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现在半导体行业已经经历了大规模的改造，这可以归因于技术的演进和热情，以满足不断增加的市场预期。传统上，芯片制造 商依赖于在每个芯片的表面添加更多的晶体管。在当今时代，实现这种发展变得越来越具有挑战性。制造商正在关注称为极紫 外(EUV) 光刻的先进制造技术。 EUV光刻可用于制造比以前更小规模的芯片。该技术可以导致微处理器的发展，其速度比目前最强大的芯片快十倍。EUV光刻 的本质也可以归因于当前芯片印刷技术的物理限制。EUV光刻技术可以使制造商打印宽度为01微米的电路，相当于人类头发宽 度的1/1000。 EUV光刻利用波长非常短的光来更快、更准确地生成精细图案。该技术可以生产更小尺寸的晶体管，使处理器和其他电子设备 更强大、更便宜、更节能。EUV光刻的两个关键市场包括用于智能手机和服务器的处理器，其中尺寸、功率和效率是必不可少 的因素。
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