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揭秘走在国产替代前列的刻蚀设备

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在台积电宣布明年将进行5纳米制程试产、预计2020年量产的同时,国产设备亦传来好消息。日前上观新闻报道,中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证,性能优良,将用于全球首条5纳米制程生产线。
2018-12-18 15:14:419384

两种基本的刻蚀工艺:干法刻蚀和湿法腐蚀

反刻是在想要把某一层膜的总的厚度减小时采用的(如当平坦化硅片表面时需要减小形貌特征)。光刻胶是另一个剥离的例子。总的来说,有图形刻蚀和无图形刻蚀工艺条件能够采用干法刻蚀或湿法腐蚀技术来实现。为了复制硅片表面材料上的掩膜图形,刻蚀必须满足一些特殊的要求。
2018-12-14 16:07:3954292

民生银行在生物可识别技术应用领域一向走在市场前列

在生物可识别应用领域一向走在创新前列的民生银行,近期推出手机银行面容登录与支付功能——用户通过支持面容ID的移动设备登录民生手机银行或进行支付时,可使用面容识别进行身份认证,体验全新的“见面”登录、“刷脸”支付服务。
2018-12-12 15:40:391426

对美国的半导体设备的优势和可替代性进行探讨

化学气相沉积 CVD、刻蚀设备等也具有较强的优势, 而光刻机、氧化、退火、去胶等其他设备,日本和荷兰公司有较大优势,或并不弱于美国公司。在刻蚀、氧化炉管、清洗等少部分设备领域,中国公司也有所突破,但与国外公司相比,仍然差距较大。
2018-09-03 10:00:214814

走在5G时代前列 共同开创万物互联新时代

8月2日,以“新动能·新安全,走在5G时代前列”为主题的山东联通安全通信云发布会在济南丽天大酒店举行,200余人出席了本次大会,共商政府“新旧动能”转换号召下的新安全体系构建,见证安全通信云平台发布,推动移动安全信息化在山东省的蓬勃发展。
2018-08-06 16:10:564498

半导体测试设备国产化机遇正当时,测试设备等环节或率先国产

我们认为虽然中国或需较长时间才能出现世界一流半导体装备企业,但边际上的成长和进步已经开始出现。国内测试设备、中后道刻蚀机、硅晶圆制造设备等企业虽然面临着技术进步挑战等困难,但可能较快实现国产化突破并率先兑现业绩高增长。关注长川科技、北方华创、晶盛机电。
2018-02-25 09:14:42698

北方华创:助半导体产业链发展,担负设备国产化重任

国内半导体国家02专项设备龙头,担负设备国产化重任:公司是国内规模庞大,产品体系丰富,涉及领域广泛的高端半导体工艺设备供应商,主要产品包括等离子刻蚀设备(Etch)、物理汽相沉积设备(PVD)、化学
2018-03-04 01:49:01741

国产整机厂商愿意冒多少风险来进行国产替代

无论是在新技术领域去争取同一起跑线竞争机会,还是先从非安全相关的领域零敲碎打农村包围城市,还是芯原这样的找到合适的“宿主”,最终又回到那个核心问题。国产芯片厂商具备大批量交付能力(技术、系统、量产能力综合)之后,国产整机厂商愿意冒多少风险来进行国产替代
2018-05-28 10:43:507516

PCB行业景气周期的增长点:5G、汽车电子和国产替代

电子行业5G、汽车电子和国产替代成为我国PCB行业未来主要增长点。 据报道,PCB产业逐步优化升级,低端产能将被逐渐淘汰,其市场份额逐步被龙头厂商瓜分;中高端PCB国内具有高端技术研发能力的厂家只有
2018-02-05 07:58:50769

苹果将独揽OLED需求 国产手机寻求其他OLED替代

据报道,在OLED 屏幕供应方面三星处于近乎垄断的地位,但是大部分的OLED 屏幕需求也被苹果今年垄断OLED供应,其他的手机厂商面临供货的压力。为此国产手机计划寻找OLED的替代品。据悉国产手机制造商决定2018 下半年用 Micro LED 取代 AMOLED。
2018-01-12 15:49:271144

国产芯片替代这一国家发展战略正在显示出成效

国产芯片替代这一国家发展战略正在显示出成效。随着国内资金大规模投入、技术引进后自主研发形成突破,国产芯片有望在未来几年内迅速崛起,这给相关领域的上市公司带来发展前景。
2017-12-20 10:56:003965

晶体硅太阳能电池刻蚀的作用及方法与刻蚀的工艺流程等介绍

晶体硅太阳能电池生产线刻蚀工序培训 1、刻蚀的作用及方法;2、刻蚀的工艺设备、操作流程及常用化学品;3、主要检测项目及标准;4、常见问题及解决方法;5、未来工艺的发展方向;
2017-09-29 10:32:4824

小米6什么时候上市?小米6最新消息:小米6要学轻触返回?魅族要放弃mback

国产手机中,魅族的外观和交互设计一直走在国产手机前列。虽然魅族手机的外观被吐槽万年不变,但有许多国产手机厂商的手机和它长的一样却是个不争的事实。
2017-04-16 11:05:313184

半导体制造刻蚀设备调度算法的研究_贾小恒

半导体制造刻蚀设备调度算法的研究_贾小恒
2017-03-07 21:04:560

Android应用开发揭秘源码

Android应用开发揭秘源码
2017-03-07 15:39:583

三类国产VR一体机或将跻身世界前列

随着高通、瑞芯微、全志等芯片厂商推出各自的VR一体机芯片方案,国产VR一体机将进入快速发展阶段,有望跻身世界前列
2017-02-20 13:59:161618

中微公司推出新一代等离子刻蚀设备

中微公司董事长兼首席执行官尹志尧博士将介绍公司产品开发的最新进展;中微公司资深技术专家将在会上介绍公司研发部门开发成功的两款新一代刻蚀设备
2012-10-24 17:05:04800

上腔室窗口温度对STI刻蚀工艺的影响

本文在浅沟槽隔离刻蚀过程中发现,当刻蚀腔室上石英窗口的温度超过85℃时,刻蚀终止出现在300mm晶圆的中心。我们认为刻蚀终止的原因是由于某些低挥发SiOxCly刻蚀产物再淀积。石英
2012-05-04 17:11:001575

中微等离子体刻蚀设备Primo AD-RIE(TM)运抵中芯国际

中微半导体设备有限公司(以下简称“中微”)于 SEMICON China 展会期间宣布,中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE™ 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际
2012-03-22 11:29:19859

刻蚀端面Al Ga In As/AlInAs激光器的制作与特

摘要 利用Cl2/BCl3/CH4电感应耦合等离子体(ICP)干法刻蚀技术,实现了对AlGaInAs,InP材料的非选择性刻蚀。AlGaInAs与InP的刻蚀速率分别为820nm/min与770nm/min,获得了刻蚀深度为4.9μm,垂直光滑的A
2010-11-30 14:58:4517

干法刻蚀原理

干法刻蚀原理 刻蚀作用:去除边缘PN结,防止上下短路。干法刻蚀原理:利用高频辉光放电反应,使CF4气体激活成活性粒子,这些活性
2010-07-18 11:28:204474

揭秘数码相机的芯

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2010-04-23 16:06:46859

揭秘世博灯光之最数据揭秘

揭秘世博灯光之最数据 摘要:由上海广茂达光艺科技股份有限公司营造的世博轴艺术灯光景观创造了世博艺术灯光景观设计之最数据揭秘
2010-04-20 10:50:49395

ITO薄膜激光刻蚀设备匀光系统的Matlab实现

ITO薄膜激光刻蚀设备匀光系统的Matlab实现 触摸屏的广泛应用,ITO导电薄膜受到人们的重视。而紫外激光的波长短、能量集中、分辨率高,因此在去
2010-03-18 11:44:381331

电子管音频设备音色揭秘

电子管音频设备音色揭秘:电子管器件又名真空管器件,诞生于1904年,直至现在,电子管还在某些领域保持着其特有的利用价值,尤其是在传统的音响领域的音频放大器中,电子管仍
2009-12-12 08:35:26172

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