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电子发烧友网>今日头条>《炬丰科技-半导体工艺》金属氧化物半导体的制造

《炬丰科技-半导体工艺》金属氧化物半导体的制造

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2023-05-15 14:50:164221

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早期的硅基集成电路工艺以 **双极型工艺为主** ,不久之后,则以更易大规模集成的 **平面金属氧化物半导体(MOS)工艺为主流** 。MOSFET由于具有高输入阻抗、较低的静态功耗等优异性能,以及
2023-05-06 10:38:414053

金属布线的工艺半导体注入生命的连接

经过氧化、光刻、刻蚀、沉积等工艺,晶圆表面会形成各种半导体元件。半导体制造商会让晶圆表面布满晶体管和电容(Capacitor);
2023-04-28 10:04:52532

半导体工艺金属布线工艺介绍

本篇要讲的金属布线工艺,与前面提到的光刻、刻蚀、沉积等独立的工艺不同。在半导体制程中,光刻、刻蚀等工艺,其实是为了金属布线才进行的。在金属布线过程中,会采用很多与之前的电子元器件层性质不同的配线材料(金属)。
2023-04-25 10:38:49986

试述为什么金属的电阻温度系数是正的而半导体的是负的?

试述为什么金属的电阻温度系数是正的而半导体的是负的?
2023-04-23 11:27:04

用于制造半导体晶体的脱气室和使用其的脱气工艺

本文涉及一种用于制造半导体元件的滴气室及利用其的滴气工艺;晶片内侧加载的腔室,安装在舱内侧,包括通过加热晶片激活晶片上残存杂质的加热手段、通过将晶片上激活的杂质吸入真空以使晶片上激活的杂质排出外部的真空吸入部、以及通过向通过加热手段加热的舱提供氢气以去除晶片上金属氧化膜的氢气供给部
2023-04-23 10:22:02337

《炬丰科技-半导体工艺》III-V的光子学特性

书籍:《炬丰科技-半导体工艺》 文章:III-V的光子学特性 编号:JFKJ-21-215 作者:炬丰科技 摘要      III-V型半导体纳米线已显示出巨大的潜力光学、光电和电子器件的构建
2023-04-19 10:03:0093

国内功率半导体需求将持续快速增长,欢迎广大客户通过华秋商城购买晶导微系列产品

技术及工艺的先进性,还较大程度上依赖进口,未来进口替代空间较大。从中长期看,国内功率半导体需求将持续快速增长。根据前瞻产业研究院预测,到2026年分立器件的市场需求将超过3,700亿元。近年来联网
2023-04-14 16:00:28

国内功率半导体需求将持续快速增长

技术及工艺的先进性,还较大程度上依赖进口,未来进口替代空间较大。从中长期看,国内功率半导体需求将持续快速增长。根据前瞻产业研究院预测,到2026年分立器件的市场需求将超过3,700亿元。近年来联网
2023-04-14 13:46:39

湿式半导体工艺中的案例研究

半导体行业的许多工艺步骤都会排放有害废气。对于使用非常活泼的气体的化学气相沉积或干法蚀刻,所谓的靠近源头的废气使用点处理是常见的做法。相比之下,对于湿法化学工艺,使用中央湿式洗涤器处理废气是一种公认
2023-04-06 09:26:48408

喜讯!华秋电子荣获深圳市半导体行业协会优秀合作奖

电商“华秋商城”、PCBA制造平台“华秋智造”等服务平台,全面打通产业上、中、下游,形成电子产业链闭环生态,给行业带来“高品质,短交期,高性价比”的一站式服务平台,为半导体行业创新与发展提供助力。
2023-04-03 15:28:32

半导体制造工艺中的UV-LED解决方案

针对半导体制造工艺的UV-LED光源需求,虹科提供高功率的紫外光源解决方案,可适配步进器和掩膜版设备,更换传统工具中的传统灯箱,实现高质量的半导体质量控制。
2023-03-29 10:35:41710

CD4013BM/TR

金属氧化物半导体 四路2输入与非门 施密特触发器
2023-03-24 14:03:17

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