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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

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光刻帖子

光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？

标签：光刻光学器件 548 1

国科大《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程分享之二：浸没式光刻工艺缺陷种类、特征及自识别方法

标签：光刻半导体工艺 7957 1

光刻工艺步骤

标签：光刻 4477 2

光刻部分的主要机台包括两部分：轨道机（Tracker），用于涂胶显影；扫描曝光机（Scanning )

标签：光刻 2114 0

请问为什么在我光刻镀膜完之后用***剥离金属老掉呢？

标签：光刻 5961 1

光刻资料下载

EUV光刻技术如何为功率半导体提供动力立即下载

类别：电子资料 2023-02-15 标签：光刻功率半导体 EUV 853 0

采用DLP 3D结构光软件开发套件的3D打印机立即下载

类别：电子资料 2022-09-07 标签：光刻 dlp 3D打印机 1.2k 0

GaAs的湿法蚀刻和光刻立即下载

类别：模拟数字论文 2022-06-29 标签：光刻蚀刻 GaAs 798 0

中芯国际RD及半导体技术发展趋势立即下载

类别：电子资料 2021-05-07 标签：半导体中芯国际光刻 1.9k 0

五个方面剖析SIP封装工艺，看懂SIP封装真正用途资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-29 标签：封装工艺 smt 3.2k 0

一文详谈波峰焊接工艺资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-29 标签：封装工艺 smt 1.4k 0

MEMS封装的特点资料下载立即下载

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机械制造工艺--轴类零件加工资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-29 标签：封装工艺 smt 1.2k 0

利用MEMS惯性感测技术实现变革资料下载立即下载

类别：行业软件 2021-04-28 标签：封装工艺 smt 906 0

光刻资讯

贴片晶振超高频光刻工艺基本原理

什么是光刻：光刻是IC制造业中最为重要的一道工艺,占据了芯片制造中大约一半的步骤.光刻占所有成本的三分之一以上。通常可用光刻次数及所需Mask的块数来表...

2026-02-04 标签：贴片晶振光刻 202 0

清华大学在分焦面超像素阵列光刻制造领域取得新进展

图1.接触-干涉混合光刻加工流程分焦平面阵列因具备高集成度、高鲁棒性和高动态适应性等优势，在偏振成像领域受到广泛关注。制造分焦平面阵列的关键在于制备阵...

2026-01-21 标签：光刻 211 0

定义光刻精度标准——华林科纳显影湿法设备：纳米级图形化解决方案

导语显影工艺作为光刻制程的核心环节，直接决定晶圆图形转移的精度与良率。显影湿法设备凭借高均匀性喷淋、精准温度控制及智能缺陷拦截系统，突破16nm以下制...

2025-12-24 标签：半导体光刻 507 0

半导体“光刻（Photo）”工艺技术的详解；

【博主简介】本人“ 爱在七夕时 ”，系一名半导体行业质量管理从业者，旨在业余时间不定期的分享半导体行业中的：产品质量、失效分析、可靠性分析和产品基础应用...

2025-11-10 标签：半导体光刻 3.5k 0

上海光机所在全息光刻研究方面取得进展

图1 肘形图形为目标图形，不同方法得到的全息掩模分布、空间像与光刻胶轮廓近日，中国科学院上海光学精密机械研究所高端光电装备部李思坤研究员团队在全息光刻...

2025-09-19 标签：光刻光机 668 0

白光干涉仪在晶圆光刻图形 3D 轮廓测量中的应用解析

引言晶圆光刻图形是半导体制造中通过光刻工艺形成的微米至纳米级三维结构（如光刻胶线条、接触孔、栅极图形等），其线宽、高度、边缘粗糙度等参数直接决定后续蚀...

2025-09-03 标签：晶圆光刻 1.2k 0

1um 以下的光刻深度，凹槽深度和宽度测量

一、引言在半导体制造、微机电系统（MEMS）等高新技术领域，1um 以下光刻深度、凹槽深度和宽度的精确测量至关重要。这类微小尺寸的测量精度直接影响产品...

2025-08-11 标签：光刻干涉仪白光干涉 893 0

中科院微电子所突破 EUV 光刻技术瓶颈

极紫外光刻（EUVL）技术作为实现先进工艺制程的关键路径，在半导体制造领域占据着举足轻重的地位。当前，LPP-EUV 光源是极紫外光刻机所采用的主流光源...

2025-07-22 标签：光刻 EUV 1.3k 0

改善光刻图形线宽变化的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在半导体制造与微纳加工领域，光刻图形线宽变化直接影响器件性能与集成度。精确控制光刻图形线宽是保障工艺精度的关键。本文将介绍改善光刻图形线宽变化的方...

2025-06-30 标签：光刻干涉仪 1.2k 0

用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

引言在显示面板制造的 ARRAY 制程工艺中，光刻胶剥离是关键环节。铜布线在制程中广泛应用，但传统光刻胶剥离液易对铜产生腐蚀，影响器件性能。同时，光刻...

2025-06-18 标签：光刻 Array 1.1k 0

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　　基准电压是指传感器置于0℃的温场（冰水混合物），在通以工作电流（100μA）的条件下，传感器上的电压值。实际上就是0点电压。其表示符号为V（0），该值出厂时标定，由于传感器的温度系数S相同，则只要知道基准电压值V（0），即可求知任何温度点上的传感器电压值，而不必对传感器进行分度。
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