电子发烧友网报道（文/吴子鹏） 在全球半导体产业格局中，光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”，而极紫外（EUV）光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来，荷兰 ASML 公司几乎垄断
2025-10-04 03:18:00
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7月16日，全球三大光刻巨头之一的日本尼康公司宣布，正式推出全球首款专为半导体后道工艺设计的无掩模光刻系统——DSP-100，这款设备为先进封装量身定制，可以容纳600mm大基板，并提供1.0μm
2025-07-24 09:29:397824 
所有高于绝对零度的物体都会持续发射红外线，并且物体表面温度越高辐射能量增长越显著，通过测量物体发射的红外线能量，并将其转化为物体温度的设备我们称之为红外测温仪。济南祥控自动化设备有限公司生产的红外
2025-12-30 08:05:00105 
针对可穿戴设备、热成像机芯模组、精准人体测温仪及工业气体传感器等智能化升级场景，聚焦硬件内部空间受限、高精度测温、低功耗运行、高性价比平衡等核心痛点，中科银河芯温度家族高精度人体测温芯片GXT310，凭借其核心技术特性，打造行业领先的专业化测温解决方案。
2025-12-22 17:44:50888 在7纳米、3纳米等先进芯片制造中，光刻机0.1纳米级的曝光精度离不开高精度石英压力传感器的支撑，其作为“隐形功臣”，是保障工艺稳定、设备安全与产品良率的核心部件。本文聚焦石英压力传感器在光刻机中
2025-12-12 13:02:26424 在温度传感器从元件到成品的生产链中，“校准调试” 从来不是简单的检测环节，而是决定传感器 “价值核心” 的关键工序。这一步要想做好，离不开先进标准器的支撑，标准铂电阻温度计与高精度测温仪堪称 “黄金搭档”，它们既是温度测量准确性的 “定盘星”，更是生产高质量温度传感器的 “压舱石”。
2025-12-10 10:49:01559 在光学系统设计中，不同场景对镜片尺寸、安装空间的要求存在显著差异。芯明天N81KxxTxx系列压电螺钉光学镜架，以亚微弧度级别的分辨率，适配25.4mm~116mm直径镜片，广泛应用于激光腔调
2025-11-27 11:20:29254 
手持红外测温仪（NCIT / 非接触红外体温计）和集成了测温功能的 手持终端（PDA / 移动护理终端等）。两者表面相似，但用途、设计理念、准确性、校准和系统能力都不同。
2025-11-18 14:20:22262 
矿用本质安全型红外测温仪测温范围：200-300℃工作温度：-10-50℃测量误差≤0.5℃取得煤矿安全认证
2025-10-30 10:39:58
能力及每秒 110 千兆像素的数据传输速率 ，在满足日益复杂的封装工艺对可扩展性、成本效益和精度要求的同时，消除对昂贵掩模技术的依赖。 TI DLP 技术造就高级封装领域的无掩模数字光刻系统 关键所在 无掩模数字光刻机正广泛应用于高级封装制造领域，这类光刻机无需光
2025-10-20 09:55:15887 某汽车涂装车间配备多台定量涂胶设备实现全车自动涂胶工作，生产效率较高、产品质量稳定。但这些设备需要车间工人定时进行巡查，生产任务结束后在进行巡检和维护，同时手动记录相关数据再录入到MES系统中。这种
2025-10-17 15:32:35256 
近日，深圳稳顶聚芯技术有限公司（简称“稳顶聚芯”）宣布，其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂，标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
2025-10-10 17:36:33929 摘要：光刻机、晶圆制造量测设备、化学气相沉积设备、离子注入机、晶圆涂胶显影机、探针测试台…这些关键设备国产化率仍不足5%。当前，中国半导体设备产业正处在一个前所未有的战略机遇期与攻坚期。在外部技术
2025-09-26 23:32:05870 
防爆红外测温仪CWH3000一、仪器简介CWH3000防爆红外测温仪是用高性能微处理控制技术来进行物体温度测量的，装有目视光学瞄准系统，有测量精度高、稳定性好、响应快等特点，可广泛应用于亮金属加工等
2025-09-26 17:02:51
矿用本安型红外测温仪CWH1000 防爆标志：Ex ib I Mb具有矿用产品安全标志认证MA、KA测温范围大，测温反应时间快，测温距离远发射率可调，大值、小值、平均值、温差值、高温报警
2025-09-26 16:53:28
防爆红外测温仪CWH1000防爆标志：Ex ib I Mb / Ex ib ⅡC T4 Gb / Ex ib ⅢC T130℃ Db测温范围大，测温反应时间快，测温距离远发射率可调，大值、小值
2025-09-26 16:43:40
半导体腐蚀清洗机是集成电路制造过程中不可或缺的关键设备，其作用贯穿晶圆加工的多个核心环节，具体体现在以下几个方面：一、精准去除表面污染物与残留物在半导体工艺中，光刻、刻蚀、离子注入等步骤会留下多种
2025-09-25 13:56:46497 
滚珠导轨凭借其低摩擦、高刚性、纳米级定位精度等特性，成为光刻机、刻蚀机、贴片机等核心设备的关键传动元件，直接决定着芯片良率与生产效率。
2025-09-22 18:02:20602 
矿用本质安全型红外测温仪测温范围：200-300℃工作温度：-10-50℃测量误差≤0.5℃取得煤矿安全认证河北沃戈智能电子科技有限公司销售：防爆万用表WB03、防爆绝缘电阻测试仪WB08、防爆钳形
2025-09-22 16:45:14
确定 12 英寸集成电路新建项目中光刻机、刻蚀机等核心设备的防震基座类型与数量，需遵循 “设备需求为核心、环境评估为基础、合规性为前提” 的原则，分步骤结合设备特性、厂房条件、工艺要求综合判断，具体流程与关键考量如下：
2025-09-18 11:24:23915 
%。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。
2、晶背供电技术
3、EUV光刻机与其他竞争技术
光刻技术是制造3nm、5nm等工艺节点的高端半导体芯片的关键技术。是将设计好的芯片版图图形转移到硅晶圆上的一种精细
2025-09-15 14:50:58
LED太阳光模拟器的光学系统设计需通过“光源系统-聚光镜-光学积分器-准直反射镜”的处理，通过多部件协作模拟太阳辐照，平衡准直性、均匀性与光谱匹配性。光源系统用特定准直透镜将发散角降至2°内，按
2025-09-03 18:08:42581 
光刻机外，技术难度最大、重要程度最高的设备之一。此次出机的 28 纳米关键尺寸电子束量测量产设备，由无锡亘芯悦科技有限公司自主研制，在电子光学系统、运动平台、电子电路和软件等方向实现了完全自研，能有效解决我国半导体量检测
2025-08-19 16:17:38615 
泽攸科技ZEL304G电子束光刻机（EBL）是一款高性能、高精度的光刻设备，专为半导体晶圆的高速、高分辨率光刻需求设计。该系统采用先进的场发射电子枪，结合一体化的高速图形发生系统，确保光刻质量优异且
2025-08-15 15:14:01
“所见即所得”，极大提升了操作便捷性和工艺可控性。其独特的光路结构和高精度直线电机位移台确保了卓越的曝光精度和重复定位能力，同时配备CCD相机逐场自动对焦系统，进一步优化
2025-08-15 15:11:55
8nm，专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节，可通过高能电子束在硅基上手写电路，无需掩膜版即可灵活修改设计，其精度已比肩国际主流设备。 据介绍，与传统光刻机相比，电子束光刻机在原型设计、快速迭代和小批量试制方面具有独特优势。此前先进电子束光
2025-08-15 10:15:172937 
电子发烧友网综合报道，近日，上海芯上微装科技股份有限公司（简称：芯上微装，英文简称：AMIES）第500台步进光刻机成功交付，并举办了第500台 步进光刻机 交付仪式。 光刻是半导体器件
2025-08-13 09:41:341989 
在半导体湿法工艺中，高精度温控器是必需的关键设备，其应用贯穿多个核心环节以确保工艺稳定性和产品良率。以下是具体分析：一、为何需要高精度温控？化学反应速率控制湿法蚀刻、清洗等过程依赖化学液与材料
2025-08-12 11:23:14660 
一、核心功能与应用场景半导体超声波清洗机是利用高频超声波（20kHz-1MHz）的空化效应，通过液体中微射流和冲击波的作用，高效剥离晶圆表面的颗粒、有机物、金属污染及微小结构内的残留物。广泛应用
2025-07-23 15:06:54
激光（IR）轰击 Sn 等离子体，从而释放出 EUV 辐射，随后通过收集镜将 EUV 辐射会聚到中间焦点（IF）处。 然而，在这一过程中，冗余的红外辐射若进入曝光光学系统，将会产生热负载，对光刻系统的稳定性以及曝光图样质量造成不良影响。因此，深入研究红外辐
2025-07-22 17:20:36956 
奥松传感传来好消息，在7月14日11时38分，重庆奥松半导体特色芯片产业基地（下称“奥松半导体项目”）迎来具有里程碑意义的时刻——8英寸生产线首台光刻机设备，在众人关切注视的目光中平稳进场。 首台
2025-07-17 16:33:121559 
在半导体制造的封装测试环节，温度控制的精度与稳定性直接影响芯片的可靠性、性能及成品率。半导体深冷机（Chiller）作为核心温控设备，通过高精度、多场景的温控能力，为封装测试工艺提供了关键保障。一
2025-07-09 16:12:29550 
在半导体制造领域，后道工艺（封装与测试环节）对温度控制的精度和稳定性要求高。冠亚恒温半导体冷水机凭借其高精度温控、多通道同步控制及定制化设计能力，成为保障后道工艺可靠性的核心设备。本文从技术
2025-07-08 14:41:51624 
一、涂胶显影设备：光刻工艺的“幕后守护者” 在半导体制造的光刻环节里，涂胶显影设备与光刻机需协同作业，共同实现精密的光刻工艺。曝光工序前，涂胶机会在晶圆表面均匀涂覆光刻胶；曝光完成后，显影设备则对晶
2025-07-03 09:14:54773 
引言 在半导体制造与微纳加工领域，光刻图形线宽变化直接影响器件性能与集成度。精确控制光刻图形线宽是保障工艺精度的关键。本文将介绍改善光刻图形线宽变化的方法，并探讨白光干涉仪在光刻图形测量中
2025-06-30 15:24:55740 
揭开宇宙的秘密，首先需要清晰、详细的视角。遗憾的是，这对于地球望远镜来说是一项极具挑战性的任务，它们需要克服一个主要的障碍：地球大气层。这就是 Microgate 为欧洲南方天文台（ESO）的极大望远镜（ELT）所制造的自适应光学系统发挥作用之处。
2025-06-30 09:10:43882 半导体光刻技术向物理极限发起的又一次冲击。 目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统采用 High NA（0.55NA）光学系统，分辨率可达 8nm。High NA EUV
2025-06-29 06:39:001916 参数。【应用范围】光刻、涂胶显影 TRACK 设备、原子层沉积 (ALD)、探针台测温、高精度加热盘【产品优势】1. ±0.05℃高精度测温监测：RTD传感器能够
2025-06-27 10:12:00
半导体制造对工艺温度的稳定性要求比较高，在此背景下，半导体直冷机Chiller作为关键配套设备，其性能直接影响芯片良率与生产效率。一、半导体直冷机Chiller的核心应用场景半导体制造全流程涉及光刻
2025-06-26 15:39:09820 
苏州这片兼具人文底蕴与创新活力的土地，自成立伊始，便将全部心血倾注于半导体高端装备制造，专注于清洗机的研发、生产与销售。这里汇聚了行业内的精英人才，他们怀揣着对技术的热忱与执着，深入探究半导体清洗技术
2025-06-05 15:31:42
摘要
为了对光学系统的性质有一个基本的了解，对其组件的可视化和光传播的提示是非常有帮助的。为此，VirtualLab Fusion提供了一个工具来显示光学系统的三维视图。这些工具可以进一步用于检查
2025-05-30 08:45:05
当电力巡检人员面对高压设备束手无策时，当食品生产线亟需实时监控热加工温度时，当机械工程师调试高速运转设备时——AST0300非接触红外测温仪正以非接触式精准测量，助力工业领域实现更安全高效的温度监控。
2025-05-28 16:39:39758 
各种不同的组件中，具体取决于预期用途。在这种情况下，我们将堆栈加载到一般光学设置中的一个光栅组件中，以便模拟整个系统。有关详细信息，请参阅：用于通用光学系统的光栅元件
微结构晶片的角度响应
该光栅组件
2025-05-28 08:45:08
图1.带有端部反射镜及保护玻璃的单反射镜扫描系统示意图
单反射镜扫描光学系统往往多设在光学系统端部用以扫描物方视场，故有常称端部反射镜。由于具有单次反射面的反射棱镜也具有反射镜的功能，也经常
2025-05-27 08:44:05
填写完对光学系统的设计技术要求之后就可以在窗体右侧的绘图框内绘制光学系统方案草图。绘图框的基本尺寸默认为一张横排的A4图纸。如果根据系统总体尺寸的要求需要调整绘图框图纸图幅的尺寸，可以利用界面是文字
2025-05-23 08:51:01
在半导体制造领域，工艺制程对温度控制的精度和响应速度要求严苛。半导体制冷机chiller实现快速升降温及±0.5℃精度控制。一、半导体制冷机chiller技术原理与核心优势半导体制冷机chiller
2025-05-22 15:31:011418 
一、技术革新：微米级精度与智能化生产BJCORE划片机以1μm切割精度和0.0001mm定位精度为核心技术优势，在半导体、光电等领域实现突破。其12寸划片机采用进口高精度配件，T轴重复精度达1μm
2025-05-19 15:34:51487 
油浸式变压器光纤绕组测温系统基于荧光光纤温度传感技术。其原理是利用光纤中荧光物质对温度变化的敏感性来实现温度测量。荧光光纤传感器安装在变压器绕组内部，通过光纤将温度信号传输至光纤测温仪。
2025-05-19 14:42:111024 
W-D23 荧光光纤温度采集器是深圳市稳传测控技术有限公司研发的工业级温度监测设备，基于荧光光学原理，通过荧光材料的温度特性实现高精度测温。产品采用光纤传输技术，具备抗干扰能力强、绝缘性
2025-05-18 02:29:09
一、荧光光纤测温原理荧光光纤测温技术基于光纤中荧光物质的温致荧光特性。当光纤探头受到激发光照射时，会产生荧光。荧光强度、波长或寿命等特性随温度变化而改变，通过检测这些变化
2025-05-17 10:18:56
TCWafer晶圆测温系统是一种专为半导体制造工艺设计的温度测量设备，通过利用自主研发的核心技术将高精度耐高温的热电偶传感器嵌入晶圆表面，实现对晶圆特定位置及整体温度分布的实时监测，记录晶圆在制程
2025-05-12 22:23:35785 
过程中，会依次涉及三个不同的实体:
(a)最开始，光学系统设计人员会将性能参数转化为光学系统参数，例如所用玻璃的类型、透镜的几何构型、面型精度、粗糙度和中频误差以及所使用的镀膜类型。
(b)接下来，光学
2025-05-12 08:55:43
是（b）将应用参数转化为光学系统布局的光学系统设计师，到（c）将光学系统的参数和公差转化为优化制造链的光学制造链设计师，最终将其移交给（d）生产制造。虽然光学设计软件工具可以很好地支持客户和光学系统
2025-05-12 08:53:48
要将光作为工具加以利用，例如在黑暗中看清事物、探测外太空的岩石或人体肾脏中的结石，就需要借助精密的光学系统，如复杂的汽车前灯、望远镜或内窥镜。随着光学工具使用精度的迅速提升，光学系统的质量也必须随之
2025-05-12 08:51:43
PMC-3620荧光光纤测温变送器 PMC-3620 是用于强电磁干扰环境中电气测温的荧光光纤测温装置，具备宽范围、高精度、多回路测温等特性，适用于电力、能源、化工、冶金等多行
2025-05-09 09:43:19
器件的生产过程，并增加了其成本。
在光学系统的生成过程中，随后涉及三个不同的实体：
1)最初，光学系统设计人员将性能参数转换为光学系统参数，如使用的玻璃类型，透镜几何形状，表面形状精度，粗糙度和中频误差
2025-05-09 08:51:45
简介
尽管光学设计能够将光学系统的应用参数（如调制传递函数MTF、图像分辨率等）转化为定义明确的技术图纸，但其可生产性评估往往只能事后进行，例如通过人工分析，或者使用近年来出现的PanDao软件
2025-05-09 08:49:35
在半导体封装、光电器件及功率电子等行业中，高精度贴片机作为核心生产设备，其性能直接影响产品良率、生产效率和成本控制。然而，面对市场上琳琅满目的设备型号与技术参数，如何选购一台真正满足需求的高精度
2025-05-08 11:45:42947 
、组装等环节，这本质上是又一次跨领域的技术转译过程。
传递至生产部门的这些信息，将决定所需采用的制造链，并最终主导光学系统的产量、质量与生产成本。
促进光学系统制造链全流程的透彻理解，将释放该领域更深
2025-05-08 08:46:08
，光学系统将按照制定的制造流程和工艺进行生产，确保所有加工环节均不超过设计公差范围，从而制造出完全符合客户需求的功能性光学工具。光学系统可采用多种分类策略，例如：按应用领域（如天文、医疗、照明、光刻
2025-05-07 09:01:47
、面形精度、公差等级）。随后，(c)光学制造链设计师将光学系统参数与公差转化为优化后的制造工艺链，并最终移交给(d)生产部门，负责设备配置、工艺实施、人员培训，并依据客户与设计师在成本、产能及质量方面
2025-05-07 08:54:01
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
一、软件简介
光学设计软件工具可以很好地帮助光学工程师开发一款镜头产品，然而光学工程师和光学加工商之间仍然是基于人与人的交互。这个部分是光学系统能够实现的最后一个主要障碍之一，因为它是基于个人的判断
2025-05-06 08:43:51
随着光学技术的飞速发展，镜片作为光学系统的核心元件，其制造精度直接影响到光学系统的性能。在镜片生产过程中，厚度是一个关键参数，需进行高精度、高效率的测量。传统测量方法如千分尺、游标卡尺等，是接触式
2025-05-06 07:33:24822 
、Chiller在半导体工艺中的应用解析1、温度控制的核心作用设备稳定运行保障：半导体制造设备如光刻机、刻蚀机等，其内部光源、光学系统及机械部件在运行过程中产生大量热量。Ch
2025-04-21 16:23:481232 
——薄膜制作(Layer)、图形光刻(Pattern)、刻蚀和掺杂，再到测试封装，一目了然。 全书共分20章，根据应用于半导体制造的主要技术分类来安排章节，包括与半导体制造相关的基础技术信息；总体流程图
2025-04-15 13:52:11
【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一，其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市场对光刻机的需求持续增长，尤其是在先
2025-04-07 09:24:271240 高精度减速机是制造半导体等精密电子产品的关键部件，关乎芯片良率。全球能生产高精度减速机的企业少之又少，且对材料、加工精度、长期稳定性等要求极高。
2025-04-02 13:25:12558 
摘要
为了从根本上了解光学系统的特性，对其组件进行可视化并显示光的传播情况大有帮助。为此，VirtualLab Fusion 提供了显示光学系统三维可视化的工具。这些工具还可用于检查元件和探测器
2025-04-02 08:42:16
在科技日新月异的今天，芯片作为数字时代的“心脏”，其制造过程复杂而精密，涉及众多关键环节。提到芯片制造，人们往往首先想到的是光刻机这一高端设备，但实际上，芯片的成功制造远不止依赖光刻机这一单一工具。本文将深入探讨芯片制造的五大关键工艺，揭示这些工艺如何协同工作，共同铸就了现代芯片的辉煌。
2025-03-24 11:27:423168 
当你收到新买的测温枪，迫不及待拆开保护壳后，你会怎么测温？
2025-03-13 15:18:322538 
现代技术在材料加工领域的出现，使得高功率激光源在光学系统中的使用频率大大增加。高能源产生的大量热量导致了几何形状的变形和系统中光学元件折射率的调制，这将影响它们的光学特性。在VirtualLab
2025-03-13 08:57:22
自适应光学系统后，经过大气传输的激光光斑的初始Strehl ratio从0.04被显著提升到了0.87。
模拟结果
图2.经过大气传输的激光波前分布，此时对应的Strehl ratio为0.04
图3.经过自适应光学矫正后的大气传输激光波前分布，此时对应的Strehl ratio为0.87
2025-03-10 08:55:14
半导体高精度自动温度实验系统
BW-AH-5520
###产品名称：半导体高精度自动温度实验系统
品牌：博微电通
名称：半导体高精度自动温度实验系统
型号：BW-AH-5520
用途：
采用特殊
2025-03-06 10:48:56
CWH1000 防爆红外测温仪采用本安防爆技术，通过化工防爆安全认证，测温范围 -50℃ ~1100℃为中高温度测量仪器，适用范围更大，测温距离更远，测温反应灵敏，广泛应用于各种工业检测、环境检测、高温及制冷等行业。
2025-03-05 16:22:57
在光学设计软件VirtualLab Fusion中实现的建模技术的交互性意味着其用户可以完全灵活地在精度和速度之间找到始终相关的折衷方案。这也适用于模拟光通过亚波长结构传播：可以只为光学系统中表
2025-03-04 09:59:44
这种先合光再分光的设计方案既使系统变得复杂，又使得光能利用率较低。
请问目前采用三基色激光投影显示的光学系统设计方案都是这样吗？激光光源能否实现类似于下图LED这样的设计？激光器能否像LED一样瞬时开关？
2025-02-28 07:11:17
Apex高精度减速机在光伏恒力绕线机和数控光伏玻璃设备上应用，提升生产效率和加工精度，降低生产成本，为光伏行业高质量发展提供支持。
2025-02-26 13:15:46763 
在电子制造领域，高精度测温仪和温度传感器发挥着至关重要的作用，它们是保障产品质量和生产效率的关键要素。在电子制造的焊接工艺中，高精度测温不可或缺。例如，在表面贴装技术（SMT）中的回流焊环节，测温仪
2025-02-24 13:29:02794 
在芯片制造的复杂流程中，光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度)，则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说，它就像建造摩天大楼
2025-02-17 14:09:254467 
，生产设备对稳定性的要求近乎苛刻。光刻机、刻蚀机等设备在工作时，需保持极高的精度。以极紫外光刻机（EUV）为例，它在进行纳米级光刻时，任何微小的位移或变形都可能导致
2025-02-17 09:52:061192 
精密划片机与激光划片机作为半导体及电子制造领域的关键设备，各有其技术特点和应用场景。然而，精密划片机在多个核心领域展现出显著优势，尤其在切割精度、材料适应性、生产效率及成本控制等方面，凸显了其在现代
2025-02-13 16:12:311225 
离轴光学系统具有多个显著的优势，主要体现在以下几个方面： 1.更广阔的视场 离轴光学系统通过使用非对称的光学元件，能够显著扩大视场范围，使得观察者可以获得更广阔的视野。这对于航天、天文、航空等领域
2025-02-12 06:15:29780 
一、红外线测温仪的特点 1、非接触测量 在测量过程中不需要接触到被测量物体的表面和内部，不会干扰被测量物体的温度。 2、测量范围广 在正常工作和测温仪允许的条件下，测温仪的可测量范围一般可以从负几十
2025-02-11 14:25:221196 半导体制造设备对传动系统的精度、可靠性和稳定性要求极高，台湾精锐APEX减速机凭借其低背隙、高精度和高刚性等优势，在半导体制造设备中得到了广泛应用。
2025-02-06 13:12:07630 
光刻机用纳米位移系统设计
2025-02-06 09:38:031029 
半导体设备光刻机防震基座的安装涉及多个关键步骤和考虑因素，以确保光刻机的稳定运行和产品质量。首先，选择合适的防震基座需要考虑适应工作环境。由于半导体设备通常在洁净的环境下运行，因此选择的搬运工具如
2025-02-05 16:48:451240 一、定制化的必要性1，适应不同设备需求（1)半导体设备的种类繁多，包括光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等，每种设备的尺寸、重量、重心位置以及振动敏感程度都有所不同。例如，光刻机通常对精度要求极高，其工作
2025-02-05 16:48:20787 新唐科技开始量产业界最高水平(*)的光输出1.7 W、波长420 nm发光的靛蓝半导体激光器[1]。本产品有助于光学系统的小型化和运行成本的降低。此外，通过与新唐量产的紫外半导体激光器（378 nm）和紫色半导体激光器（402 nm）组合使用，作为汞灯的替代光源解决方案，有助于实现可持续社会。
2025-01-24 09:35:49896 在装备制造这一复杂而关键的工业领域，高精度测温仪和温度传感器的应用犹如精准的导航系统，为生产过程保驾护航，对提升产品质量和生产效率有着不可替代的作用。
2025-01-23 11:42:331353 ，我们以太阳光为例，说明了如何将测量到的光谱导入VirtualLab Fusion中，然后介绍了如何使用所述数据用作光学系统中光源的光谱组成。
建模任务
如何将测量到的太阳光光谱(见下图)导入到
2025-01-23 10:22:34
本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值？怎样提高？ 什么是NA值？ 如上图是某型号的光刻机配置，每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA，又名
2025-01-20 09:44:182476 
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片光刻机和面板光刻机。面板光刻机的工作原理和芯片光刻机相似
2025-01-16 09:29:456359 
在电子制造领域，高精度测温仪和温度传感器发挥着至关重要的作用，它们是保障产品质量和生产效率的关键要素。
2025-01-16 09:21:23967 中图仪器VT6000系列3D高精度共聚焦显微镜集成X\Y\Z三个方向调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前工作。仪器以转盘共聚焦光学系统为基础，结合高稳定性结构设计和3D重建算法
2025-01-15 17:19:06
“Littrow结构”是指那些包含反射光栅的光学系统，其中光栅方向被设置为可以使工作阶(通常是第一衍射阶)沿着入射光束的方向返回。这可以用于各种不同的应用，例如，在激光谐振器的背景下，光栅可以
2025-01-11 13:19:56
泊苏 Type C 系列防震基座在半导体光刻加工电子束光刻设备的应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、企业背景与光刻加工电子束光刻设备挑战某大型半导体制造企业专注于高端芯片的研发与生产
2025-01-07 15:13:21
本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤，其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备，它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程，但精度要求极高，能够达到
2025-01-07 10:02:304530 
**摘要
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为了从根本上了解光学系统的特性，对其组件进行可视化并显示光的传播情况大有帮助。为此，VirtualLab Fusion 提供了显示光学系统三维可视化的工具。这些工具还可用于检查元件
2025-01-06 08:53:13
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