稳定性，有着显著的优势和巨大的发展潜力，越来越得到国内外的重视。
2023-05-24 10:44:29568 
覆铜陶瓷基板（Direct Plating Copper, DPC）工艺：是一种用于制备高密度电子封装材料的工艺方法。 该工艺是微电子制造中进行金属膜沉积的主要方法，主要用蒸发、磁控溅射等面沉积
2023-05-23 16:53:511333 
氧化锌挥发窑是化工行业中广泛应用的生产设备,作为一种高温下运行的大型设备,保证设备安稳定全运行、节能减排十分重要。 通过传感器与工业物联网的结合，物通博联推出一套氧化锌挥发窑在线监测系统，可以连接
2023-05-22 10:40:28227 
改善之后的工艺与之前最大的区别在于使用光刻胶充当溅射的掩膜，在电镀之前将电路图形高精度的制备出来，不再进行湿法刻蚀，避免了侧腐蚀对线条精度和膜基结合力的影响，同时，基板只浸入丙酮中一次以去除光刻胶，避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218 
MOV（Metal Oxide Varistors）即金属氧化物压敏电阻，以氧化锌为主体，掺杂多种金 属氧化物，采用典型的电子陶瓷工艺制成的多晶半导体陶瓷元器件。
2023-05-15 12:25:543236 
薄膜陶瓷基板一般采用磁控溅射、真空蒸镀等工艺直接在陶瓷基片表面沉积金属层。通过光刻、显影、刻蚀、电镀等工艺，将金属层图形化制备成特定的线路及膜层厚度。通常，薄膜陶瓷基板表面金属层厚度较小 (一般小于 4μm)。薄膜陶瓷基板可制备高精密图形 (线宽/线距小于 10 μm、精度±1μm）。
2023-05-15 10:18:56591 α-氧化铝（下称氧化铝）导热粉体因来源广，成本低，在聚合物基体中填充量大，具有较高性价比，是制备导热硅胶垫片最常用的导热粉体。氧化铝形貌有球形、角型、类球形等，不同形貌对热界面材料的加工性能、应用性
2023-05-12 14:57:30385 DPC（DirectPlatingCopper）薄膜工艺是一种利用磁控溅射技术制备铜薄膜的方法。该工艺是将目标材料为铜的铜靶放置在真空腔室中，通过磁控溅射技术使得铜靶表面产生等离子体，利用等离子体中的离子轰击靶表面，将其溅射成细小颗粒并沉积在基底上形成铜薄膜的过程。
2023-05-11 17:38:18843 在POM板上磁控溅射下电极，再用旋涂法把PVDF油墨旋涂到下电极上，再在压电层上磁控溅射上上电极形成三明治结构，但是上下电极都是短路状态，造成短路的可能原因是什么？压电层厚度约为2nm，电极厚度约为30um。
2023-04-28 18:21:06
的一部分，不依赖化石燃料的能源成为此次会议的主要话题。此外，人们对太阳能电池也有很高期待。引起特别关注的钙钛矿太阳能电池(PSC)在市场上需求特别高，成为新一代太阳能电池。钙钛矿是电池中非常精细的有机层组成的结构，而使用干燥溅射法的传统技术在沉积时会损坏透明导电氧化物(TCO)薄膜，导致有机层降解
2023-04-25 05:50:25414 薄膜按键都是“按键+薄膜”的基本结构，所以，按键的手感、特色等很大方面都取决于薄膜按键的设计。考虑到开关触点的分离和回弹的可靠性，薄膜的厚度一般选择在为佳,过薄回弹无力，触点分离不灵敏。薄膜按键
2023-04-21 11:02:191389 
氧化铝陶瓷基片作为一种基板材料广泛应用于射频微波电子行业，其介电常数高可使电路小型化，其热稳定性好温漂小，基片强度及化学稳定性高，性能优于其他大部分氧化物材料，可应用于各类厚膜电路、薄膜电路、混合电路、微波组件模块等。
2023-04-19 16:14:48602 有人曾这样形容磁控溅射技术——就像往平静的湖水里投入了石子溅起水花。磁控溅射真空镀膜技术是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition）的一种，其原理是：用带电粒子加速轰击靶材表面，发生表面原子碰撞并产生能量和动量的转移，使靶材原子从表面逸出并沉积在衬底材料上的过程。
2023-04-18 10:30:071765 薄膜开关的三大特点，希望大家通过本文的介绍，可以对薄膜开关的工作有一定的认识与了解：（1）密封性能好：因为薄膜开关是一种整体都密封起来的零件，开关的触点不受外界环境的干扰，所以不用担心腐蚀的问题，也不容易产生氧化;同时还可以防灰尘的污染，可以应用在各种恶劣的环境中....
2023-04-14 16:53:33606 
该平台拥有超净间面积约300平方米，其中百级洁净区50平米，配备了可完整涵盖微加工需求的大、中、小型设备，包括电子束曝光机、扫描电镜、磁控溅射仪、等离子刻蚀机、快速退火炉、精密贴片机、匀胶机、离子溅射仪、膜厚计、原子力显微镜、任意波形发生器、高速采样示波器、信号分析仪、网络分析仪等。
2023-04-10 11:24:06712 浙江大学高超课题组以氧化石墨烯(GO，28 μm，杭州高稀科技)/聚丙烯腈(PAN)薄膜为前驱体，利用基底替换和协同石墨化策略，制备了大尺寸和紧密堆叠的组装石墨烯纳米膜(nMAG，横向尺寸20 cm，厚度范围50-600 nm)。
2023-04-10 10:20:43833 氧化锌压敏电阻以氧化锌（ZnO）为基料，加入Bi2O3、Co2O3、MnCO3等多种金属氧化物混合，经过高温烧结、焊接、包封等多重工序制成的电阻器
2023-03-30 10:26:261973 经常定制薄膜开关和薄膜面板时候，对其步骤却不甚了解，对此，雨菲跟大家分享薄膜开关和薄膜面板定制的步骤。
2023-03-29 17:02:451701 
薄膜电阻应用于光通讯、 射频微波毫米波通讯，如放大、耦合、衰减、滤波等模块电路。电阻网络应用于微波集成电路中，能够缩小电路板空间，降低元器件成本。薄膜衰减器应用于光通讯、微波集成电路模块，其
2023-03-28 14:19:17
沟道表面的氧化钇薄膜由电子束蒸发镀膜仪所蒸镀的金属钇加热氧化形成，随后在沟道表面蒸镀金纳米薄膜，金纳米薄膜会自团聚形成金颗粒，自此完成浮栅型碳纳米管场效应晶体管（FG-CNT-FET）的制备以及表面的金纳米颗粒修饰。
2023-03-23 11:04:101455
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