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抛光

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抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。

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复杂曲面零件超精密抛光

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什么是抛光工艺

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碳化硅衬底和MEMS晶圆的研磨抛光技术立即下载

类别：电子资料 2023-02-20 标签：mems 碳化硅抛光 625 0

化学机械抛光CMP技术的发展应用及存在问题立即下载

类别：工控技术 2021-04-09 标签：机械 CMP 抛光 1.1k 0

硅抛光片(CMP)市场和技术现状立即下载

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铜电致化学抛光机理及性能立即下载

类别：机电一体化技术论文 2018-02-04 标签：抛光 1.3k 0

抛光对光纤连接器回波损耗的影响立即下载

类别：无线通信 2012-04-10 标签：光纤连接器抛光回波损耗 1.3k 0

基于PLC技术的机器人自由曲面抛光控制立即下载

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抛光资讯

半导体国产替代材料 | CMP化学机械抛光（Chemical Mechanical Planarization）

一、CMP工艺与抛光材料的核心价值化学机械抛光（ChemicalMechanicalPlanarization，CMP）是半导体制造中实现晶圆表面全局平...

2025-07-05 标签：半导体材料 CMP 6.2k 0

全球CMP抛光液大厂突发断供？附CMP抛光材料企业盘点与投资逻辑（21361字）

(CMP)DSTlslurry断供：物管通知受台湾出口管制限制，Fab1DSTSlury(料号:M2701505,AGC-TW)暂停供货，存货仅剩5个月...

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特思迪:金刚石加工的革新者,精密磨抛技术深度探索

获悉，近日，北京特思迪半导体设备有限公司销售总监梁浩先生出席了由DT新材料主办的“第八届国际碳材料大会暨产业展览会”，并分享了《精密磨抛技术在金刚石材料...

2025-02-20 标签：金刚石抛光 1.8k 0

研磨与抛光:半导体超精密加工的核心技术

半导体制造是典型的“精度至上”领域，尤其在前道晶圆加工和后道封装环节中，研磨（Grinding）与抛光（Polishing）技术直接决定了器件的性能和良...

2025-02-14 标签：半导体抛光精密加工 2.6k 0

SK海力士研发可重复使用CMP抛光垫技术

需要指出的是，CMP 技术通过化学与机械作用使得待抛光材料表面达到所需平滑程度。其中，抛光液中化学物质与材料表面发生化学反应，生成易于抛光的软化层。抛光...

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神工股份：硅零部件业务订单饱满，是北方华创和中微公司供应商

潘连胜表示：“神工股份公司的硅配件产品在生产能力计划、研究开发能力、技术储备、顾客普及等方面处于国内领先水平。”目前，这项工作仍处于产能提高和业务拓展阶...

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芯秦微获A+轮融资，用于化学机械抛光液产线建设

化学机械抛光（CMP）是目前最主流的晶圆抛光技术，抛光过程中，晶圆厂会根据每一步晶圆芯片平坦度的加工要求，选择符合去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）等...

2023-11-16 标签：半导体机械晶圆厂 1k 0

CMP抛光液市场高速增长，到2023年市场规模将达到25亿美元

得益于半导体业界的繁荣，世界cmp抛光液市场正在经历明显的增长。cmp抛光液是半导体制造中的关键成分，在实现集成电路制造的精度和效率方面发挥了关键作用。...

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机器人复杂曲面打磨抛光主轴全自动高精度打磨很简单

速科德Kasite打磨抛光主轴主要对高精度零件的加工处理，如汽车零部件、光纤接插件陶瓷加工、义齿加工雕铣等行业。这些高精度零件如果在抛光打磨过程中稍有误...

2023-05-29 标签：机器人电主轴抛光 2.2k 0

如何让自动抛光设备达到理想的抛光效果

一、自动抛光机的抛光效果因素自动抛光机的抛光效果取决于多个因素，除了自动抛光机本身的质量以外，还包括使用工艺、选用什么样的抛光辅料，要抛光物件材质，操作...

2023-05-05 标签：设备抛光 2.4k 0

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