onsemi FDT86106LZ N沟道MOSFET:高性能与可靠性的完美结合
在电子设计领域,MOSFET作为关键的功率器件,其性能直接影响着整个电路的效率和稳定性。今天,我们就来深入了解一下onsemi推出的FDT86106LZ N沟道MOSFET,看看它有哪些独特的特性和优势。
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产品概述
FDT86106LZ是一款采用onsemi先进POWERTRENCH工艺生产的N沟道逻辑电平MOSFET。该工艺经过特殊优化,能够在有效降低导通电阻的同时,保持出色的开关性能。此外,该器件还增加了G - S齐纳二极管,进一步提高了ESD电压保护水平。
主要特性
低导通电阻
- 在$V{GS}=10 V$,$I{D}=3.2 A$的条件下,最大$r{DS(on)}$仅为108 mΩ;在$V{GS}=4.5 V$,$I{D}=2.7 A$时,最大$r{DS(on)}$为153 mΩ。这种极低的导通电阻有助于降低功率损耗,提高电路效率。
高性能沟槽技术
采用高性能沟槽技术,使得该MOSFET具有极低的$r_{DS(on)}$,同时具备高功率和高电流处理能力。它采用广泛使用的表面贴装封装,方便在各种电路板上进行安装。
ESD保护与可靠性
- HBM ESD保护水平典型值大于3 kV,为器件提供了可靠的静电防护。
- 经过100% UIL测试,确保了产品的可靠性和一致性。
环保特性
该器件符合RoHS标准,无铅、无卤,满足环保要求。
应用领域
FDT86106LZ适用于DC - DC转换电路,能够在各种电源转换应用中发挥出色的性能。在设计DC - DC转换器时,其低导通电阻和高开关性能可以有效提高转换效率,减少发热,延长设备的使用寿命。
电气特性
最大额定值
| 符号 | 参数 | 额定值 | 单位 |
|---|---|---|---|
| $V_{DS}$ | 漏源电压 | 100 | V |
| $V_{GS}$ | 栅源电压 | ± 20 | V |
| $I_{D}$ | 漏极电流(连续,$T_{A}=25 °C$) | 3.2 | A |
| $I_{D}$ | 漏极电流(脉冲) | 12 | A |
| $E_{AS}$ | 单脉冲雪崩能量 | 12 | mJ |
| $P_{D}$ | 功率耗散($T_{A}=25 °C$,1 in² 2 oz铜焊盘) | 2.2 | W |
| $P_{D}$ | 功率耗散($T_{A}=25 °C$,最小2 oz铜焊盘) | 1.0 | W |
| $T{J}, T{STG}$ | 工作和存储结温范围 | -55 to +150 | °C |
电气参数
- 关断特性:如$B{VDS}$(漏源击穿电压)在$I{D}=250 μA$,$V_{GS}=0 V$时为100 V。
- 导通特性:$V{GS(th)}$(栅源阈值电压)在$V{GS}=V{DS}$,$I{D}=250 μA$时,典型值为1.5 V。
- 动态特性:包括输入电容$C{iss}$、输出电容$C{oss}$、反向传输电容$C_{rss}$等,这些参数对于评估器件的开关速度和响应特性非常重要。
- 开关特性:如导通延迟时间$t{d(on)}$、上升时间$t{r}$、关断延迟时间$t{d(off)}$和下降时间$t{f}$等,这些参数决定了器件在开关过程中的性能。
热特性
热阻$R_{JA}$(结到环境热阻)为55 °C/W(在1 in² 2 oz铜焊盘上),这一参数对于评估器件在工作过程中的散热情况至关重要。在实际设计中,我们需要根据具体的应用场景和散热要求,合理设计散热方案,以确保器件在安全的温度范围内工作。
封装与引脚信息
FDT86106LZ采用SOT - 223封装(CASE 318H),这种封装具有良好的散热性能和机械稳定性。其引脚排列清晰,方便进行电路连接。同时,产品采用带盘包装,每盘4000个,便于自动化生产。
典型特性曲线
文档中给出了一系列典型特性曲线,如导通区域特性、归一化导通电阻与漏极电流和栅极电压的关系、归一化导通电阻与结温的关系等。这些曲线可以帮助我们更好地了解器件在不同工作条件下的性能表现,从而在设计中做出更合理的选择。
总结
onsemi的FDT86106LZ N沟道MOSFET凭借其低导通电阻、高性能沟槽技术、出色的ESD保护和环保特性,成为DC - DC转换等应用的理想选择。在实际设计中,我们可以根据其电气特性和热特性,合理选择工作条件和散热方案,以充分发挥该器件的性能优势。你在使用类似MOSFET器件时,有没有遇到过什么问题或者有什么独特的设计经验呢?欢迎在评论区分享。
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