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半导体“化学气相沉积(CVD)碳化硅(Sic)”工艺技术详解;
【博主简介】本人“ 爱在七夕时 ”,系一名半导体行业质量管理从业者,旨在业余时间不定期的分享半导体行业中的:产品质量、失效分析、可靠性分析和产品基础应用...
进行MEMS制造的最基本需求是能够沉积1到100微米之间的材料薄膜。NEMS的制造过程是基本一致的,膜沉积的测量范围从几纳米到一微米。
首先,沉积四乙基原硅酸盐氧化物(即使用正硅酸乙酯TEOS前驱的CVD氧化物,简称TEOS-ox)和氮化硅的复合层,并对TEOS-ox和氮化硅进行等离子体...
随着科技的不断发展,金刚石在许多领域中都展现出了巨大的应用潜力。其中,化学气相沉积(CVD)金刚石由于其独特的物理和化学性质,尤其在机械密封领域中有着广...
其中,AB是分子,而A和B是由分解碰撞产生的自由基,自由基至少带有一个不成对的电子, 因此并不稳定。自由基在化学上非常活跃,能夺取其他原子或分子的电子形...
开发高稳定性储能系统是解决未来能源问题的重要方法。传统锂离子电池由于其使用易燃有机液体电解质,安全问题严峻,而使用固态电解质(SSEs)代替液态有机电解...
金刚石具有低密度、高弹性模量、高强度、高热导率、化学惰性和生物相容性等优异特性,在声学领域主要应用于高保真喇叭、声表面波器件、声传感器等。
Aston Impact 高灵敏度质谱分析仪 CVD 清洗终点优化
上海伯东日本 Atonarp Aston Impact 高灵敏度质谱分析仪, 基于四级杆的质量分离, Aston 质谱分析仪设计紧凑, 适用于气体分析和...
PIC16F18026/46:功能丰富的14/20引脚微控制器深度解析
Microchip Technology PIC16F18026/46 14/20引脚微控制器具有数字和模拟外设,用于成本敏感的传感器和实时控制应用。...
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