本文研究了金属蚀刻残留物，尤其是钛和钽残留物对等离子体成分和均匀性的影响。通过所谓的漂浮样品的x射线光电子能谱分析来分析室壁，并且通过光发射光谱来监测Cl2、HBr、O2和SF6等离子体中的Cl
2022-05-05 14:26:56
761 
我们华林科纳讨论了一些重要的等离子体蚀刻和沉积问题（从有机硅化合物）的问题，特别注意表面条件，以及一些原位表面诊断的例子。由于等离子体介质与精密的表面分析装置不兼容，讲了两种原位表面调查的技术
2022-05-19 14:28:151666 
沉积。离子注入使用等离子体源制造晶圆掺杂所需的离子，并提供电子中和晶圆表面上的正电荷。物理气相沉积(PVD)利用离子轰击金属靶表面，使金属溅镀沉积于晶圆表面。遥控等离子体系统广泛应用于清洁机台的反应室、薄膜去除及薄膜沉积工艺中。
2022-11-15 09:57:312625 光捕获技术是提高太阳能电池光吸收率的有效方法之一，它可以减少材料厚度，从而降低成本。近年来，表面等离子体（SP）在这一领域取得了长足的进步。利用表面等离子体的光散射和耦合效应，可以大大提高太阳能电池的效率。
2023-12-05 10:52:27497 
是在晶圆上制作电路及电子元件（如晶体管、电容、逻辑开关等），其处理程序通常与产品种类和所使用的技术有关，但一般基本步骤是先将晶圆适当清洗，再在其表面进行氧化及化学气相沉积，然后进行涂膜、曝光、显影、蚀刻
2011-12-01 15:43:10
】：1引言电子元器件在生产过程中由于手印、焊剂、交叉污染、自然氧化等，其表面会形成各种沾污。这些沾污包括有机物、环氧树脂、焊料、金属盐等，会明显影响电子元器件在生产过程中的相关工艺质量，例如继电器的接触电阻，从而降低了电子元器件的可靠性和成品合格率。等离子体是全文下载
2010-06-02 10:07:40
液晶显示器(LCD)之后的最新显示技术之一。这种显示器能够用作适应数字化时代的各种多媒体显示器，适用于制造大屏幕和薄型彩色电视机等，有着广阔的应用前景。等离子体显示器具有体积小、重量轻、无X射线辐射
2011-01-06 16:09:23
空间。在两块玻璃基板的内侧面上涂有金属氧化物导电薄膜作激励电极。 当向电极上加入电压，放电空间内的混合气体便发生等离子体放电现象。色彩还原能力好，显示色彩自然。由于等离子电视是通过紫外线激发荧光粉发光
2014-02-10 18:20:48
当高频发生器接通电源后，高频电流I通过感应线圈产生交变磁场(绿色)。开始时，管内为Ar气，不导电，需要用高压电火花触发，使气体电离后，在高频交流电场的作用下，带电粒子高速运动，碰撞，形成“雪崩”式放电，产生等离子体气流。
2019-10-09 09:11:46
合有局限，不适用于聚四氟乙烯微波板的三防涂覆前处理。 基于以上原因，开展了应用等离子体处理法替代钠萘处理法进行聚四氟乙烯表面活化处理的研究工作。
2019-05-28 06:50:14
润湿性帮助油墨和涂料均匀地粘附在材料上，或者通过活化表面来增加粘合剂的强度。由于这些特性，低温等离子体被用于半导体制造和各种其他工业设备中。此外，等离子体技术无需化学物质即可清洁和消毒表面，安全性高，在
2022-05-18 15:16:16
等离子体显示器又称电浆显示器，是继CRT(阴极射线管）、LCD（液晶显示器）后的最新一代显示器，其特点是厚度极薄，分辨率佳。可以当家中的壁挂电视使用，占用极少的空间，代表了未来显示器的发展趋势（不过对于现在中国大多...
2021-04-20 06:33:47
表面波等离子体激励源设计，不看肯定后悔
2021-04-22 07:01:33
性能(回复到不润湿表面状态)，化学沉铜之孔金属化处理需在经等离子体处理后的48小时内完成。麦|斯|艾|姆|P|CB样板贴片,麦1斯1艾1姆1科1技全国1首家P|CB样板打板 B．含填料聚四氟乙烯材料
2013-10-22 11:36:08
聚四氟乙烯材料的复原性能(回复到不润湿表面状态)，化学沉铜之孔金属化处理需在经等离子体处理后的48小时内完成。 B．含填料聚四氟乙烯材料的活化处理 对于含填料的聚四氟乙烯材料制造的印制电路板(如不
2018-11-22 16:00:18
活性的表面，从而提高阻焊膜层的附着力。 (5) 残留物去除 等离子体技术在残留物的去除方面，主要有着下述三方面的作用： (A) 在印制电路板制造，尤其在精细线条制作时，等离子体被用来蚀刻前去除干膜
2018-09-21 16:35:33
`电路板厂家生产高密度多层板要用到等离子体切割机蚀孔及等离子体清洗机.大致的生产工艺流程图为:PCB芯板处理→涂覆形成敷层剂→贴压涂树脂铜箔→图形转移成等离子体蚀刻窗口→等离子体切割蚀刻导通孔→化学
2017-12-18 17:58:30
的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料
2012-09-25 16:21:58
润湿性帮助油墨和涂料均匀地粘附在材料上，或者通过活化表面来增加粘合剂的强度。由于这些特性，低温等离子体被用于半导体制造和各种其他工业设备中。此外，等离子体技术无需化学物质即可清洁和消毒表面，安全性高，在
2022-05-17 16:41:13
关于举办2020年会-COMSOL半导体器件+等离子体+RF光电+电化学燃烧电池专题”的通知COMSOL Multiphysics 燃料电池、电化学模块1.电化学-热耦合方法2. 传质-导电-电化学
2019-12-10 15:24:57
uPD16305的性能特点是什么？uPD16305在等离子体显示器中有什么应用？
2021-06-04 06:54:10
)、HF 等，已广泛应用于湿法清洗工艺，以去除硅片表面上的光刻胶、颗粒、轻质有机物、金属污染物和天然氧化物。然而，随着硅电路和器件架构的规模不断缩小（例如从 VLSI 到 ULSI 技术），探索有效和可靠
2021-07-06 09:36:27
3.3 ICP 干蚀刻引入等离子体诱导损伤的证据3.4 概括 4. 结论 首次直接比较了 CMP 和干蚀刻 GaN 衬底表面处理方法，并通过实验比较了 GaN 衬底表面处理的优缺点，以了解这些技术
2021-07-07 10:26:01
大多数 III 族氮化物的加工都是通过干式等离子体蚀刻完成的。 干式蚀刻有几个缺点，包括产生离子诱导损伤 并且难以获得激光所需的光滑蚀刻侧壁。通过干法蚀刻产生的侧壁的粗糙度约为 50 nm，尽管最近
2021-07-07 10:24:07
的电极创造了一个射频电场。能量场将混合气体激发或等离子体状态。在激发状态，氟刻蚀二氧化硅，并将其转化为挥发性成分由真空系统排出。干法刻蚀的优点在于如下几个方面：刻蚀率、辐射损伤、选择性、微粒的产生、刻蚀后腐蚀和拥有成本优势。来源：网络，如侵删
2018-12-21 13:49:20
1. 低温等离子体及废气处理原理低温等离子体技术是一门涉及生物学、高能物理、放电物理、放电化学反应工程学、高压脉冲技术和环境科学的综合性学科，是治理气态污染物的关键技术之一，因其高效、低能耗、处理
2022-04-21 20:29:20
的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。等离子刻蚀刻机等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等
2018-09-03 09:31:49
使用等离子清洗技术清洗晶圆去除晶圆表面的有机污染物等杂质，但是同时在等离子产生过程中电极会出现金属离子析出，如果金属离子附着在晶圆表面也会对晶圆造成损伤，如果在使用等离子清洗技术清洗晶圆如何规避电极产生的金属离子？
2021-06-08 16:45:05
1.引言微波测量方法是将电磁波作为探测束入射到等离子体中，对等离子体特性进行探测，不会对等离子体造成污染。常规微波反射计也是通过测量电磁波在等离子体截止频率时的反射信号相位来计算等离子密度。当等离子
2019-06-10 07:36:44
【作者】：吕鹏;刘春芳;张潮海;赵永蓬;王骐;贾兴;【来源】：《强激光与粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源,给出了主电路拓扑结构,重点介绍了三级磁
2010-04-22 11:41:29
spec-troscopy,LIBS)是近年发展起来的一种基于激光与材料相互作用的物理学与光谱学交叉的物质组分定量分析技术[1-3]。其原理是利用聚焦的强激光束入射样品表面产生激光等离子体,等离子体辐射光谱含有被测物质的组分和组分全文下载
2010-04-22 11:33:27
等离子体NOX 脱除技术作为一种脱硝新工艺，受到世界各国的广泛关注。在叙述了等离子体脱硝的的两种反应机理、等离子体NOX 脱除的主要方法（电子束照射法、高压脉冲电晕法
2009-02-13 00:35:58
12 采用分层介质方法处理非均匀等离子体层，研究了电磁波射向覆盖磁化等离子体层的金属平板时电磁波的衰减特性。着重讨论Epstein密度分布的等离子体层，分析了等离子体电子密
2009-03-14 15:07:3426 主要分析了各种废水处理技术的优缺点，提出了一种新型等离子体处理废水的方案，说明了利用低温等离子体是一种新型的具有广阔应用前景的废水处理一体化技术。并对产生等离
2009-04-08 14:56:4035 介绍了一种利用光纤表面等离子体波传感器进行折射率测量的方法,并利用此方法对环氧树脂复合材料进行固化监测。对不同折射率的溶液进行了测试研究,并设计了一种用于折射率
2009-07-09 14:24:0421 本规范规定了数字电视等离子体显示器（以下简称PDP 显示器）功能和性能的技术要求，检验规则、标志、包装、运输、贮存等的基本要求。本规范适用于数字电视等离子体显示器
2009-08-21 22:31:237 一种大气微波环形波导等离子体设备:微波等离子体相对其它等离子体而言有很多的优点，具有极高的工业应用价值。但在大气条件下，大体积的微波等离子体较难获得
2009-10-29 13:59:3214 平面磁控阴极用于PEPC等离子体放电实验研究:平面磁控阴极用于大面积等离子体放电具有大幅降低放电电压和放电气压的优点，是PEPC首选的放电途径。通过对不同尺寸、
2009-10-29 14:07:5219 等离子体喷射X光时空分辨测量:在“神光”强激光装置上对0.53 μm 激光产生的等离子体喷射进行了X光时空分辩诊断。首次利用多针孔阵列成像技术结合软X光扫描相机观
2009-10-29 14:09:2416 斜辐照激光等离子体辐射X光子特性:在神光Ⅱ高功率激光装置上，实验研究了激光斜辐照形成的激光等离子体辐射X射线光子的特性及真空喷射热等离子体流的方向。采用
2009-10-29 14:11:3915 阳极化膜用于等离子体电光开关放电腔绝缘模拟研究:壳体金属化是等离子体电光开关实现阵列结构的必须，放电腔的绝缘是壳体金属化的技术关键和难点。分析了等离
2009-10-29 14:16:4215 本文研究了高频区等离子体包覆目标的RCS 可视化计算,将等离子体包覆目标的RCS计算分两部分完成，首先分析电磁波在等离子体中传播的折射衰减及碰撞衰减，将衰减后电磁波利
2009-12-30 17:10:4010 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准射频等离子体源 RF2100ICP Plasma Source上海伯东代理美国 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
以西门子S7-200PLC和TP170B触摸屏为主要控制元件,实现自动等离子体清洗系统的综合控制和管理。本文详细的阐述了此系统的硬件组成和软件设计。
2010-02-11 14:22:2233 行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 14:27:42
人类生活对能源的需求核聚变及受控核聚变原理等离子体约束的基本问题等离子体约束的各种模式等离子体输运与能量约束定标约束改善与边缘局域模控制总结和
2010-05-30 08:26:5614 以西门子S7-200PLC和TP170B触摸屏为主要控制元件,实现自动等离子体清洗系统的综合控制和管理。本文详细的阐述了此系统的硬件组成和软件设计。
2010-07-13 16:08:5323 摘要：以玻碳电极为基础电极，用微波等离子体技术聚合沉积聚乙二胺等离子体膜，使之形成带氨基功能团的表面。再通过戊二醛交联共价固定辣根过氧化物酶，制得H：02生物传
2010-12-30 21:35:4121 利用微波在介质表面激发出截止密度以上的等离子体，然后微波在介质与等离子体间形成表面波的传输，具有一定电场强度的表面波在其传输的范围内可生成和维持高密度的等离子
2010-07-29 11:00:011037 
等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质，它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存
2010-07-29 11:02:383997 离子注八材料表面陡性技术， 是材料科学发展的一个重要方面。文中概述7等离子体源离子注八技术的特点 基皋原理 应用效果。取覆等离子体源离子注八技术的发展趋势。例如， 除7在
2011-05-22 12:35:2948 等离子体模块是用于模拟低温等离子源或系统的专业工具。借助模块中预置的物理场接口，工程师或科学家可以探究物理放电机理或用于评估现有或未来设计的性能，例如直流放电、感应耦合等离子体、容性耦合等离子体、微波等离子体、表面气相沉积等。
2015-12-31 10:30:1557 Ag_TiO_2薄膜表面等离子体共振光谱特性研究_刘超
2017-03-19 18:58:180 等离子体天线因为等离子体独特的物理性质，在解决天线隐身和互耦方面有难以估量的发展潜力，是当今天线技术的一大进步。世界上不少大公司都在研究和开发等离子体天线。在跟踪和分析等离子体技术发展动态的基础上
2018-06-01 10:31:004425 放电等离子体有着非常广泛的实际工程应用价值，其内部温度特性是表征等离子体性质的一个重要参数。为了探明大气压下放电等离子体的气体温度空间分布特性参数，搭建了一套基于莫尔偏折原理的光学测试系统，对铜电极
2018-01-02 16:37:196 随着高压直流输电迅猛发展，绝缘材料在直流电压下表面电荷积聚现象严重威胁直流输电系统的安全可靠运行。为加快绝缘材料表面电荷的消散，采用大气压等离子体射流，以TEOS为前驱物，在环氧树脂表面沉积Si0
2018-01-16 11:07:443 对气体施加电压使之产生辉光放电的技术，或者称做等离子体技术，在医疗器械领域已经成为了一种解决表面预处理问题的有力工具。
2018-02-15 20:35:008250 
低温等离子体废气处理技术正越来越引起人们的重视，它是未来环保产业的重要发展方向。由于强温室气体SF6本身的理化特性，等离子体处理SF6面临着更多的挑战，目前该方面的研究综述鲜见。本文尝试根据国内外
2018-03-16 10:20:234 的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等，这在许多应用中都是非常重要的。 目前等离子清洗应用越来越广泛，国内外的使用者对等离子体清洗技术的要求也是越来越高。好的产品还需要专业的技术支持与维护!
2018-09-20 11:11:45458 人造等离子体。2.等离子清洗设备可应用于哪些方面？粘结材料或者按照您的需求改变表面特性。通过这种先进的技术，可以对各种表面作出修改。故此，其应用范围极为广泛，例如小型和微型部件的精密清洗；在胶结、上漆之前
2018-10-11 15:57:301875 然而，自从我开始自己阅读关于等离子体的在线资源以来，我身边来自cryptoeconomics Lab的专业等离子体研究人员为我提供了一种非常接近的方式，让完全的初学者可以从头开始学习等离子体。他们给我提供了一大堆文章的参考资料，我们可以按照正确的顺序阅读。
2019-01-16 11:19:46673 摘要：等离子技术在印制电路板行业中主要作为处理钻孔残胶的一种重要手段。文章介绍了PCB等离子清洗设备的维护方法。在等离子清洗设备在使用中，会遇到除胶清洗达不到要求、设备本身故障率异常等问题。如何保证
2020-09-24 10:52:297010 
的影响，引线框架置于等离子气体浓度高的位置清洗效果较好，引线拉力值 能获得更低的方差和更优的过程控制能力。 1前言 等离子清洗技术被广泛应用于电子、生物医药、珠宝制作、纺织等众多行业，由于各个行业的特殊性，需要针对行业需
2020-12-30 10:26:391199 机的原理吧! 等离子清洗机是利用等离子体内各种高能物质的活化作用，将附着在物体表面的污垢完全剥离掉。以等离子体作用于材料表面，使其产生一系列物理化学变化，利用其中含有的活性微粒和高能射线，与表面有机污染物分子发生反应，
2021-09-07 13:51:063388 等离子体位移快控电源设计(现代电源技术基础下载)-等离子体位移快控电源设计等离子体位移快控电源设计
2021-09-29 17:45:395 等离子清洗是通过使用称为等离子体的电离气体从物体表面去除所有有机物质的过程。这通常在使用氧气和/或氩气的真空室中进行。清洁过程是一种环境安全的过程，因为不涉及刺激性化学品。等离子体通常会在被清洁的表面上留下自由基，以进一步增加该表面的粘合性。
2021-12-22 14:35:074946 本文提供了用于蚀刻膜的方法和设备。一个方面涉及一种在衬底上蚀刻氮化硅的方法，该方法包括:(a)将氟化气体引入等离子体发生器并点燃等离子体以a形成含氟蚀刻溶液；(b)从硅源向等离子体提供硅；以及
2022-04-24 14:58:51979 
等离子清洗不仅可以大大提高引线框架的粘接性能和粘接强度，而且可以避免人为因素长期接触引线框架造成的二次污染。等离子清洗技术后，产品处理的结果通常通过水滴角或达因值来测量。下图是某企业硅光敏三极管等离子清洗技术前后水滴角的对比。
2022-06-29 16:12:218964 反应性离子蚀刻综合了离子蚀刻和等离子蚀刻的效果：其具有一定的各向异性，而且未与自由基发生化学反应的材料会被蚀刻。首先，蚀刻速率显著增加。通过离子轰击，基材分子会进入激发态，从而更加易于发生反应。
2022-09-19 15:17:553386 在半导体行业，晶圆是用光刻技术制造和操作的。蚀刻是这一过程的主要部分，在这一过程中，材料可以被分层到一个非常具体的厚度。当这些层在晶圆表面被蚀刻时，等离子体监测被用来跟踪晶圆层的蚀刻，并确定等离子体
2022-09-21 14:18:37694 
等离子清洗的反应机理如图 1 所示，通常包括 以下过程：反应气体被离解为等离子体；等离子体作 用于固体表面分子反应生成产物分子；产物分子与 残余物脱离固体表面。由于等离子体中的电子、离 子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易与固 体表面发生反应，这种反应可分为物理的或化学的。
2023-02-10 13:50:39972 近年来，等离子体技术的使用范围正在不断扩大。在半导体制造、杀菌消毒、医疗前线等诸多领域，利用等离子体特性的应用不断壮大。CeraPlas® 是TDK 开发的等离子体发生器，与传统产品相比，它可以在紧凑的封装中产生低温等离子体*1，并具有更低的功耗。它有望促进各种设备的开发，使离子体技术更容易使用。
2023-02-27 17:54:38746 
氧等离子体和氢等离子体都可用于蚀刻石墨烯。两种石墨烯气体等离子刻蚀的基本原理是通过化学反应沿石墨烯的晶面进行刻蚀。不同的是，氧等离子体攻击碳碳键后形成一氧化碳、二氧化碳等挥发性气体，而氢等离子体则形成甲烷气体并与之形成碳氢键。
2022-06-21 14:32:25391 
如何直观地识别旋转瓶等离子玻璃清洗器对泳镜表面的处理效果？让我们看看等离子清洗机前后镜片外观达因值的变化。测量未经等离子清洗机处理过的镜片的达因值。可以看到达因值小于 36 达因，镜面能量
2022-06-23 10:38:24325 
低温等离子体清洗机可以提高含氟材料的亲水性，改善含氟材料与太阳能封装膜乙烯-醋酸乙烯共聚物(EVA)的结合功能，为太阳能电池提供稳定有用的保护。
经金徕低温等离子清洗机处理
2022-06-28 14:57:00368 
等离子体清洗技术自问世以来，随着电子等行业的快速发展，其应用范围逐渐扩大，用于活化蚀刻和等离子体清洗，以提高胶粘剂的粘接性能。
2022-07-04 16:09:18433 
腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。
2022-07-08 10:17:512036 
根据金徕的研究，火焰等离子设备的表面改性技术是一种非常先进的清洗技术，简而言之就是等离子中各种活性粒子相互碰撞而使等离子与材料表面相互作用的过程。材料面层进一步提高了材料面层的性能。
2022-07-13 11:04:32759 
等离子体表面处理具有时间敏感性，增加的表面能需要针对客户特定的产品和工艺进行测试。遗憾的是，我们无法改善plasma清洗后的确切有效期。因为等离子体清洗是一个物理化学变化的过程，产品不同，工艺不同，产品暴露在空气中，材料表面的活性分子容易与其他物质发生化学变化，所以金徕不能给出时效的标准答案。
2022-08-03 10:37:171501 
大家都知道，目前等离子表面处理工艺应用于LCD、LED、IC、PCB、SMT、BGA、引线框、平板显示器的清洗和蚀刻等领域。等离子表面清洗IC可以显着提高导线耦合强度，降低电路故障的可能性。溢出
2022-09-27 10:05:05892 
铝金属材料的等离子体表面处理可以消除原材料表面的微观污染物、氧化物等成分。等离子清洗机因其工作效率高、操作方便等优点，在该领域得到了广泛的应用。
2022-09-29 14:34:39582 
使用等离子清洗机清洗液晶玻璃，可以去除杂质颗粒，提高材料表面能，产品良率提高一个数量级。同时，由于射流低温等离子体是电中性的，在处理过程中保护膜、ITO膜和偏振滤光片都不会受到损伤。
2022-10-19 11:37:55453 
等离子清洗机的出现解决了传统电缆电线喷码的问题。
低温等离子体主要用于轰击材料表面。材料表面分子的化学键打开，与等离子体中的自由基结合，在材料表面形成极性基团。简单来说，金徕等离子清洗机可以有效提高材料表面的附着力。电线电缆经过等离子清洗机处理后，喷涂印刷时油漆不会脱落。
2022-10-24 09:34:57421 
金徕常压等离子体技术与其他表面处理方法相比有哪些主要优点?
与其他表面活化方法相比，最主要优点是具有高效率。 等离子体系统能够非常容易地集成到现有生产线里，它环保，节约空间，还具有低运行成本的优势。
2022-10-26 09:48:12335 
都使用Cl基蚀刻化学物质。当在等离子体放电中分解时，CCl为还原物质提供了来源，并用于去除表面氧化物和Cl，与下面的Al反应。
2023-06-27 13:24:11318 
使用德国析塔FluoScan 3D自动表面污染物检测仪检测不锈钢等离子清洗后表面的油污清洗，对不锈钢等离子清洗效果进行评估。翁开尔是德国析塔中国独家代理。
2022-06-27 11:48:08363 
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分，随着微电子技术的发展，等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用，讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。
2023-10-18 17:42:36447 
技术开发了一种基于局部表面等离子体成像的新成像技术，可以检测直径小于25纳米的粒子。 研究人员将该技术称为PANORAMA(超近场调制等离子体纳米孔径无标记成像)。与其他基于等离子体的成像技术相比，PANORAMA利用局域化等离子体效应
2023-11-27 06:35:23121 基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294 
01、重点和难点 等离子体通常被认为是物质的第四态，除了固体、液体和气体之外的状态。等离子体是一种高能量状态的物质，其中原子或分子中的电子被从它们的原子核中解离，并且在整个系统中自由移动。这种状态
2023-12-26 08:26:29209 
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