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光刻胶

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光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

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类别：规则标准 2022-08-12 标签：光刻胶 1.5k 0

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中国打造自己的EUV光刻胶标准！

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从光固化到半导体材料：久日新材的光刻胶国产替代之路

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国产百吨级KrF光刻胶树脂产线正式投产

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国产光刻胶突围，日企垄断终松动

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行业案例|膜厚仪应用测量之光刻胶厚度测量

光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种关键的耐蚀剂刻薄膜材料。它在紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射下，溶解度会发生变化，主要应用于显示面板、集成电...

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2025-06-24 标签：测量光刻胶白光干涉仪 481 0

高效缓蚀芯片光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在芯片制造过程中，光刻胶剥离是关键环节，而传统剥离液易对芯片金属层造成腐蚀，影响器件性能。同时，光刻图形的精确测量对芯片制造工艺的优化至关重要。本...

2025-06-23 标签：芯片光刻胶 408 0

光刻胶图案化方法及光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

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2025-06-20 标签：干涉仪光刻胶 603 0

金属低刻蚀的光刻胶剥离液及其应用及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在半导体制造与微纳加工领域，光刻胶剥离是重要工序。传统剥离液常对金属层产生过度刻蚀，影响器件性能。同时，光刻图形的精确测量也是确保制造质量的关键。...

2025-06-16 标签：光刻胶刻蚀 515 0

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