0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

中芯国际豪掷77亿购买光刻机

我快闭嘴 来源:每日经济新闻综合 作者:每日经济新闻综合 2021-03-04 09:00 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

3月3日A股盘后,半导体行业迎来两大利好消息!

3月3日晚间,中芯国际在港交所公告,根据批量采购协议已于2020年3月16日至2021年3月2日的12个月期间,就购买阿斯麦产品与阿斯麦集团签订购买单。

中芯国际在公告中表示:“于2021年2月1日,本公司与阿斯麦上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议,据此,阿斯麦批量采购协议的期限从原来的2018年1月1日至2020年12月31日延长至从2018年1月1日至2021年12月31日。”

除了期限的延长之外,中芯国际在公告中披露了此前的购买金额。中芯国际根据批量采购协议,已于2020年3月16日至2021年3月2日的12个月期间,就购买用于生产晶圆的阿斯麦产品与阿斯麦集团签订购买单,总代价约为12亿美元(约77亿人民币)。

阿斯麦是ASML Holding N.V。的附属公司之一。荷兰公司ASML是全球最大的光刻机制造商,光刻机是芯片制造所需的关键设备。ASML在45nm以下制程的高端光刻机市场中占有85%的份额;在EUV(极紫外)光刻机领域则处于绝对垄断地位,市场占有率100%。

值得注意的是,对于这项12亿美元订单包含的产品、机器型号,公司尚未公布。而不同类型的设备,对于中芯国际研发生产能力的推进有很大不同,究竟是能解决高端芯片、还是中低端芯片的扩产,尚未可知。

当前中芯国际正布局先进和传统制程两类芯片,都需要光刻机的支撑。阿斯麦的EUV(极紫外光刻技术),能推进中芯国际7nm/5nm芯片,而其DUV(深紫外线光科技术)则支撑着中芯国际传统产线的建造和扩产,例如公司在今年最被市场看好的8英寸芯片产能,就来自传统产线。

根据公开材料,目前EUV设备正受国际协议限制形成了出口管制,而在芯片制造厂中运用广泛的DUV设备,是不受国际协议限制的。

3月1日,有媒体报道,为中芯国际提供高制程(14nm及以上)工艺部分产品所需设备的美国设备商,已获美许可证,而该批次与中芯国际部分成熟制程工艺设备供应商为同次获批。

当日兴业证券研究所电子团队(下称“兴证电子”)也发布报告对上述消息进行了确认,表示经其产业链验证,中芯国际部分供应商已经拿到相关许可证。其中,美国部分供应商中A公司已经拿到相关许可证,L公司和K公司还在等待结果,判断后边也会陆续拿到许可证,许可证以10nm为分界点,14nm及以上工艺制程相关产品获得许可,10nm及以下节点未拿到许可证。

3月2日,有投资者在互动平台“上证e互动”向中芯国际求证上述事项。

该公司在回应中并未直接证实此事,仅表示:“公司会尽最大努力,持续携手全球产业链伙伴,保证公司生产连续性及扩产规划不受影响。虽然不确定性依然存在,但我们始终坚持依法合规经营,有信心保证公司短期内生产经营不受重大不利影响。”

受消息影响,中芯国际港股近三天涨了10%。

对此,网友纷纷看好。

还有网友说,诺安要成长了?

目前中芯国际是诺安成长的第三大重仓股,基金经理蔡嵩松因近乎全仓半导体受到投资者关注,并经常飙上热搜。

此外,还有一则利好消息,上海临港新片区发布《中国(上海)自由贸易试验区临港新片区集成电路产业专项规划(2021-2025)》,提出积极对接“卡脖子”技术产业化落地项目,补齐上海集成电路产业链短板。

值得注意的是,上海临港新规划的主要任务项中,芯片制造和半导体设备、材料两大环节被重点提及,位于主要任务栏的最前面。

方正证券3月1日发布研报称,供给刚性叠加需求弹性,目前半导体供需剪刀差的扩张刚刚开始。

从需求上看,5G基建+换机、碳中和(电车+风光电新能源)和无人驾驶(计算革命),不仅仅是信息革命,而且叠加了半导体推动的能源革命,其背后都是半导体。

从供给上看,正常情况下晶圆厂扩产周期在12-24个月,在去年疫情对需求的冲击下,各大晶圆厂都未及时调整扩产节奏。方正证券预期新一轮产能供给最早也要到今年年底开出,真正的可观且有效的产能开出在明年二季度以后。

供求错配背景下,该机构认为,三大机会包括:晶圆厂制造、设备扩产、材料本土。这与上海临港此次规划中提出的的重点任务不谋而合。

这些公司已积极布局 上海本地股有这些

目前,临港新片区已引进华大、新昇、格科、闻泰、中微、寒武纪、地平线等40余家行业标杆企业,初步形成了覆盖芯片设计、特色工艺制造、新型存储、第三代半导体、封装测试以及装备、材料等环节的集成电路全产业链生态体系。

A股上市公司中,中芯国际总部位于上海,在上海建有一座300mm晶圆厂、一座200mm晶圆厂和一座实际控股的300mm先进制程晶圆合资厂。上述公司之外,注册地址位于上海的半导体公司还包括:澜起科技、安集科技、中颖电子、富瀚微、上海新阳、万业企业、聚辰股份、晶晨股份、润欣科技等。

新规划推动下,这些公司均有可能在临港布局。
责任编辑:tzh

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    462

    文章

    53581

    浏览量

    459552
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5446

    文章

    12478

    浏览量

    372780
  • 中芯国际
    +关注

    关注

    27

    文章

    1447

    浏览量

    67664
  • 晶圆
    +关注

    关注

    53

    文章

    5349

    浏览量

    131719
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司几乎垄断
    的头像 发表于 10-04 03:18 9428次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战ASML霸主地位?

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚技术有限公司(简称“稳顶聚”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚出厂的步进式
    的头像 发表于 10-10 17:36 748次阅读

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全国首台国产商业电子束光刻机问世,精度比肩国际主流   近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6nm,线宽
    发表于 08-15 10:15 2841次阅读
    今日看点丨全国首台国产商业电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全球市占率35%,国内90%!上微装第500台步进光刻机交付

      电子发烧友网综合报道,近日,上海上微装科技股份有限公司(简称:上微装,英文简称:AMIES)第500台步进光刻机成功交付,并举办了第500台 步进光刻机 交付仪式。    
    发表于 08-13 09:41 1803次阅读
    全球市占率35%,国内90%!<b class='flag-5'>芯</b>上微装第500台步进<b class='flag-5'>光刻机</b>交付

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月启用新光刻机工厂,主要面向成熟制程及封装应用

    7 月 31 日消息,据《日经新闻》报道,日本相机、打印机、光刻机大厂佳能 (Canon) 位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于 9 月正式投入量产,主攻成熟制程及后段封装应用设备,为全球芯片封装
    的头像 发表于 08-04 17:39 611次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一,其在半导体制造的重要性不言而喻。 目前,全球市场对
    的头像 发表于 04-07 09:24 1158次阅读

    不只依赖光刻机!芯片制造的五大工艺大起底!

    在科技日新月异的今天,芯片作为数字时代的“心脏”,其制造过程复杂而精密,涉及众多关键环节。提到芯片制造,人们往往首先想到的是光刻机这一高端设备,但实际上,芯片的成功制造远不止依赖光刻机这一单一工具。本文将深入探讨芯片制造的五大关键工艺,揭示这些工艺如何协同工作,共同铸就了
    的头像 发表于 03-24 11:27 2886次阅读
    不只依赖<b class='flag-5'>光刻机</b>!芯片制造的五大工艺大起底!

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像
    的头像 发表于 02-17 14:09 4092次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 976次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    半导体设备光刻机防震基座如何安装?

    半导体设备光刻机防震基座的安装涉及多个关键步骤和考虑因素,以确保光刻机的稳定运行和产品质量。首先,选择合适的防震基座需要考虑适应工作环境。由于半导体设备通常在洁净的环境下运行,因此选择的搬运工具如
    的头像 发表于 02-05 16:48 1164次阅读
    半导体设备<b class='flag-5'>光刻机</b>防震基座如何安装?

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 2299次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 5821次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影的曝光过程,但精度要求极高
    的头像 发表于 01-07 10:02 4239次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍