尚未实施,以及 IC 厂库存水位偏低、智慧手机进入销售旺季,加上 AI 需求持续强等因素,晶圆代工厂产能利用率并未如预期下修,晶圆厂第三季表现可能更胜预期。 截止11月13日,全球晶圆代工大厂台积电、联电、中芯国际纷纷发布第三季度财报,本文将重点
2025-11-16 00:19:00
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晶圆清洗的核心原理是通过 物理作用、化学反应及表面调控的协同效应 ,去除晶圆表面的颗粒、有机物、金属离子及氧化物等污染物,同时确保表面无损伤。以下是具体分析: 一、物理作用机制 超声波与兆声波清洗
2025-11-18 11:06:19
200 近日,美国亚利桑那州凤凰城的台积电 Fab 21 晶圆厂内,一块承载全球 AI 产业期待的特殊晶圆正式下线 —— 这是首片在美国本土制造的英伟达 Blackwell 芯片晶圆。英伟达 CEO 黄仁勋
2025-10-22 17:21:52
702 SPI使用单工模式通讯
本帖子演示AT32F403Axx SPI使用单工模式通讯,其余系列使用方式与此类似。注:本示例代码是基于雅特力提供的V2.x.x板级支持包(BSP)而开发,对于其他版本
2025-10-20 16:24:15
马兰戈尼干燥原理通过独特的流体力学机制显著提升了晶圆制造过程中的干燥效率与质量,但其应用也需精准调控以避免潜在缺陷。以下是该技术对晶圆制造的具体影响分析:正面影响减少水渍污染与残留定向回流机制:利用
2025-10-15 14:11:06
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一、引言
玻璃晶圆总厚度偏差(TTV)是衡量晶圆质量的关键指标,其精确分析对半导体制造、微流控芯片等领域至关重要 。传统 TTV 厚度数据分析方法依赖人工或简单算法,效率低且难以挖掘数据潜在规律
2025-10-11 13:32:41
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再生晶圆与普通晶圆在半导体产业链中扮演着不同角色,二者的核心区别体现在来源、制造工艺、性能指标及应用场景等方面。以下是具体分析:定义与来源差异普通晶圆:指全新生产的硅基材料,由高纯度多晶硅经拉单晶
2025-09-23 11:14:55
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WD4000晶圆BOW值弯曲度测量系统兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV
2025-09-18 14:03:57
在半导体产业飞速发展的今天,芯片质量的把控至关重要。浙江季丰电子科技有限公司嘉善晶圆测试厂(以下简称嘉善晶圆测试厂)凭借在 CP(Chip Probing,晶圆测试)测试领域的深厚技术积累与创新突破,持续为全球芯片产业链提供坚实可靠的品质保障,深受客户的信任与好评。
2025-09-05 11:15:03
1032 WD4000晶圆厚度翘曲度测量系统兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV
2025-08-25 11:29:30
WD4000晶圆显微形貌测量系统通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。WD4000晶圆显微
2025-08-20 11:26:59
WD4000晶圆膜厚测量系统通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。WD4000晶圆膜厚测量
2025-08-12 15:47:19
半导体制造国产化浪潮中,晶圆传输效率直接制约产线吞吐量。传统机械臂传输存在振动大、精度低的缺陷,而直线电机驱动的EFEM(设备前端模块)凭借高速平滑运动,将晶圆交接时间缩短至0.8秒内,同时定位精度提升至微米级,成为12英寸晶圆厂优选方案。
2025-08-06 14:43:38
697 WD4000晶圆THK测量设备兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW
2025-07-28 15:38:44
晶圆清洗工艺是半导体制造中的关键步骤,用于去除晶圆表面的污染物(如颗粒、有机物、金属离子和氧化物),确保后续工艺(如光刻、沉积、刻蚀)的良率和器件性能。根据清洗介质、工艺原理和设备类型的不同,晶圆
2025-07-23 14:32:16
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晶圆清洗机中的晶圆夹持是确保晶圆在清洗过程中保持稳定、避免污染或损伤的关键环节。以下是晶圆夹持的设计原理、技术要点及实现方式: 1. 夹持方式分类 根据晶圆尺寸(如2英寸到12英寸)和工艺需求,夹持
2025-07-23 14:25:43
928 不同晶圆尺寸的清洗工艺存在显著差异,主要源于其表面积、厚度、机械强度、污染特性及应用场景的不同。以下是针对不同晶圆尺寸(如2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸等)的清洗区别及关键要点:一、晶圆
2025-07-22 16:51:19
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Wafer Acceptance Test (WAT) 是晶圆制造中确保产品质量和可靠性的关键步骤。它通过对晶圆上关键参数的测量和分析,帮助识别工艺中的问题,并为良率提升提供数据支持。在芯片项目的量产管理中,WAT是您保持产线稳定性和产品质量的重要工具。
2025-07-17 11:43:31
2774 楷登电子(美国 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布扩大与三星晶圆代工厂的合作,包括签署一项新的多年期 IP 协议,在三星晶圆代工厂的 SF4X、SF5A 和 SF2P 先进节点
2025-07-10 16:44:04
918 WD4000晶圆厚度THK几何量测系统兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV
2025-07-10 13:42:33
超薄晶圆因其厚度极薄,在切割时对振动更为敏感,易影响厚度均匀性。我将从分析振动对超薄晶圆切割的影响出发,探讨针对性的振动控制技术和厚度均匀性保障策略。
超薄晶圆(
2025-07-09 09:52:03
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性的影响机制,并提出有效抑制方法,是提升晶圆加工精度、推动半导体产业高质量发展的关键所在。
二、振动 - 应力耦合效应对晶圆厚度均匀性的影响
2.1 振动引发
2025-07-08 09:33:33
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6月24日消息,市场调研机构Counterpoint Research最新公布的研究报告指出, 2025年第一季,全球晶圆代工2.0(Foundry 2.0)市场营收达720亿美元,较去年同期增长
2025-06-25 18:17:41
438 并购重组审核委员会审议通过,后续尚需取得中国证监会同意注册的决定后方可实施。 芯联集成是全球领先的集成电路晶圆代工企业之一,根据ChipInsights发布的《2024年全球专属晶圆代工排行榜》,芯联集成跻身2024年全球专属晶圆代工榜单前十,中
2025-06-25 18:11:40
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将从技术原理、核心特点、应用场景到行业趋势,全面解析这一设备的技术价值与产业意义。一、什么是晶圆载具清洗机?晶圆载具清洗机是针对半导体制造中承载晶圆的载具(如载具
2025-06-25 10:47:33
键设备的技术价值与产业意义。一、晶圆湿法清洗:为何不可或缺?晶圆在制造过程中会经历多次光刻、刻蚀、沉积等工艺,表面不可避免地残留光刻胶、金属污染物、氧化物或颗粒。这些污染
2025-06-25 10:26:37
WD4000晶圆厚度测量设备兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW
2025-06-18 15:40:06
WD4000无图晶圆厚度翘曲量测系统可广泛应用于衬底制造、晶圆制造、及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示面板、MEMS器件等超精密加工行业。可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到
2025-06-16 15:08:07
摘要:本文探讨晶圆边缘 TTV 测量在半导体制造中的重要意义,分析其对芯片制造工艺、器件性能和生产良品率的影响,同时研究测量方法、测量设备精度等因素对测量结果的作用,为提升半导体制造质量提供理论依据
2025-06-14 09:42:58
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晶圆检测是指在晶圆制造完成后,对晶圆进行的一系列物理和电学性能的测试与分析,以确保其质量和性能符合设计要求。这一过程是半导体制造中的关键环节,直接影响后续封装和芯片的良品率。 随着图形化和几何结构
2025-06-06 17:15:28
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贴膜是指将一片经过减薄处理的晶圆(Wafer)固定在一层特殊的胶膜上,这层膜通常为蓝色,业内常称为“ 蓝膜 ”。贴膜的目的是为后续的晶圆切割(划片)工艺做准备。
2025-06-03 18:20:59
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WD4000无图晶圆粗糙度测量设备通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。自动测量Wafer
2025-06-03 15:52:50
体现在技术壁垒和产业核心地位,更在于推动全球电子设备小型化、智能化及新兴领域(如AI、自动驾驶)的发展。晶圆技术的持续创新,是半导体行业进步的核心驱动力之一。
2025-05-28 16:12:46
(TTV)及分析反映表面质量的2D、3D参数。WD4000系列Wafer晶圆厚度量测系统通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度
2025-05-27 13:54:33
)增大,影响器件性能与良品率。因此,探索提高键合晶圆 TTV 质量的方法,对推动半导体产业发展具有重要意义。 二、提高键合晶圆 TTV 质量的方法 2.1 键合前晶圆处理 键合前对晶圆的处理是提高 TTV 质量的基础。首先,严格把控晶圆表面平整度,采
2025-05-26 09:24:36
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摘要:本文针对湿法腐蚀工艺后晶圆总厚度偏差(TTV)的管控问题,探讨从工艺参数优化、设备改进及检测反馈机制完善等方面入手,提出一系列优化方法,以有效降低湿法腐蚀后晶圆 TTV,提升晶圆制造质量
2025-05-22 10:05:57
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摘要:本文聚焦于降低晶圆 TTV(总厚度偏差)的磨片加工方法,通过对磨片设备、工艺参数的优化以及研磨抛光流程的改进,有效控制晶圆 TTV 值,提升晶圆质量,为半导体制造提供实用技术参考。 关键词:晶
2025-05-20 17:51:39
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、等反应表面形貌的参数。通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕
2025-05-20 14:02:17
前言在半导体制造的前段制程中,晶圆需要具备足够的厚度,以确保其在流片过程中的结构稳定性。尽管芯片功能层的制备仅涉及晶圆表面几微米范围,但完整厚度的晶圆更有利于保障复杂工艺的顺利进行,直至芯片前制程
2025-05-16 16:58:44
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全球第3大半导体晶圆供应商环球晶美国德州新厂(GWA)将于5月15日落成启用,将成为美国首座量产12吋先进制程硅晶圆的制造厂,并可望在今年下半年贡献营收。 环球晶圆董事长徐秀兰表示:“德州新厂
2025-05-13 18:16:08
1574 在半导体制造流程中,晶圆在前端工艺阶段需保持一定厚度,以确保其在流片过程中的结构稳定性,避免弯曲变形,并为芯片制造工艺提供操作便利。不同规格晶圆的原始厚度存在差异:4英寸晶圆厚度约为520微米,6
2025-05-09 13:55:51
1975 圆片级封装(WLP),也称为晶圆级封装,是一种直接在晶圆上完成大部分或全部封装测试程序,再进行切割制成单颗组件的先进封装技术 。WLP自2000年左右问世以来,已逐渐成为半导体封装领域的主流技术,深刻改变了传统封装的流程与模式。
2025-05-08 15:09:36
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本文介绍了半导体集成电路制造中的晶圆制备、晶圆制造和晶圆测试三个关键环节。
2025-04-15 17:14:37
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在半导体行业中,晶圆的良品率是衡量制造工艺及产品质量的关键指标。提高晶圆良品率不仅可以降低生产成本,还能提高产品的市场竞争力。Keithley 6485静电计作为一种高精度的电测量设备,其对静电放电
2025-04-15 14:49:13
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WD4000晶圆表面形貌量测系统通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。 
2025-04-11 11:11:00
、等反应表面形貌的参数。通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划
2025-03-19 17:36:45
芯片制造的画布 芯片制造的画布:晶圆的奥秘与使命 在芯片制造的宏大舞台上,晶圆(Wafer)扮演着至关重要的角色。它如同一张洁白的画布,承载着无数工程师的智慧与梦想,见证着从砂砾到智能的奇迹之旅。晶
2025-03-10 17:04:25
1543 WD4000晶圆翘曲度几何量测系统兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。仪器通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV
2025-03-07 16:19:24
WD4000晶圆几何形貌量测机通过非接触测量,自动测量 Wafer 厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW
2025-02-21 14:09:42
据媒体最新报道,韩国三星电子的晶圆代工部门已正式解除位于平泽园区的晶圆代工生产线的停机状态,并计划在今年6月将产能利用率提升至最高水平。这一举措标志着三星在应对市场波动、调整产能策略方面迈出了重要一步。
2025-02-18 15:00:56
1163 在制造的各个阶段中,都有可能会引入导致芯片成品率下降和电学性能降低的物质,这种现象称为沾污,沾污后会使生产出来的芯片有缺陷,导致晶圆上的芯片不能通过电学测试。晶圆表面的污染物通常以原子、离子、分子、粒子、膜等形式存在,再通过物理或化学的方式吸附在晶圆表面或是晶圆自身的氧化膜中。
2025-02-13 14:41:19
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WD4000高精度晶圆厚度几何量测系统兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV
2025-02-11 14:01:06
2024年,全球晶圆代工市场迎来了强劲的增长势头,年增长率高达22%。这一显著增长主要得益于人工智能(AI)技术的快速发展和半导体需求的持续复苏。 在过去的一年里,全球代工行业经历了强劲的复苏和扩张
2025-02-11 09:43:15
910 据三星电子晶圆代工业务制定的年度计划显示,该部门今年的设备投资预算将大幅缩减至5万亿韩元(约合253.55亿元人民币)。与2024年的10万亿韩元相比,今年的投资预算直接砍半,显示出三星电子在晶圆
2025-02-08 15:35:58
933 根据市场分析企业Counterpoint在近日发布的报告,晶圆代工行业将在2025年迎来显著增长,整体收入预计将实现20%的增幅。这一预测基于多种因素的综合考量,特别是先进制程需求的激增以及AI在数据中心与边缘领域的快速导入。
2025-02-08 15:33:22
1025 来自于先进制程需求的激增,受AI应用加速导入数据中心与边缘计算所驱动。而晶圆代工领头羊台积电则凭借5/4nm与3nm先进制程的强劲需求,抓住市场机会,加上CoWoS等先进封装技术的发展,也进一步助推产业增长。 而报告还指出,晶圆代工产业将在2025年挑战20%的营收增长,其中AI需求持
2025-02-07 17:58:44
920 在半导体制造的复杂流程中,晶圆历经前道工序完成芯片制备后,划片工艺成为将芯片从晶圆上分离的关键环节,为后续封装奠定基础。由于不同厚度的晶圆具有各异的物理特性,因此需匹配不同的切割工艺,以确保切割效果与芯片质量。
2025-02-07 09:41:00
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据外媒报道,三星计划在2025年对其晶圆代工部门进行大规模的投资削减。据悉,该部门的设备投资预算将从2024年的10万亿韩元锐减至5万亿韩元,削减幅度高达50%。
2025-01-24 14:05:29
961 近日,三星电子宣布了一项重大决策,将大幅削减其晶圆代工部门在2025年的设施投资。据透露,与上一年相比,此次削减幅度将超过一半。 具体来说,三星晶圆代工已将2025年的设施投资预算定为约5万亿韩元
2025-01-23 14:36:19
859 在半导体制造领域,晶圆作为芯片的基础母材,其质量把控的关键环节之一便是对 BOW(弯曲度)的精确测量。而在测量过程中,特氟龙夹具的晶圆夹持方式与传统的真空吸附方式有着截然不同的特性,这些差异深刻影响
2025-01-21 09:36:24
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在半导体制造领域,晶圆的加工精度和质量控制至关重要,其中对晶圆 BOW(弯曲度)和 WARP(翘曲度)的精确测量更是关键环节。不同的吸附方案被应用于晶圆测量过程中,而晶圆的环吸方案因其独特
2025-01-09 17:00:10
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晶圆是集成电路、功率器件及半导体分立器件的核心原材料,超过90%的集成电路均在高纯度、高品质的晶圆上制造而成。晶圆的质量及其产业链供应能力,直接关乎集成电路的整体性能和竞争力。今天我们将详细介绍
2025-01-09 09:59:26
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。在此之前,皖芯集成的注册资本仅为5000.01万元。 本次增资完成后,晶合集成持有皖芯集成的股权比例变更为43.75%,仍为第一大股东。 据TrendForce公布的24Q1全球晶圆代工厂商营收排名,晶合集成位居全球前九,是中国大陆本土第三的晶圆代工厂商。
2025-01-07 17:33:09
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WD4000半导体晶圆几何表面形貌检测设备兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度
2025-01-06 14:34:08
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