0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

探讨PCB光刻胶专用化学品行业基本概况

电子工程师 来源:cc 2019-01-30 16:49 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

干膜光刻胶是由预先配制好的液态光刻胶(Photoresist)在精密的涂布机上和高清洁度的条件下均匀涂布在载体聚酯薄膜(PET膜)上,经烘干、冷却后,再覆上聚乙烯薄膜(PE膜),收卷而成卷状的薄膜型光刻胶。

干膜光刻胶压合在覆铜板上,通过曝光、显影将底片(掩膜板或阴图底版)上的电路图形复制到干膜光刻胶上,再利用干膜光刻胶的抗蚀刻性能,对覆铜板进行蚀刻加工,形成印制电路板的精细铜线路。干膜光刻胶的性能主要由光刻胶层的化学品组分配方决定。

干膜光刻胶层由树脂、光引发剂、单体三种主要化学品组成。树脂作为成膜剂,使光刻胶各组份粘结成膜,树脂要求与各组份有较好的互溶性,与加工金属表面有较好的附着力,要很容易从金属表面用碱溶液除去,有较好的抗蚀、抗电镀、抗冷流、耐热等性能。

光引发剂吸收特定波长紫外光(一般320-400nm)后自行裂解而产生自由基,自由基进一步引发光聚合单体交联。光引发剂对干膜光刻胶的感光速度、曝光时间宽容度和深度固化性等性能起到了决定性的影响。随着光源技术的不断进步和变化、客户对干膜光刻胶感光性能的要求不断提高,对于光引发剂的种类、化学结构、性能和品质的要求也在不断变化。

光成像阻焊油墨的作用是防止焊锡搭线造成短路,形成线路的永久保护层,保证印制电路板在制作、运输、贮存、使用上的安全性和电性能不变性。光成像阻焊油墨是PCB制造比较关键的材料之一。60年代第一代阻焊剂--双组份热固型阻焊剂的问世加速了PCB产业的发展。随后,为适应市场的需求变化,经过不断改进、更新,出现第二代阻焊剂,即光固化型(UV光固化)阻焊剂,并获得了广泛的应用。近年来,为了适应制造高密度PCB的需要,开发出第三代阻焊剂,即液态光成像阻焊油墨,它的主要成份由环氧树脂、单体、预聚物、光引发剂(含光增感剂)、色料等组成,由于预聚物的结构中,既有可进行光聚合的基团,也有可进行热交联的基团,通过曝光、显影,可以得到套准精度很高的精细图形,再经加热交联,阻焊膜更加致密、光滑,其耐热性、绝缘性等物理、电气性能更好,是目前主流应用产品。其中光引发剂对成像性能起到重要作用。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • pcb
    pcb
    +关注

    关注

    4391

    文章

    23744

    浏览量

    420775
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    348

    浏览量

    31551

原文标题:PCB光刻胶专用化学品行业基本概况

文章出处:【微信号:ruziniubbs,微信公众号:PCB行业工程师技术交流】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,一直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻胶、掩膜版以及
    的头像 发表于 10-28 08:53 5844次阅读

    光刻胶剥离工艺

    光刻胶剥离工艺是半导体制造和微纳加工中的关键步骤,其核心目标是高效、精准地去除光刻胶而不损伤基底材料或已形成的结构。以下是该工艺的主要类型及实施要点:湿法剥离技术有机溶剂溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的头像 发表于 09-17 11:01 997次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺

    如何提高光刻胶残留清洗的效率

    提高光刻胶残留清洗效率需要结合工艺优化、设备升级和材料创新等多方面策略,以下是具体方法及技术要点:1.工艺参数精准控制动态调整化学配方根据残留类型(正/负、厚膜/薄膜)实时匹配最佳
    的头像 发表于 09-09 11:29 430次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻胶</b>残留清洗的效率

    光刻胶旋涂的重要性及厚度监测方法

    在芯片制造领域的光刻工艺中,光刻胶旋涂是不可或缺的基石环节,而保障光刻胶旋涂的厚度是电路图案精度的前提。优可测薄膜厚度测量仪AF系列凭借高精度、高速度的特点,为光刻胶厚度监测提供了可靠
    的头像 发表于 08-22 17:52 1389次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>旋涂的重要性及厚度监测方法

    从光固化到半导体材料:久日新材的光刻胶国产替代之路

    。 从光固化龙头到半导体材料新锐 久日新材的战略转型始于2020年。通过收购大晶信息、大晶新材等企业,强势切入半导体化学材料赛道。2024年11月,久日新材控股公司年产4500吨光刻胶项目进入试生产阶段,其中面板光刻胶4000吨
    的头像 发表于 08-12 16:45 946次阅读

    国产光刻胶突围,日企垄断终松动

      电子发烧友网综合报道 光刻胶作为芯片制造光刻环节的核心耗材,尤其高端材料长期被日美巨头垄断,国外企业对原料和配方高度保密,我国九成以上光刻胶依赖进口。不过近期,国产光刻胶领域捷报频
    的头像 发表于 07-13 07:22 5670次阅读

    行业案例|膜厚仪应用测量之光刻胶厚度测量

    光刻胶,又称光致抗蚀剂,是一种关键的耐蚀剂刻薄膜材料。它在紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射下,溶解度会发生变化,主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。由于
    的头像 发表于 07-11 15:53 359次阅读
    <b class='flag-5'>行业</b>案例|膜厚仪应用测量之<b class='flag-5'>光刻胶</b>厚度测量

    针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在晶圆上芯片制造工艺中,光刻胶剥离是承上启下的关键环节,其效果直接影响芯片性能与良率。同时,光刻图形的精确测量是保障工艺精度的重要手段。本文将介绍适用于晶圆芯片工艺的光刻胶剥离方法,并
    的头像 发表于 06-25 10:19 730次阅读
    针对晶圆上芯片工艺的<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物应用及白光干涉仪在光刻图形的测量

    物的应用,并探讨白光干涉仪在光刻图形测量中的作用。 金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物 配方组成 金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物主要由有机溶剂、碱性助剂、缓蚀体系和添加剂构成。有机溶剂如
    的头像 发表于 06-24 10:58 493次阅读
    金属低蚀刻率<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液组合物应用及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

    至关重要。本文将介绍用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液,并探讨白光干涉仪在光刻图形测量中的应用。 用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液 配方设计 低铜腐蚀
    的头像 发表于 06-18 09:56 614次阅读
    用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    测量对工艺优化和产品质量控制至关重要。本文将探讨低含量 NMF 光刻胶剥离液及其制备方法,并介绍白光干涉仪在光刻图形测量中的应用。 低含量 NMF 光刻胶剥离液及制备方法 配方组成 低
    的头像 发表于 06-17 10:01 597次阅读
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液和制备方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

        引言   在半导体制造领域,光刻胶剥离工艺是关键环节,但其可能对器件性能产生负面影响。同时,光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文将探讨减少光刻胶剥离工艺影响的方
    的头像 发表于 06-14 09:42 657次阅读
    减少<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在半导体制造与微纳加工领域,光刻胶剥离液是光刻胶剥离环节的核心材料,其性能优劣直接影响光刻胶去除效果与基片质量。同时,精准测量光刻图形对把控工艺质量意义重大,白光干涉仪为此提供了
    的头像 发表于 05-29 09:38 980次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及其制备方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶的类型及特性

    光刻胶类型及特性光刻胶(Photoresist),又称光致抗蚀剂,是芯片制造中光刻工艺的核心材料。其性能直接影响芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介绍了光刻胶类型和
    的头像 发表于 04-29 13:59 6933次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的类型及特性

    光刻胶成为半导体产业的关键材料

    对光的敏感度。在半导体制造过程中,光刻胶通过光化学反应,将掩膜版上的图案精确地转移到硅片表面。 光刻工艺是半导体制造的核心步骤之一。在硅片表面涂上光刻胶(负
    的头像 发表于 12-19 13:57 1790次阅读