，而光刻工艺又是精密电子元器件制造的关键流程，这使得光刻胶在整个电子元器件加工产业，都有着至关重要的地位。 本文简要介绍几种代表性光刻胶的成分和机理，重点是光刻胶的新技术应用，以及国产化机会。 光刻胶主要成分
2022-04-25 17:35:22
9350 
关键词：氧气、微气泡、光刻胶、高剂量离子注入、气水界面 介绍 微气泡是一种很有前途的环保光刻胶去除方法的候选方法。已经证明，臭氧微气泡可以去除硅片上的光刻剂，即使被高剂量的离子注入破坏
2022-01-10 11:37:131396 
光刻胶为何要谋求国产替代？中国国产光刻胶企业的市场发展机会和挑战如何？光刻胶企业发展要具备哪些核心竞争力？在南京半导体大会期间，徐州博康公司董事长傅志伟和研发总监潘新刚给我们带来前沿观点和独家分析。
2022-08-29 15:02:235918 
波长不同，可分为g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm），ArF（193nm）以及EUV光刻胶，其中KrF、ArF和EUV光刻胶被认为是高端光刻胶，目前国内几乎空白。 日本垄断全球光刻胶大部分市场份额，全球排名前四的光刻胶厂商都来自日本，包括合成橡胶
2021-07-03 07:47:0023642 ，增幅11.11%。 截图自企查查 光刻胶是芯片制造中光刻环节的重要材料，目前主要被日美把控，国内在光刻胶方面投入研制的厂商主要晶瑞股份、南大光电、上海新阳、徐州博康、北京科华等，那么华为投资的徐州博康在光刻胶方面有何优势，国内厂商在光
2021-08-12 07:49:005380 电子发烧友原创 章鹰 近日，全球半导体市场规模增长带动了上游半导体材料旺盛需求，“光刻胶”的突破也成为国内关注焦点。正当日本光刻胶企业JSR、东京应化和美国Lam Research在EUV光刻胶
2022-08-31 07:45:002718 介绍了高速高精度国产化DA转换器的实际应用
2016-11-28 23:28:43
介绍了国产化DA转换器的使用方法及实际应用举例
2016-11-28 23:22:46
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17:47
:1倍的在硅片上直接分步重复曝光系统。 光致抗蚀剂 简称光刻胶或抗蚀剂，指光照后能改变抗蚀能力的高分子化合物。光蚀剂分为两大类。①正性光致抗蚀剂：受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解。留下的非
2012-01-12 10:51:59
越好，NA越大越好，这样光刻机分辨率就越高，制程工艺越先进。） 最初的浸入式光刻就是很简单的在晶圆光刻胶上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波长折射成134nm，后来不断改进高NA镜片、多光照
2020-07-07 14:22:55
/㎝²条件下进行曝光。曝光结束后，选择合适的烘烤温度及时间。将晶片在显影液中浸渍显影，随后用氮气吹干。AZ光刻胶AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿法刻蚀工艺
2018-07-12 11:57:08
（电子科技大学 微电子与固体电子学院，成都 610054）摘 要：光刻胶技术是曝光技术中重要的组成部分,高性能的曝光工具需要有与之相配套的高性能的光刻胶才能真正获得高分辨率的加工能力。主要围绕光刻胶
2018-08-23 11:56:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被
2019-11-07 09:00:18
这是我的版图一部分，然后生成了图案是这样的： 感觉间距小的地方全都有残留，间距大的地方没有残留；工艺参数：s9920光刻胶， evg 620‘未进行蒸汽底漆层涂覆，前烘：100摄氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
我从国外买了2根飞利浦5000K全色谱荧光灯管，这种灯管专门用于对色灯箱，我把它当成室内照明进行使用，效果很好，看物体感觉很舒服，显色指数达到98，但我在国内市场上找不到这种性能的灯管，现在LED
2016-03-28 15:34:09
、 软硬件集成测试、功能安全技术等。目前，国内缺口最大的就是BMS相关核心芯片。然而，BMS芯片市场长期被TI、ADI、NXP等欧美企业垄断。不管是消费级、工业级还是车规级，90%多为进口，国产化率不高
2022-09-23 09:45:09
100μm并具有极高的分辨率。 NR5 系列 NR5-系列负性光刻胶，用于深度离子蚀刻（RIE）中的厚膜掩膜工艺。 PR1 系列 正性光刻胶，用于光刻，蚀刻和高温制程。 IC1/DC5 系列 作为
2010-04-21 10:57:46
环境湿度太大，使胶与玻璃表面粘附不良。因此，得注意做好玻璃表面清洁处理和操作的环境的温，湿度及清洁工作。2）光刻胶配制有误或胶陈旧不纯，胶的光化学反应性能不好，使胶与ITO层成健能力差，或者胶膜不均匀
2018-11-22 16:04:49
%的国产化，而高折射率国产封装胶也已经占据国内市场份额的60%左右。2016年，因为化工原材料价格的上涨和LED行业的趋稳回暖，LED封装胶价格在下半年开始止跌，市场规模开始逐渐提高，但是因为国内涉及
2018-09-27 12:03:58
SU 8光刻胶系列产品简介：新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题，十分适合于制备高深宽比微结构。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
高科技领域，大型设备备件仍然长期依赖进口，不仅价格昂贵，而且订货周期长，再加上国外备件更新速度快，国内企业无法跟上或买到，企业的生产经营将受到严重制约。由此可知引进设备备件必须走国产化之路，降低维修成本。那么
2014-04-28 14:40:53
lithography是一种平板印刷技术，在平面光波回路的制作中一直发挥着重要的作用。具体过程如下：首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在
2018-08-24 16:39:21
请问各位，谁知道这个芯片有什么国产化替代方案吗
2022-06-27 10:38:38
://www.wetsemi.com/index.html 关键词：光刻胶附着力，砷化镓，湿蚀刻，表面处理，轮廓 概要报告了几个旨在修复 InGaP/GaAs NPN HBT 喷雾湿法化学蚀刻期间光刻胶粘附失效
2021-07-06 09:39:22
项目名称：仪器国产化替代试用计划：我们的仪器现在购买国外的器件交期越来越长，国产替代迫在眉睫。需要替换的器件有AD DA 运放FPGA
2020-07-16 10:27:27
`在今年4月份，Firefly推出了基于RK3399的全国产化核心板后，引起了业界的广泛关注。为了更好地推进国内科技产业的发展，Firefly继续深入开发稳定的国产化平台，形成了国产化系列。目前已在
2021-06-15 10:21:22
。正性光刻胶在半导体制造中使用得最多，因其可以达到更高的分辨率，从而让它成为光刻阶段更好的选择。现在世界上有不少公司生产用于半导体制造的光刻胶。 光刻光刻在芯片制造过程中至关重要，因为它决定了芯片上的晶体管
2022-04-08 15:12:41
光刻技术中,涂有光刻胶的硅片与掩膜版直接接触.由于光刻胶和掩膜版之间紧密接触,因此可以得到比较高的分辨率.接触式暴光的主要问题是容易损伤掩膜版和光刻胶.当掩膜版与硅片接触和对准时,硅片上很小的灰尘
2012-01-12 10:56:23
我从国外买了2根飞利浦5000K全色谱荧光灯管，这种灯管专门用于对色灯箱，我把它当成室内照明进行使用，效果很好，看物体感觉很舒服，显色指数达到98，但我在国内市场上找不到这种性能的灯管，现在LED
2016-03-24 14:22:15
封装测试所有环节的纯国产化和自主化，并已成功量产，标志着国内SLCNANDFlash产品正式迈入24nm先进制程工艺时代。该创新技术产品有助于进一步丰富兆易创新的存储类产品线，为客户提供更优化的大容量代码存储解决方案。
2020-11-26 06:29:11
兆易创新推出全国产化24nm SPI NAND Flash
2021-01-07 06:34:47
了满足客户对国产化的需求，飞凌也做了很大的努力。二、飞凌在国产化道路上做的努力1、积极引入国产化平台，与国产芯片企业共同成长在国产化大潮涌动的嵌入式市场中，飞凌嵌入式积极主动地和各个国产芯片厂家合作，引入
2022-09-16 14:32:37
半导体材料市场构成：在半导体材料市场构成方面，大硅片占比最大，占比为32.9%。其次为气体，占比为14.1%，光掩膜排名第三，占比 为12.6%，其后：分别为抛光液和抛光垫、光刻胶配套试剂、光刻胶、湿化学品、建设靶材，比分别为7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
压力变感器，尤其是差压变送器在我国石化行业大量使用。变送器来源的绝大多数依靠进口，不仅价格昂贵，而且，由于不具有自主知识产权，很有可能暗藏潜在威胁。能源安全关乎国家安全，因此传感器国产化迫在眉睫。
2019-10-08 06:50:15
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00:57
５０ ｓ。用金相显微镜测试了在优化工艺参数条件下制作的光刻胶图形的分辨率，同时对图形反转机理进行了讨论。关键词：光刻；ＡＺ?５２１４；剥离工艺；图形反转；断面模拟
2009-10-06 10:05:30
国产FPGA正在面临挑战如何选择国产化替代FPGA产品
2021-03-02 06:30:14
怎样去学习FMG0国产化复旦微开发板呢？
2021-10-27 06:28:28
的解决，工业自动化系统市场在近若干年仍将由外国产品占主要地位。据了解，世界工业500强中的工业自动化跨国公司都已进入国内市场，在提供产品、技术、服务给国内用户的过程中，占据了很大的市场份额。
2021-07-01 10:58:19
本人是菜鸟 需要在玻璃上光刻普通的差值电极 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻胶是AZ5214E 正胶 同样的工艺和参数在玻璃上附着力差了很多 恳请哪位高人指点一下PS 插值电极的距离为25微米 小女子这厢谢过了
2010-12-02 20:40:41
涂敷光刻胶 光刻制造过程中，往往需采用20-30道光刻工序，现在技术主要采有紫外线(包括远紫外线)为光源的光刻技术。光刻工序包括翻版图形掩膜制造，硅基片表面光刻胶的涂敷、预烘、曝光、显影、后烘、腐蚀
2019-08-16 11:11:34
本帖最后由 Tronlong创龙科技 于 2023-6-15 16:57 编辑
创龙科技RK3568J核心板获得“100%国产化”认证
日前，创龙科技“国产化率100%认证”的核心板再添一员
2023-06-15 16:56:01
151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52
、恩智浦、英飞凌、德州仪器、微芯科技、意法半导体等国际大厂，市场占有率合计超95%，国内市场同样如此，国产化率不足5%。与商规、工规相比，车规级MCU的要求极为严苛，寿命要达到15年以上，且要支持-40
2023-02-03 13:49:45
本帖最后由 火调王工 于 2015-1-23 11:56 编辑
BOM见图，手边一个芯片国产化项目，其中我努力找了部分，但是关键的电源部分还是没有找到特别合适的替换途径，我记得有那么一个专门
2015-01-04 13:51:20
◆ 全国产化设计，2盘位组Raid 0，对外提供多路的高速数据接口；◆ 采用丰科NVME存储架构，可通过千兆/万兆网口提供FTP或网盘访问功能；◆ 具有全国产、低功耗、小尺寸，提供标准eXFAT文件系统的特性，可广泛应用相关领域的数据采集记录存储及数据管理；
2022-08-24 10:33:55
PMT-2离线光刻胶微粒子计数器是一款新型液体颗粒监测仪器。采用激光光散或光阻原理的颗粒检测传感器，可以对超纯水、自来水、饮用水、去离子水、矿泉水、蒸馏水、无机化学品、有机化学品、有机溶剂、清洗剂
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在线光刻胶液体粒子计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水
2023-01-03 15:54:49
光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 这是一种老式的旋转涂胶机，将芯片上涂上光刻胶然后将芯片放到上边，可以通过机器的旋转的力度将光刻胶均匀分布到芯片表面，光刻胶只有均匀涂抹在芯片表面，才能保证光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498 默克与中电彩虹的创新合作项目光刻胶国产化项目于 7 月 17 日在陕西咸阳正式竣工。
2018-07-19 09:09:387064 在国家政策与市场的双重驱动下，近年来，国内企业逐步向面板、半导体光刻胶发力……
2019-04-23 16:15:3612831 
从经开区企业北京欣奕华科技有限公司（以下简称“欣奕华”）了解到，经过多年的行业累积和技术迭代，欣奕华在平板显示用负性光刻胶领域实现了量产，预计今年将有1000吨的光刻胶交付用户，约占国内市场的8%。
2019-10-28 16:38:493761 随着电子信息产业发展的突飞猛进，光刻胶市场总需求不断提升。2019年全球光刻胶市场规模预计接近90亿美元，自2010年至今CAGR约5.4%，预计未来3年仍以年均5%的速度增长，预计至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。
2020-03-01 19:02:484098 在国际半导体领域，我国虽已成为半导体生产大国，但整个半导体产业链仍比较落后。特别是由于国内光刻胶厂布局较晚，半导体光刻胶技术相较于海外先进技术差距较大，国产化不足5%。在这种条件下，国内半导体厂商积极开展研究，如晶瑞股份的KrF光刻胶，南大光电的ArF光刻胶均取得较好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165 与ASML一台售价媲美一架F35 战斗机，达到1亿以上欧元的NXE3400B EVU设备比较起来，全球市场规模只有90亿美元的光刻胶就要不显眼许多。
2020-03-29 17:04:003758 光刻胶按应用领域分类，大致分为LCD光刻胶、PCB光刻胶（感光油墨）与半导体光刻胶等。按照下游应用来看，目前LCD光刻胶占比26．6%，刻胶占比24．5%，半导体光刻胶占比24．1%，PCB光其他类光刻胶占比24．8%。
2020-06-12 17:13:395380 等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。 据第三方机构智研咨询统计，2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元，
2020-09-15 14:00:1416535 全球光刻胶市场规模从2016 年的15 亿美元增长至2019年的18亿美元，年复合增长率达6.3%；应用方面，光刻胶主要应用在PCB、半导体及LCD显示等领域，各占约25%市场份额。
2020-09-21 11:28:043290 
开发行股票计划募集资金总额不超过人民币 120,000.00万元，扣除发行费用后的募集资金净额拟投入以下项目。其中，有8.5亿元将会投入到新一代电子信息材料国产化项目-光刻胶及光刻胶配套试剂研发当中。 雅克科技于2010年在深交所中小企业板上市，主
2020-09-24 10:32:014540 
全球光刻胶市场规模从2016 年的15 亿美元增长至2019年的18亿美元，年复合增长率达6.3%；应用方面，光刻胶主要应用在PCB、半导体及LCD显示等领域，各占约25%市场份额。 国内光刻胶整体
2020-10-10 17:40:252957 光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的、对光敏感的混合液体。利用光化学反应，经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，其中曝光是通过紫外光
2022-12-06 14:53:541238 称，“ArF 光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02 专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志着“ArF 光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产 ArF 光刻胶。 此举意味着国产193nm ArF 光刻胶产
2020-12-25 18:24:096227 近期，专注于电子材料市场研究的TECHCET发布最新统计和预测数据：2021年，半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11％，达到19亿美元。
2021-03-22 10:51:125081 ，但关键在于能造是一回事，能用是另一回事，这其实也是半导体材料产业的核心问题所在。 01纯度 无论是氟化氢、聚酰亚胺、光刻胶还是硅片，纯度是其最核心的标准之一。比如对于光刻胶来说，目前国外的光刻胶阻抗可以做到10^15，国内基本上
2021-05-11 13:46:382922 
由于KrF光刻胶产能受限以及全球晶圆厂积极扩产等，占据全球光刻胶市场份额超两成的日本供应商信越化学已经向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货KrF光刻胶，且已通知更小规模晶圆厂停止供货KrF光刻胶
2021-06-25 16:12:28784 大涨9.72%，雅克科技大涨9.93%，强力新材、上海新阳、彤程新材等跟涨。 光刻胶板块的大涨吸引了产业注意 ，国产光刻胶再遇发展良机？ KrF光刻胶海外供应告急 据了解，光刻胶板块本轮异动的背后，是KrF光刻胶海外供应告急。自日本福岛2月份发生强震后，光刻胶市场一度传
2021-05-28 10:34:152623 光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281 本文提出了一种新型的双层光阻剂方法来减少负光阻剂浮渣。选择正光刻胶作为底层抗蚀剂，选择负光刻胶作为顶层抗蚀胶。研究了底层抗蚀剂的粘度和厚度对浮渣平均数量的影响。实验表明，低粘度正光刻胶AZ703
2022-03-24 16:04:23756 
灰化，简单的理解就是用氧气把光刻胶燃烧掉，光刻胶的基本成分是碳氢有机物，在射频或微波作用下，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通过泵被真空抽走，完成光刻胶的去除。
2022-07-21 11:20:174871 光刻胶产品说明英文版资料分享。
2022-08-12 16:17:252 南大光电最新消息显示，国产193nm（ArF）光刻胶研发成功，这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体；徐州博康宣布，该公司已开发出数十种高端光刻胶产品系列，包括
2022-08-31 09:47:141285 光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 半导体光刻胶用光敏材料仍属于“卡脖子”产品，海外进口依赖较重，不同品质之间价 格差异大。以国内 PAG 对应的化学放大型光刻胶（主要是 KrF、ArF 光刻胶）来看，树脂在 光刻胶中的固含量
2022-11-18 10:07:432574 光刻胶是IC制造的核心耗材，技术壁垒极高。根据TECHCET数据，预计2022年全球半导体光刻胶市场规模达到23亿美元，同比增长7.5%，2025年超过25亿美元。
2023-03-21 14:00:492095 来源：欣奕华材料 据欣奕华材料官微消息，近日，国内光刻胶龙头企业阜阳欣奕华材料科技有限公司（以下简称“阜阳欣奕华”）完成超5亿元人民币 D 轮融资。 据悉，本轮融资由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552 芯片制造的国产化任重道远，比如在EDA工具的国产化、光刻机等，国产化都还有很长的路要走。有统计数据显示，目前阶段我国在清洗、热处理、去胶设备的国产化率分别达到34％、40％、90％，在涂胶显影、刻蚀
2023-08-09 11:50:204183 光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571 
匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速度呢？它影响光刻胶的哪些性质？
2023-12-15 09:35:56442 
光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21346 
光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18402 与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶则保留下来，从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50200 
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