0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

中科院半导体所

文章:1547 被阅读:626.4w 粉丝数:328 关注数:0 点赞数:51

广告

激光原理与测距技术详解

固体激光器的工作物质有红宝石、钕玻璃、钇铝石榴石(YAG)等,是在作为基质的材料的晶体或玻璃中均匀的....
的头像 中科院半导体所 发表于 04-03 11:41 4289次阅读
激光原理与测距技术详解

硅单晶不同晶向下的不同位错表现介绍

晶向:位错腐蚀坑的形状主要呈三角形腐蚀坑
的头像 中科院半导体所 发表于 04-03 10:08 2354次阅读
硅单晶不同晶向下的不同位错表现介绍

浅谈光学波动中的波动概述、波前

所谓波动是指振动在空间的传播形式。波场中每点的物理状态随时间作周期性的变化,而在每瞬时,场中各点物理....
的头像 中科院半导体所 发表于 04-02 11:43 4565次阅读
浅谈光学波动中的波动概述、波前

浅谈硅除杂工艺中的分凝机制和释放机制

分凝吸杂由杂质的溶解度梯度或硅片不同区域对杂质的溶解能力不同产生。与释放机制不同,分凝吸杂,吸杂区一....
的头像 中科院半导体所 发表于 04-01 12:47 2161次阅读

请问3D NAND如何进行台阶刻蚀呢?

在3D NAND的制造过程中,一般会有3个工序会用到干法蚀刻,即:台阶蚀刻,channel蚀刻以及接....
的头像 中科院半导体所 发表于 04-01 10:26 2798次阅读
请问3D NAND如何进行台阶刻蚀呢?

SU-8光刻胶起源、曝光、特性

在紫外光照射下,三芳基碘盐光敏剂被激活,释放活性碘离子。这些活性碘离子与SU-8光刻胶中的丙烯酸酯单....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-31 16:25 9724次阅读
SU-8光刻胶起源、曝光、特性

一文解析拉曼散射和光谱学

拉曼光谱是一种功能强大且用途广泛的分析技术,用于研究分子和材料样品。该技术基于光的非弹性散射,也称为....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-29 11:36 2851次阅读
一文解析拉曼散射和光谱学

关于静电放电你不知道的知识

在整个半导体制造过程中,微粒污染、静电放电损坏以及与此相关联的设备停机,是静电带来的三大问题。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-27 11:12 2200次阅读

浅析多晶硅锭中位错存在的两种来源

根据晶体凝固生长与位错形成、运动与增殖的理论,多晶硅锭中位错存在两种来源:原生和增殖。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-27 11:09 1992次阅读
浅析多晶硅锭中位错存在的两种来源

FinFET是什么?22nm以下制程为什么要引入FinFET呢?

随着芯片特征尺寸的不断减小,传统的平面MOSFET由于短沟道效应的限制,难以继续按摩尔定律缩小尺寸。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-26 10:19 9677次阅读
FinFET是什么?22nm以下制程为什么要引入FinFET呢?

什么是无定形碳膜?为什么选碳作为3D NAND的硬掩模?

无定形碳膜(Amorphous Carbon Film),即非晶碳膜,指的是一种由碳原子构成但没有长....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-22 15:38 5859次阅读
什么是无定形碳膜?为什么选碳作为3D NAND的硬掩模?

XeF2和SF6可以相互替换吗?XeF2和SF6对硅腐蚀的区别?

我们知道含F的XeF2和SF6都被当做腐蚀硅的气体,XeF2常被作为各向同性腐蚀硅的气体,而SF6常....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-21 15:06 3436次阅读
XeF2和SF6可以相互替换吗?XeF2和SF6对硅腐蚀的区别?

光镊optical tweezers是什么?光镊的用处有哪些呢?

光镊optical tweezers利用光来操纵小到单个原子的微观物体。来自聚焦激光束的辐射压力能够....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-21 11:47 2530次阅读
光镊optical tweezers是什么?光镊的用处有哪些呢?

浅析功率半导体IGBT及SiC技术的相关知识

电力电子技术在新能源汽车中应用广泛,是汽车动力总成系统高效、快速、稳定、安全能量变换的基础。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-21 10:08 3989次阅读
浅析功率半导体IGBT及SiC技术的相关知识

用光子连接悬浮在真空中的纳米粒子,并控制它们之间的相互作用

文本介绍了用光子连接悬浮在真空中的纳米粒子,并控制它们之间的相互作用的实验。这展示了一种在宏观尺度上....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-20 11:47 1736次阅读

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-20 11:36 5889次阅读
关于光刻胶的关键参数介绍

频率滤波的原理、傅立叶变换与频域滤波以及滤波应用介绍

干涉图是光学实验中常见的现象,它反映了光波相互叠加形成的干涉条纹,展现了光的波动性质。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-20 11:05 4169次阅读
频率滤波的原理、傅立叶变换与频域滤波以及滤波应用介绍

什么是沟道通孔?沟道通孔刻蚀需要考虑哪些方面?

沟道通孔(Channel Hole)指的是从顶层到底层垂直于晶圆表面,穿过多层存储单元的细长孔洞。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-20 10:19 3213次阅读
什么是沟道通孔?沟道通孔刻蚀需要考虑哪些方面?

探讨三种超构器件表面的加工方法

超构表面是近年来出现一种新型的光学器件,也被称为超构器件。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-19 15:23 2491次阅读
探讨三种超构器件表面的加工方法

MEMS工艺中快速退火的应用范围和优势介绍

在MEMS工艺中,常用的退火方法,如高温炉管退火和快速热退火(RTP)。RTP (Rapid The....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-19 15:21 5045次阅读
MEMS工艺中快速退火的应用范围和优势介绍

有了2D NAND,为什么要升级到3D呢?

2D NAND和3D NAND都是非易失性存储技术(NVM Non-VolatileMemory),....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-17 15:31 2943次阅读
有了2D NAND,为什么要升级到3D呢?

电子束光刻的参数优化及常见问题介绍

本文从光刻图案设计、特征尺寸、电镜参数优化等方面介绍电子束光刻的参数优化,最后介绍了一些常见问题。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-17 14:33 3481次阅读
电子束光刻的参数优化及常见问题介绍

波长与波数相互转换的方法介绍

光的“颜色”通常通过作为波长 λ 函数的功率或强度分布来识别。可见光的波长范围为约 400 nm 至....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-17 14:23 3961次阅读
波长与波数相互转换的方法介绍

FD-SOI与PD-SOI他们的区别在哪?

本文简单介绍了两种常用的SOI晶圆——FD-SOI与PD-SOI。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-17 10:10 5703次阅读
FD-SOI与PD-SOI他们的区别在哪?

可以用铝或多晶硅做栅极材料,是什么原因呢?

栅(Gate)是一种控制元件,通常用于场效应晶体管(FET)中,比如金属-氧化物-半导体场效应晶体管....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-13 11:41 3972次阅读
可以用铝或多晶硅做栅极材料,是什么原因呢?

芯片内部有多小呢?芯片内部为什么能这么小?

芯片藏身于城市中随处可见的电子设备,智能手机、电脑、家电等都离不开它的控制。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-12 10:25 2131次阅读
芯片内部有多小呢?芯片内部为什么能这么小?

CMOS工艺技术的概念、发展历程、优点以及应用场景介绍

CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor, 互补金属....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-12 10:20 14616次阅读
CMOS工艺技术的概念、发展历程、优点以及应用场景介绍

什么是超快激光?超快激光的应用有哪些呢?

激光的原理早在 1916 年已经由著名物理学家爱因斯坦(Albert Einstein)的受激辐射理....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-11 14:36 3847次阅读
什么是超快激光?超快激光的应用有哪些呢?

集成电路基础知识介绍:从原子结构到晶体管

在19世纪末期,消费类产品包括照明、加热、电话和电报等一些简单的电路。但是无线电的发明和对于能够整流....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-11 14:32 5625次阅读
集成电路基础知识介绍:从原子结构到晶体管

噪声对相位解包裹的影响及其抑制方法研究

当光学粗糙表面被扩展的激光束照射时,形成的图像是斑点图案(亮斑和暗斑)。噪声对相位展开过程产生了灾难....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-11 10:04 1862次阅读
噪声对相位解包裹的影响及其抑制方法研究