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对于不同KOH和异丙醇浓度溶液中Si面蚀刻各向的研究

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集成电路制造的一个基本步骤。MatLooney~研究了二氧化硅在高频溶液蚀刻速率作为浓度、温度、氧化物生长过程溶液搅拌的函数。   介绍 稀释度高频解的平衡点  在稀高频溶液,高频=H++F([3]HF+F-=;对于平衡常数(反应r~r2的1K2,其值分别为6.8510 4 工具
2021-12-31 11:08:01939

异丙醇(IPA)的解吸特性 IPA 蒸汽干燥硅晶片中的水分

引言 我们华林科纳研究了电化学沉积的铜薄膜在含高频的脱氧非脱氧商业清洗溶液的腐蚀行为,进行了电位动力学极化实验,以确定主动、主动-被动、被动跨被动区域。腐蚀率是由塔菲尔斜坡计算出来的。利用
2021-12-31 09:02:581596

异丙醇(IPA)的解吸特性IPA蒸汽干燥硅晶片中的水分

干燥后异丙醇(IPA)的解吸晶片中的水分。结果表明,在这些实验条件下,定性定量的微量杂质小至单分子吸附层的1/10。结果证实,湿化学过程干燥方法对晶片表面条件的影响。 本文介绍在硅片上吸附分子的分析结果。为了估计湿式化学处理后的微污
2021-12-30 16:31:02815

化学蚀刻的铜-ETP铜的实验分析

引言 化学蚀刻是通过与强化学溶液接触来控制工件材料的溶解。该过程可以应用于任何材料。铜是利用化学腐蚀工艺制造微电子元件、微工程结构精密零件中广泛使用的工程材料之一。在这项研究,铜在50℃用两种
2021-12-29 13:21:46778

浓度KOH各向异性蚀刻

。在碱性溶液,TMAHKOH最广泛地用于湿法各向异性蚀刻。当考虑到互补金属氧化物半导体的兼容性,并且热氧化物被用作掩模层时,使用解决方案。为了获得氢氧化钾之间的高蚀刻选择性。 即RSi的显著蚀刻速率,氢氧化钾优于
2021-12-28 14:41:5698

在HF溶液蚀刻期间GaAs上的砷形成

之后,晶片表面立即被元素碑的棕色层覆盖。该层的厚度均匀性取决于蚀刻过程中的光照氟化氢浓度。在存储蚀刻晶片的过程,碑层被三氧化二碑颗粒代替。结果表明,只有当晶片暴露在空气的光线下时,才会形成氧化物颗粒。 实验 所有实
2021-12-28 16:30:1293

氢氟酸水溶液离子辐照LiNbO3的蚀刻

引言 用多能氩离子辐照x射线切割铌酸锂单晶,产生厚度为400纳米的均匀损伤表面层,研究其在HF水溶液的腐蚀行为。使用不同的酸温度浓度,表明可以通过将温度从24℃提高到55℃来提高蚀刻速率,同时
2021-12-23 15:32:06471

晶圆湿式用于硅蚀刻浴晶圆蚀刻

引言 了解形成MEMS制造所需的三维结构,需要SILICON的各向异性蚀刻,此时使用的湿式蚀刻工艺考虑的事项包括蚀刻率、长宽比、成本、环境污染等[1]。用于硅各向异性湿式蚀刻 溶液KOH
2021-12-23 09:28:22133

在HF水溶液处理的GaP表面的特性

引言 椭偏光谱(SE)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)、润湿性光致发光(PL)测量研究了HF水 溶液化学清洗的GaP(OOl)表面。SE数据清楚地表明,溶液在浸入样品后(W1
2021-12-22 15:55:27528

用于化学分析的Si各向异性湿法化学蚀刻

各向异性湿式化学蚀刻。 本文主要目的是评估不同各向异性蚀刻剂,用于微加工柱、分裂器其他几何图案的变体,可用作构建更复杂的微加工结构的构建块,并可能用于化学分析应用。我们根据微加工,介绍各向异性湿式化学
2021-12-22 16:41:38184

各向异性湿法蚀刻技术制作的低损耗硅波导

低损耗硅波导有效的光栅耦合器来将光耦合到其中。通过使用各向异性湿法蚀刻技术,我们将侧壁粗糙度降低到1.2纳米。波导沿[112]方向在绝缘体上硅衬底上形成图案。
2021-12-22 10:15:03152

醇类添加剂对KOH溶液蚀刻特性的影响

我们华林科纳研究不同醇类添加剂对氢氧化钾溶液的影响。据说醇导致硅蚀刻各向异性的改变。具有一个羟基的醇表现出与异丙醇相似的效果。它们导致(hh 1)型平面的蚀刻速率大大降低,通常在蚀刻凸形图形的侧壁处发展。这就是凸角根切减少的原因。具有一个以上羟基的醇不影响蚀刻各向异性,并导致表面光洁度变差。
2021-12-17 14:11:58141

在碳酸氢钠溶液单晶硅各向异性蚀刻法制备的微结构

本文研究了基于碳酸钠碳酸氢钠混合溶液不同条件下制作单晶硅片微结构的方法。根据表面形态大小覆盖率对纹理化过程进行了评估。
2021-12-16 09:09:20149

四甲基氢氧化铵水溶液湿蚀刻AlGaN/AlN摩尔分数关系

在本文中,我们详细研究了AlGaN的湿法刻蚀特性。特别地,我们研究了m形成AlN摩尔分数对蚀刻速率的依赖关系。我们还研究了氮化铝摩尔分数差异较大的紫外发光二极管结构的湿法刻蚀特性。
2021-12-13 14:58:12492

关于异丙醇各个方面的技术分析

、苯及其它有机溶剂,不溶于盐的溶液,与水互溶。蒸气相对密度 2.1,嗅阈值 90mg/m3,或7.84~49090mg/m3或22ppm或40ppm。  【毒性】异丙醇具有较乙醇更好的脂溶性,所以
2020-12-31 09:36:421787

二维GeSe2各向异性及短波偏振光探测的研究

作为一种新型的二维半导体材料,黑磷因其独特的各向异性引起了研究人员的广泛关注。近期,几种其它各向异性二维材料(如ReS2、ReSe2;SnS、GeSe等)也被相继报道。
2020-12-24 12:20:1911

PCB溶液浓度的六种计算方法

在PCB生产过程,很多工序要用到各种溶液,往往这些溶液对PCB板的产品质量起到决定性的作用。精确的计算好各种溶液浓度才能确保各种溶液在工艺起到它应有的作用。下面介绍六种计算方法。
2019-08-11 12:55:371984

PCB工艺的酸性蚀刻简介

酸性蚀刻是指用酸性溶液蚀去非线路铜层,露出线路部分,完成最后线路成形。
2019-08-16 05:33:035096

关于原子层蚀刻的分析介绍

逻辑芯片是第一个应用,但不是唯一的。 Mitra说:“虽然各向异性现在有更多的应用,但各向同性蚀刻适应新的应用变化。它使客户能够解决新的问题,特别是当客户正在越来越多的向3D制程进军时。如果你
2019-08-01 19:08:425931

蚀刻机的工作原理及应用范围

蚀刻指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护摸去处,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。
2019-06-26 16:47:4013092

PCB碱性蚀刻常见故障

按工艺要求排放出部分比重高的溶液经分析后补加氯化铵氨的水溶液,使蚀刻液的比重调整到工艺充许的范围。
2019-06-10 16:32:111010

蚀刻的原理

通常所指蚀刻也称腐蚀或光化学蚀刻(photochemicaletching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
2019-04-25 15:42:427602

蚀刻的工艺流程及注意事项

蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)蚀刻(dry etching)两类。它可通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
2019-04-24 16:07:2321333

PCB蚀刻过程中应该注意的问题

蚀刻液的种类:不同蚀刻液化学组分不同,其蚀刻速率就不同蚀刻系数也不同。例如:酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3,碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数可达到4。近来的研究表明,以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀,达到蚀刻的线条侧壁接近垂直。这种蚀刻系统正有待于开发。
2018-10-12 11:29:354952

自制溶液浓度检测仪,Concentration Monitor

。     当二根不锈钢探针插入溶液时,市电经稳压管双向限幅后成方波,通过溶液两探针间的电阻加到9014的基极,使其基极电子随溶液浓度(电阻)的变化而变化,这样,9014的导通状态就与溶液浓度有关
2020-10-01 07:54:01293

微电子机械系统(MEMS)及硅在KOH各向异性腐蚀的物理模型

针对硅在 KOH 各向异性腐蚀提出了一个新的物理模型。 此模型从微观角度出发, 根据实际的腐蚀化学反应过程确定了若干微观状态, 提出了反映腐蚀特性的若干微观参数。 将腐蚀温度、浓度等对腐蚀速率
2017-11-07 19:51:0222

单晶硅表面碱溶液腐蚀的研究与硅酸钠太阳能电池单晶硅表面织构化的作用

在单晶硅太阳电池的制备过程 ,通常利用晶体硅[ 100 ][ 111 ]不同晶向在碱溶液各向异性腐蚀特性 ,在表面形成类似于金字塔的绒结构 ,使得入射光在硅片表面多次反射 ,提高入射光
2017-09-30 10:53:185

在PCB碱性蚀刻中常见的问题的原因故障解决方法

PCB蚀刻技术通常所指蚀刻也称光化学蚀刻,指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用。
2017-04-21 17:23:453619

PCB工艺溶液浓度的六种计算方法

   1. 克升浓度计算:      定义:一升溶液里所含溶质的克数。    举例:100克硫酸铜溶于水溶液10升,问一升浓度是多少?   10
2010-10-26 17:33:241624

基于虚拟仪器的溶液浓度测量系统

本设计研究分析了溴化锂降膜热质传递过程溶液浓度的测量方法及特点,数字式溶液浓度测量系统,并进行了理论与实验研究。在虚拟平台上用LabVIEW 进行编程建模,通过传感器、
2010-10-11 16:38:0735

基于虚拟仪器的溶液浓度测量系统

本设计研究分析了溴化锂降膜热质传递过程溶液浓度的测量方法及特点,数字式溶液浓度测量系统,并进行了理论与实验研究。在虚拟平台上用LabVIEW进行编程建模,通过传感器、数据
2010-07-15 17:49:1911

印制电路板的溶液浓度计算方法

印制电路板的溶液浓度计算方法     * 举例:1:5硫酸溶液就是一体积浓硫酸与五体积水配制而成。
2009-04-15 08:55:09800

电磁浓度计在丝光碱液检测的应用

分析电解质溶液的电导率与其浓度的关系,以及利用电磁感应制造的电磁浓度计的工作原理;对几种不同规格型号的电磁浓度计的测量范围进行了比较;就如何利用电磁浓度计对纱线丝
2009-04-07 11:37:1715

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