刻蚀机

刻蚀机知识

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  芯明天压电纳米技术如何帮助刻蚀机打造精度天花板

  在半导体制造流程中，每一块纳米级芯片的诞生，背后都是一场在原子层面展开的极致精密较量。而在这场微观世界的“精密之战”中，

  2025-07-17 标签： 纳米 压电 刻蚀机 503 0

• 中微公司ICP双台刻蚀机Primo Twin-Star®取得亚埃级刻蚀精度

  近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，股票代码“688012.SH”）宣布通过不断提升反应台之

  2025-03-26 标签： 半导体 ICP 刻蚀机 1347 0

• 湿法刻蚀步骤有哪些

  说到湿法刻蚀了，这个是专业的技术。我们也得用专业的内容才能给大家讲解。听到这个工艺的话，最专业的一定就是讲述湿法刻蚀步骤

  2024-12-13 标签： 刻蚀设备 刻蚀工艺 刻蚀机 1291 0

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  上海伯东IBE离子束刻蚀机优势

  上海伯东 IBE 离子束刻蚀机可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料。是一种干法物理纳米级别的刻蚀， 刻蚀均匀性

  2024-11-27 标签： 离子束 刻蚀机 1126 0

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  刻蚀机是干什么用的 刻蚀机和光刻机的区别

  刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似，先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜，再将掩膜与待加工物料模组装好，将样品置于刻蚀室内

  2024-03-11 标签： 芯片制造 光刻 光刻机 16209 0

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  基于两步刻蚀工艺的锥形TSV制备方法研究

  以硅通孔（TSV）为核心的 2.5D/3D 封装技术可以实现芯片之间的高速、低功耗和高带宽的信号传输。

  2024-02-25 标签： 晶圆 信号传输 电感耦合 2678 0

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  如何调控BOSCH工艺深硅刻蚀？影响深硅刻蚀的关键参数有哪些？

  影响深硅刻蚀的关键参数有：气体流量、上电极功率、下电极功率、腔体压力和冷却器。

  2024-02-25 标签： 晶圆 冷却器 刻蚀机 5678 0

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  干法刻蚀常用设备的原理及结构

  干法刻蚀技术是一种在大气或真空条件下进行的刻蚀过程，通常使用气体中的离子或化学物质来去除材料表面的部分，通过掩膜和刻蚀参

  2024-01-20 标签： 等离子体 晶圆 刻蚀机 15561 0

• 浅谈Micro OLED生产环节

  OLED制程。①OLED阳极。②蒸镀OLED器件。蒸镀和传统OLED不一样，没有这么密的mask，需要先白光，再加滤光。

  2023-12-04 标签： OLED 光刻 Micro OLED 5654 0

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  射频电源结构及应用分析

  主流射频电源频率包括为400KHz、2MHz、13.56MHz、27.12MHz、40MHz和60MHz等。射频电源由于

  2023-11-30 标签： 集成电路 NAND DC-DC 13426 0

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