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电子发烧友网>今日头条>金属蚀刻残留物对对等离子体成分和均匀性的影响

金属蚀刻残留物对对等离子体成分和均匀性的影响

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一种穿过衬底的通孔蚀刻工艺

通过使用多级等离子体蚀刻实验设计、用于蚀刻后光致抗蚀剂去除的替代方法,以及开发自动蚀刻后遮盖物去除顺序;一种可再现的基板通孔处理方法被集成到大批量GaAs制造中。对于等离子体蚀刻部分,使用光学显微镜
2022-06-23 14:26:57516

适用于清洁蚀刻残留物的定制化学成分(1)

了由氧化钽和类似材料的等离子体图案化产生的残留物,同时保持了金属和电介质的兼容性。这进一步表明,这种溶液的基本优点可以扩展到其它更传统的蚀刻残留物的清洗,而不牺牲相容性,如通过对覆盖膜的测量和通过SEM数据所证明
2022-06-23 15:56:541073

什么是等离子蚀刻 等离子蚀刻应用用途介绍

反应性离子蚀刻综合了离子蚀刻等离子蚀刻的效果:其具有一定的各向异性,而且未与自由基发生化学反应的材料会被蚀刻。首先,蚀刻速率显著增加。通过离子轰击,基材分子会进入激发态,从而更加易于发生反应。
2022-09-19 15:17:553386

精确跟踪芯片蚀刻过程,用高分辨率光谱仪监测等离子体

在半导体行业,晶圆是用光刻技术制造和操作的。蚀刻是这一过程的主要部分,在这一过程中,材料可以被分层到一个非常具体的厚度。当这些层在晶圆表面被蚀刻时,等离子体监测被用来跟踪晶圆层的蚀刻,并确定等离子体
2022-09-21 14:18:37694

金属加工液机床表面残留物的解决方法

  金属加工液的主要功能之一是为零件提供工序间的防锈性,这通过在金属表面留下的防锈膜来完成。所以,这里要讨论的不是金属加工液是否留下残留物,而是残留物是否是有目的地留下的。
2022-11-25 09:17:091024

低温等离子体技术的应用

近年来,等离子体技术的使用范围正在不断扩大。在半导体制造、杀菌消毒、医疗前线等诸多领域,利用等离子体特性的应用不断壮大。CeraPlas® 是TDK 开发的等离子体发生器,与传统产品相比,它可以在紧凑的封装中产生低温等离子体*1,并具有更低的功耗。它有望促进各种设备的开发,使离子体技术更容易使用。
2023-02-27 17:54:38746

真空等离子清洗机的制造商正在引入氧和氢等离子体蚀刻石墨烯

等离子体和氢等离子体都可用于蚀刻石墨烯。两种石墨烯气体等离子刻蚀的基本原理是通过化学反应沿石墨烯的晶面进行刻蚀。不同的是,氧等离子体攻击碳碳键后形成一氧化碳、二氧化碳等挥发性气体,而氢等离子体则形成甲烷气体并与之形成碳氢键。
2022-06-21 14:32:25391

低温等离子体表面处理设备在各种材料领域的应用

等离子体清洗技术自问世以来,随着电子等行业的快速发展,其应用范围逐渐扩大,用于活化蚀刻等离子体清洗,以提高胶粘剂的粘接性能。
2022-07-04 16:09:18433

等离子表面处理工艺特点及优势

的树脂、残留的光刻胶、溶液残留物和其他有机污染物暴露在等离子体区域,在短时间内它将被清除。PCB制造商使用等离子处理去除钻孔中的污垢和绝缘。对于很多产品而言,无论是用
2022-09-27 10:05:05892

等离子体蚀刻率的限制

随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm,铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻,我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压,但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11318

等离子体清洗工艺的关键技术 等离子体清洗在封装生产中的应用

等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分,随着微电子技术的发展,等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用,讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。
2023-10-18 17:42:36447

无标记等离子体纳米成像新技术

  一种使用等离子体激元的新型成像技术能够以增强的灵敏度观察纳米颗粒。休斯顿大学纳米生物光子学实验室的石伟川教授和他的同事正在研究纳米材料和设备在生物医学、能源和环境方面的应用。该小组利用等离子体
2023-11-27 06:35:23121

针对氧气(O2)和三氯化硼(BCl3)等离子体进行原子层蚀刻的研究

基于GaN的高电子迁移率,晶体管,凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度,应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言,GaN的相关材料,如AlGaN,凭借其物理和化学稳定性,为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294

电感耦合等离子刻蚀

众所周知,化合物半导体中不同的原子比对材料的蚀刻特性有很大的影响。为了对蚀刻速率和表面形态的精确控制,通过使用低至25nm的薄器件阻挡层的,从而增加了制造的复杂性。本研究对比了三氯化硼与氯气的偏置功率,以及气体比对等离子体腐蚀高铝含量AlGaN与AlN在蚀刻速率、选择性和表面形貌方面的影响。
2023-12-15 14:28:30227

掀起神秘第四态的面纱!——等离子体羽流成像

01、重点和难点 等离子体通常被认为是物质的第四态,除了固体、液体和气体之外的状态。等离子体是一种高能量状态的物质,其中原子或分子中的电子被从它们的原子核中解离,并且在整个系统中自由移动。这种状态
2023-12-26 08:26:29209

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