德累斯顿工厂的电子束光刻系统

来源：半导体芯科技编译

投资半导体设备行业新的生产设备

Jenoptik公司计划投资数亿欧元，为目前在德累斯顿建设的高科技工厂建造最先进的系统。新型电子束光刻系统（E-Beam）将用于为半导体和光通信领域的客户制造高精度微型光学元件。制造商是位于德国耶拿的电子束技术专家Vistec Electron Beam GmbH。该系统将于2025年初交付。

以最高精度创建最小的结构

这种类型的电子束光刻系统可以在直径达300毫米的衬底上以10纳米范围（约为头发丝的1/2,000）精度“写入”结构。

Vistec SB3050-2电子束光刻系统基于所谓的可变形状光束原理，即使是大面积的结构也可以高精度且有效地构建。Vistec SB3050-2的进一步特点是高度自动化以及可用衬底的灵活性，使其能够在工业环境中使用。该系统配备了单元投影功能，为微光学应用开辟了更多可能性。

Jenoptik自2007年以来一直活跃在德累斯顿。通过在德累斯顿机场公园新建高科技工厂，该公司正在巩固其目前分布在几个小型外部基地的生产，同时扩大其产能。新工厂的洁净室生产面积将达到2,000平方米，洁净室面积达到ISO 5和3级，满足无振动和温度稳定性的最高要求。

整个工厂都考虑到了高环境标准：Jenoptik正在努力通过“KfW 40标准”和“LEED黄金标准认证”来满足目前在可持续性方面最全面、最严格的建筑标准。同时，将创造高质量的就业机会，现场员工人数将增加至120多人。萨克森州首府将因此成为微光学行业的主要所在地。

审核编辑 黄宇