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光刻胶分类与市场结构

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光刻胶为何要谋求国产替代

南大光电最新消息显示,国产193nm(ArF)光刻胶研发成功,这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体;徐州博康宣布,该公司已开发出数十种高端光刻胶产品系列,包括
2022-08-31 09:47:141285

光刻胶的原理和正负光刻胶的主要组分是什么

光刻胶的组成:树脂(resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质(如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent
2022-10-21 16:40:0415831

国产光刻胶市场前景 国内厂商迎来发展良机

半导体光刻胶用光敏材料仍属于“卡脖子”产品,海外进口依赖较重,不同品质之间价 格差异大。以国内 PAG 对应的化学放大型光刻胶(主要是 KrF、ArF 光刻胶)来看,树脂在 光刻胶中的固含量
2022-11-18 10:07:432574

半导体光刻胶重要性凸出,国产替代加速推进

光刻胶是IC制造的核心耗材,技术壁垒极高。根据TECHCET数据,预计2022年全球半导体光刻胶市场规模达到23亿美元,同比增长7.5%,2025年超过25亿美元。
2023-03-21 14:00:492095

浅谈EUV光刻中的光刻胶和掩模等材料挑战

新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121165

光学光刻技术有哪些分类 光刻技术的原理

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上,通过光的照射,光刻胶的成分发生化学反应,从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关,而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271

光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11571

西陇科学9天8板,回应称“未生产、销售光刻胶

 20日,西陇科学(株)发布公告称,该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶,占公司营业收入的比例,是目前用于上述用途的光刻胶配套。
2023-11-21 14:54:57315

不仅需要***,更需要光刻胶

为了生产高纯度、高质量的光刻胶,需要高纯度的配方原料,例如光刻树脂,溶剂PGMEA…此外,生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如,2019年,某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染,导致上万片12吋晶圆报废
2023-11-27 17:15:48550

光刻胶国内市场及国产化率详解

KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
2023-11-29 10:28:50284

光刻胶价格上涨,韩国半导体公司压力增大

光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学及东进半导体等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36409

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质?

匀胶是光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数,那么我们在匀胶时,是如何确定匀胶速度呢?它影响光刻胶的哪些性质?
2023-12-15 09:35:56442

全球光刻胶市场预计收入下滑,2024年有望反弹

所谓的“光刻胶”,即是在紫外线、电子束等辐射下,其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素,广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。其品种繁多,此次涨价涉及的KrF 光刻胶则属高级别光刻胶,将成为各厂商关注的焦点。
2023-12-28 11:14:34381

2023年中国光刻胶行业市场前景及投资研究报告

光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,是半导体制造中使用的核心电子材料之一。伴随着晶圆制造规模持续提升,中国有望承接半导体
2024-01-19 08:31:24340

瑞红集成电路高端光刻胶总部落户吴中

据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
2024-01-26 09:18:43208

如何在芯片中减少光刻胶的使用量

光刻胶不能太厚或太薄,需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景,较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。
2024-03-04 10:49:16132

光刻胶光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18402

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶则保留下来,从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50200

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