化学机械平坦化(cmp)抛光液市场从2023年开始到2033年为止,将显示出年均7.7%的复合增长率,预计到2023年将达到25亿美元。
得益于半导体业界的繁荣,世界cmp抛光液市场正在经历明显的增长。cmp抛光液是半导体制造中的关键成分,在实现集成电路制造的精度和效率方面发挥了关键作用。随着技术的发展,半导体的格局不断重新形成,对cmp抛光液的需求从来没有这么高过。
据分析,被认为是现代技术支柱的半导体最近正在迅速崛起。随着智能手机的扩散、物联网的崛起、人工智能应用的增加等,对更小、更快、更强的微芯片的需求剧增,半导体制造企业开始超越了界限。为了制造更先进的芯片,cmp抛光带来精度、生产效率和技术效率的提高是非常重要的。
据分析机构预测,特别是在半导体市场上,随着北美的主导,cmp抛光液的需求增加,北美正在引领世界半导体市场,微电子芯片制造公司等对cmp抛光的需求也将增加。
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