编者按
“中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解,本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中,除教师系统地讲授外,学生还就感兴趣的课题做深入调研。师生共同讨论调研报告,实现教学互动。调研的内容涉及光刻工艺、光刻成像理论、SMO、OPC和DTCO技术。
考虑到这些内容也是目前业界关注的实用技术,征得教师和学生的同意,本公众号将陆续展示一些学生的调研结果。这些报告还很初步,甚至有少许谬误之处,请业界专家批评指正。
以下为报告PPT:
审核编辑 :李倩
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
集成电路
+关注
关注
5321文章
10748浏览量
353472 -
CVD
+关注
关注
0文章
67浏览量
10642 -
光刻工艺
+关注
关注
1文章
26浏览量
1769
原文标题:【Study】CVD与PVD的工艺特征及其建模方法
文章出处:【微信号:光刻人的世界,微信公众号:光刻人的世界】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
相关推荐
应用材料公司推出15年来铜互联工艺最大变革[转]
应用材料((Applied Materials Inc., AMAT)公司日前宣布在Endura Volta CVD Cobalt系统中通过化学气相沉积方法,在铜互连工艺中成功实现钴薄膜沉积。这一
发表于 07-12 17:17
【下载】《射频微波功率场效应管的建模与特征》
`内容简介《射频微波功率场效应管的建模与特征》首先回顾了一般商用微波射频晶体管的种类和基本构造,介绍了高功率场效应管的集约模型的构成;描述了功率管一般电气参数的测量方法,着重讨论对功率管的封装法兰
发表于 01-15 17:57
PVD涂层技术与3D打印打技术在医疗器械上的应用分析概述
本文以基于PVD 涂层技术工艺与3D 打印打技术和生命质量工程结合的医疗器械特征及其在植入式和介入式器械中的应用作分析研讨。
发表于 08-21 19:14
•8次下载
上方电子成功研制的首台8.6代新型显示PVD装备,顺利完成发货
首先在超薄玻璃上使用CVD或者PVD制作薄膜,其中金属层和ITO层由PVD制作, 绝缘层,半导体层等由CVD制作。然后通过黄光工艺(PHOT
物理气相沉积及溅射工艺(PVD and Sputtering)
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)工艺是指采用物理方法,如真空蒸发、溅射 (Sputtering)镀膜、离子体镀膜和分子束外延等,在圆片表面形成薄膜。
基于PVD 薄膜沉积工艺
。 PVD 沉积工艺在半导体制造中用于为各种逻辑器件和存储器件制作超薄、超纯金属和过渡金属氮化物薄膜。最常见的 PVD 应用是铝板和焊盘金属化、钛和氮化钛衬垫层、阻挡层沉积和用于互连金属化的铜阻挡层种子沉积。
半导体制造之薄膜工艺讲解
薄膜沉积技术主要分为CVD和PVD两个方向。 PVD主要用来沉积金属及金属化合物薄膜,分为蒸镀和溅射两大类,目前的主流工艺为溅射。CVD主要
流量控制器在半导体加工工艺化学气相沉积(CVD)的应用
:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),其中CVD工艺设备占比更高。 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition 简称
评论