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电子发烧友网>制造/封装>制造新闻>格芯交付性能领先的7纳米FinFET技术在即

格芯交付性能领先的7纳米FinFET技术在即

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放弃开发7纳米制程 台积电或将稳坐7纳米宝座

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闻资讯:不玩7纳米、三星再超英特尔、华为申请FTC召开听证会

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2019-04-24 16:23:214152

关于中14nm的性能分析和介绍

在昨日的财报说明会上,中国际联席首席执行官,赵海军博士和梁孟松博士说:“中国际在14纳米FinFET技术开发上获得重大进展。第一代FinFET技术研发已进入客户导入阶段。除了28纳米PolySiON和HKC,我们28纳米HKC+技术开发也已完成。
2019-08-30 16:07:447804

新开发出基于ARM架构的3D高密度测试芯片 成熟稳定性优于7纳米制程芯片

指出,新开发出基于ARM架构的3D高密度测试芯片,是采用的12纳米FinFET制程所制造,采用3D的ARM网状互连技术,允许资料更直接的传输到其他内核,极大化的降低延迟性。而这样的架构,这可以降低资料中心、边缘运算以及高端消费者应用程式的延迟,并且提升数据的传输速度。
2019-08-12 16:36:543247

宣布与SiFive展开合作 将合作研发12LP+FinFET解决方案

才与台积电进行专利诉讼官司和解,并签订10年交互授权协议的晶圆代工大厂(GLOBALFOUNDRIES)宣布,与IC设计厂SiFive正在合作研发将高频宽存储器(HBM2E)运用于最近宣布
2019-11-06 15:59:553626

国际取得海思14纳米FinFET工艺代工订单

据中国台湾消息报道,中国大陆芯片代工厂商中国际已经从竞争对手台积电手中,夺得华为旗下芯片企业海思半导体公司的14纳米FinFET工艺的芯片代工订单。
2020-01-14 15:31:433455

国际从台积电手中夺得海思14纳米FinFET工艺芯片代工订单

关注半导体产业的台湾《电子时报》(DigiTimes)1 月 13 日报道称,中国大陆芯片代工厂商中国际击败台积电,夺得华为旗下芯片企业海思半导体公司的 14 纳米 FinFET 工艺芯片代工订单。
2020-01-16 09:00:016363

3nm相较于7nm FinFET功耗减半性能增加30%

三星日前简要介绍了GAAFET中核心技术MCBFET(多桥沟道场效应晶体管),基于它打造的3nm芯片,相较于7nm FinFET,可以减少50%的能耗,增加30%的性能
2020-04-15 09:12:363882

台积电将继续采用FinFET晶体管技术,有信心保持良好水平

台积电3纳米将继续采取目前的FinFET晶体管技术,这意味着台积电确认了3纳米工艺并非FinFET技术的瓶颈,甚至还非常有自信能够在相同的FinFET技术下,在3纳米制程里取得水准以上的良率。这也代表着台积电的微缩技术远超过其他的芯片制造商。
2020-06-12 17:31:233682

FinFET解决方案12LP+完成技术认证,可助力芯片产品快速上市

7月3日消息,作为先进的特色工艺半导体代工厂,® (GF®) 近日宣布其先进的FinFET解决方案12LP+已完成技术认证,准备投入生产。12LP+是推出的差异化解决方案,针对人工智能(AI
2020-07-06 15:16:562563

2年后的在特色工艺领域状况如何?

宣布为支持公司战略调整,将搁置7纳米FinFET项目,并调整相应研发团队来支持强化的产品组合方案。一大部分顶尖技术人员将被部署到14/12纳米FinFET衍生产品和其他差异化产品的工作上。 简单地说:就是 ,哥以后不跟着台积电玩了,哥要走特色工艺去了。这个官宣
2020-12-02 14:16:273066

国际的第二代FinFET已进入小量试产

据科创板日报报道称,中国际的第二代FinFET已进入小量试产。 科创板中国际在互动平台表示,公司第一代FinFET14纳米已于2019年四季度量产;第二代FinFETN+1已进入客户导入阶段
2020-12-04 18:08:152429

国际称第二代FinFET已进入小量试产

国际在互动平台上回答投资者时表示,第二代FinFET 已进入小量试产。 在回答投资者 近来公司 7 纳米产品生产研发进展如何?的问题时,中国际表示,公司第一代 FinFET 14nm 已于
2020-12-07 11:23:373352

浅谈在硅光领域的发展成果

当我们聊到的时候,行业内的人都知道他们是在全球都名列前茅的晶圆代工厂。在产品线方面,他们不但拥有成熟的平面晶体管制造工艺,还拥有性能优越的FinFET工艺。此外,这些年来还在FD-SOI
2021-02-22 15:45:043114

与博世将合作开发和制造下一代汽车雷达技术

博世之所以选择作为下一代毫米波汽车雷达的合作伙伴,是因为在射频和毫米波特殊工艺半导体代工解决方案方面处于领先地位。22FDX射频解决方案具备出色的性能、功耗和广泛的功能集成能力,是汽车雷达的理想半导体解决方案。
2021-03-17 10:08:382563

天数智云端7纳米GPGPU芯片产品BI及产品卡正式发布,率先迈出批量生产和商用步伐

上海天数智半导体今日正式发布全自研高性能云端7纳米芯片BI及产品卡,实现国产高性能GPGPU历史上的突破。
2021-03-31 16:01:034270

先进FinFET工艺的多项流片巩固了世电子的业界领先地位

拥有一套经过自身验证的芯片设计流程和法则,是世成功的关键。它不仅能优化功耗、性能和面积的设计,同时还能符合客户严格的流片计划要求。世完整的7/6/5纳米设计能力包括大规模芯片设计里必要的分区和签核、测试设计流程
2022-04-14 14:39:401697

5纳米芯片和7纳米芯片的区别

5纳米芯片相比7纳米芯片的工艺技术要求更高、更好更低、性能更好。芯片工艺中5nm和7nm的两个数值,代表的是芯片晶体管导电沟道的长度。
2022-06-29 17:00:3930825

3纳米量产在即 如何实现2纳米芯片?

据悉,台积电在本次技术论坛上主要透露以下三点信息:一是半导体产业正发生三大改变;二是低端芯片短缺成为供应链瓶颈;三是3纳米量产在即,2纳米2025年量产。
2022-09-06 16:00:204177

行业首创!恩智浦携手台积电,推出汽车级16纳米FinFET嵌入式MRAM

的新一代S32区域处理器和通用汽车MCU首批样品       了解详情     全球领先汽车处理企业恩智浦半导体宣布与台积电合作交付行业首创的采用16纳米FinFET技术的汽车嵌入式MRAM(磁随机存储器)。在向软件定义汽车(SDV)的过渡中,汽车厂商需要在单个硬件平台上支持多代软件
2023-05-26 20:15:021289

数字后端基本概念介绍—FinFET Grid

今天要介绍的数字后端基本概念是FinFET Grid,它也是一种设计点。介绍该点前,我们首先来了解一下什么是FinFET技术
2023-07-12 17:31:452208

增强技术平台

半导体科技编译 新的解决方案支持提高电源性能和效率、安全性和连接性的需求。 在其年度技术峰会上,(Global Foundries)宣布了其两个技术平台的进展,将支持自动驾驶、互联和电动汽车
2023-09-06 17:38:59827

升级技术平台, 满足汽车行业需求

AutoPro™平台的一部分,该平台为的汽车客户提供广泛的技术解决方案和制造服务,最大限度地减少认证工作并加快上市时间。该技术的结温为175℃,适合在极端温度下管理车辆的关键功能。 博世公司汽车电子执行副总裁Jens Fabrowsky表示:“通过在AutoPro平台上利用这种40纳米
2023-12-25 14:49:04948

性能翻倍的新型纳米片晶体管

IBM 的概念纳米片晶体管在氮沸点下表现出近乎两倍的性能提升。这一成就预计将带来多项技术进步,并可能为纳米片晶体管取代 FinFET 铺平道路。更令人兴奋的是,它可能会导致更强大的芯片类别的开发。
2023-12-26 10:12:551206

强化AI市场布局,收购泰戈尔科技氮化镓技术团队

)的功率氮化镓(GaN)技术及其完整的知识产权组合。此次收购不仅标志着技术创新领域的又一里程碑,也预示着其在汽车、物联网及人工智能数据中心等前沿应用市场将实现更为显著的效率提升与性能飞跃。
2024-07-08 10:10:213349

收购 Tagore Technology 的 GaN 技术

来源:Silicon Semiconductor 此次技术收购扩展了 GF() 的电源管理解决方案和差异化路线图。 GlobalFoundries ()收购了 Tagore
2024-07-08 12:33:011271

Agile Analog扩展合作版图:携手提供定制模拟IP

上,全面提供可定制化的模拟IP解决方案。这一合作不仅巩固了Agile Analog在模拟IP设计领域的领先地位,也进一步拓宽了工艺技术的应用边界。
2024-07-27 14:41:321733

非晶纳米晶磁是什么材料

非晶纳米晶磁是一种具有特殊磁性特性的材料,广泛应用于电子和电力领域。这种材料的磁性能主要来源于其独特的微观结构,即非晶态和纳米晶态的结合。 1. 非晶纳米晶磁的基本概念 非晶纳米晶磁是一种由非
2024-10-09 09:10:282896

国际 7 纳米工艺突破:代工龙头的技术跃迁与拓能半导体的封装革命

流转。这家全球第三大晶圆代工厂,正以每月 3 万片的产能推进 7 纳米工艺客户验证,标志着中国大陆在先进制程领域的实质性突破。 技术突围的底层逻辑 中国际的 7 纳米工艺采用自主研发的 FinFET 架构,通过引入高介电常数金属栅极(HKMG)和极紫外光刻(EUV)预研技术,将晶体管密
2025-08-04 15:22:2110998

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