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半导体有机酸清洗液中的铜的蚀刻速率和氧化机理分析

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2021-07-22 10:41:1886

半导体单晶抛光片清洗技术

在实际清洗处理,常采用物理、或化学反应的方法去除;有机物主要来源于清洗容积、机械油、真空脂、人体油脂、光刻胶等方面,在实际清洗环节可采取双氧水或酸性溶液去除 ;氧化物主要是相应半导体单晶抛光片
2021-06-19 16:26:55487

一种用离子色谱仪测试检测甲酸、乙酸甲基磺酸三种弱有机酸的方法

现在人们对PCB表面的离子清洁度越来越关注,除了常见的阴阳离子,还有弱有机酸。文章描述一种用离子色谱仪测试检测甲酸、乙酸甲基磺酸三种弱有机酸的方法。
2021-04-09 14:52:153785

剖析离子色谱法如何测定印制电路板表面三种弱有机酸

小编说:现在人们对PCB表面的离子清洁度越来越关注,除了常见的阴阳离子,还有弱有机酸。文章描述一种用离子色谱仪测试检测甲酸、乙酸甲基磺酸三种弱有机酸的方法。 0  前 言 印制电路板(PCB
2021-04-09 14:49:031165

半导体清洗技术面临变革

在晶圆制造的过程,包括蚀刻氧化、淀积、去光刻胶以及化学机械研磨等每一个步骤,都是造成晶圆表面污染的来源,因此需要反复地进行清洗
2021-04-09 14:11:0411

半导体IC的清洗方法

介绍了半导体IC制程存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响各种污染物的去除方法, 并对湿法干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
2021-04-09 09:58:2831

半导体单晶抛光片清洗工艺分析

通过对 Si , CaAs , Ge 等半导体材料单晶抛光片清洗工艺技术的研究 , 分析得出了半导体材料单晶抛光片的清洗关键技术条件。首先用氧化性溶液将晶片表面氧化 , 然后用一定的方法将晶片表面
2021-04-08 14:07:2330

非晶态半导体阈值开关的机理

从理论上定性地分析了非晶态半导体的闲值开关机理。利用非均匀模型、热与热电理论电子开关模型等,从3个方面
2021-03-23 20:23:011138

PCB蚀刻定义及蚀刻操作条件

蚀刻:将覆铜箔板表面由化学药水蚀刻去除不需要的导体,留下导体形成线路图形,这种减去法工艺是当前印制电路板加工的主流
2020-09-26 05:12:013647

关于氮(氧)化硅湿法刻蚀后清洗方式的改进

清洗不当造成的表面缺陷的形成机理,并通过合理的实验设计分析,给出了具体的解决方案。 热磷酸湿法刻蚀已经在半导体制造工艺应用了几十年了。由于热磷酸对氮化硅氧化硅刻蚀具有良好的均匀性较高的选择比,一直到
2020-12-22 10:21:071128

超声波清洗机原理_超声波清洗机使用方法

超声波清洗机原理主要是通过换能器,将功率超声频源的声能转换成机械振动,通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子清洗液。由于受到超声波的辐射,使槽内液体的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。破坏污物与清洗件表面的吸附,引起污物层的疲劳破坏而被驳离,气体型气泡的振动对固体表面进行擦洗。
2020-12-17 15:04:263179

pcb蚀刻机的基础原理

。 二、蚀刻反应基本原理 1.酸性氯化铜蚀刻液 ①.特性 -蚀刻速度容易控制,蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量 -蚀量大 -蚀刻液易再生回收 ②.主要反应原理 蚀刻过程中,Cu2+有氧化性,将板面氧化成Cu+:Cu+CuCl2→2CuC
2020-09-25 23:38:543139

全球半导体清洗设备行业马太效应明显,湿法清洗占据市场90%份额

半导体清洗设备直接影响集成电路的成品率,是贯穿半导体产业链的重要环节,在单晶硅片制造、光刻、刻蚀、沉积等关键制程及封装工艺均为必要环节,约占所有芯片制造工序步骤30%以上,且随着节点的推进,清洗工序的数量重要性会继续提升,清洗设备的需求量也将相应增加。
2020-12-08 14:40:404525

超声波清洗仪和超声波细胞破碎仪之间的区别是什么

振荡而传播到介质—清洗液,强力的超声波在清洗液以疏密相间的形式向被洗物件辐射。产生“空化”现象,即在清洗液“气泡”形式,产生破裂现象。当“空化”在达到被洗物体表面破裂的瞬间,产生远超过1000个大气压力的冲击
2020-12-07 11:01:112537

清洗步骤贯穿半导体全产业链,湿法清洗占据市场90%份额

半导体清洗设备直接影响集成电路的成品率,是贯穿半导体产业链的重要环节,在单晶硅片制造、光刻、刻蚀、沉积等关键制程及封装工艺均为必要环节,约占所有芯片制造工序步骤30%以上,且随着节点的推进,清洗工序的数量重要性会继续提升,清洗设备的需求量也将相应增加。
2020-09-28 14:56:142985

如何有效预防电缆导体氧化,从原理来讲有什么办法

属于过渡金属,易被空气的氧气在酸性条件下氧化成黑色的CuO。当导体表面有水膜或水珠时,由于大气中含有大量尘埃,如烟雾、煤炭、汽车尾气、氯化物及其他、碱、盐颗粒粉尘等,这些有害物质溶解于水膜或
2020-08-14 10:28:251657

返工清洗设备的应用类型及特点分析

超声清洗机可用于溶剂清洗,也可用于水清洗工艺。它是利用超声波的作用使清洗液体产生孔穴作用、扩散作用及振动作用,对工件进行清洗的设备。超声清洗机的清洗效率比较高,清洗液可以进入被清洗工件的最细小的间隙,因此可以清洗元件底部、元件之间及细小间隙的污染物。
2020-03-24 12:14:281315

松香清洗的原理是什么

作用完成的。不论是松香还是有机酸以及它们的锡盐或铅盐,在清洗剂都有一定的溶解度,通过从电路板面向清洗剂里转移这一过程完成残留物的去除。
2019-05-28 14:45:328094

如何控制好电镀的质量

硫酸电镀在PCB电镀占着极为重要的地位,电镀的好坏直接影响PCB制板电镀铜层的质量相关机械性能,并对后续加工产生一定影响,因此如何控制好电镀的质量是PCB电镀重要的一环
2018-03-12 10:16:463979

什么是半导体材料_常见半导体材料有哪些

物(锰、铬、铁、氧化物),以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体(镓铝砷、镓砷磷等)。除上述晶态半导体外,还有非晶态的玻璃半导体有机半导体等。
2018-03-08 10:15:48111565

半导体IC清洗技术

介绍了半导体IC制程存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响各种污染物的去除方法,并对湿法干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
2012-04-27 15:29:5871

半导体清洗工艺全集

半导体清洗工艺全集 晶圆清洗半导体制造典型工序中最常应用的加工步骤。就硅来说,清洗操作的化学制品工具已非常成熟,有多年广泛深入的研究以及重要的工业设备的支持。所
2011-12-15 16:13:24114

换热器气相超声波清洗机设计原理

超声波清洗的原理是由超声波发生器发出的高频振荡信号,通过换能器转换 成高频机械振荡而传播到介质 -- 清洗溶剂,超声波在清洗液疏密相间的向 前辐射,使液体流动而产生数
2011-04-29 10:49:06116

施耐德Quantum-PLC在大型有机酸灌装生产线的应用

本文主要介绍了在有机酸灌装生产线,采用施耐德公司的Quantum-PLC、MAGELIS人机界面,高速计数单元,模拟量采集单元,MODBUS PLUS 总线通讯及CONCEPT软件等组成了一套集监视,控制
2010-10-08 08:06:5223

半导体清洗工艺

杂质玷污对器件性能的影响 硅片表面杂质玷污的来源 有机溶剂的去污作用 碱在化学清洗的作用 。。。。。。 。。。。。。
2010-08-20 16:23:5922

基于氧化半导体的CMOS电路有望实现

基于氧化半导体的CMOS电路有望实现 东京工业大学教授细野秀雄研究室,利用一氧化锡(SnO)开发出了n型半导体p型半导体,由此基于氧化物半
2010-03-13 09:42:57370

调查显示对半导体封装的使用表示担忧

调查显示对半导体封装的使用表示担忧   世界黄金协会(WGC)对于全球半导体产业协会(SEMI)发起一项调查结果表示欢迎,
2010-01-28 09:28:20432

纳米TiO_2的有机酸改性

纳米TiO_2的有机酸改性:纳米TiO2 粉体独特的光催化作用、颜色效应以及紫外屏蔽等功能使其在汽车工业、防晒化妆品、环保等方面有着广阔的应用前景[ 1 - 3 ] 。未经表面处理的纳米
2010-01-04 12:22:2820

半导体器件HPM损伤脉宽效应机理分析

半导体器件HPM损伤脉宽效应机理分析:HPM能量在半导体器件损伤缺陷区的热量沉积以及向周围材料的热量扩散,是造成半导体器件损伤脉宽效应的机理;分别得到了全脉
2009-10-29 13:57:0513

金属氧化半导体气敏机理探析

讨论了金属氧化半导体表面的气2气、气2固反应及其相应的电子过程, 建立了分析气敏作用机理的理论模型, 并提出了改进传感器性能的指导性意见。关键词: 气敏传感器; 金
2009-07-02 09:52:2918

新型液位传感器在实际应用应注意的问题

叙述了地铁车辆外部清洗系统的瓣型液位传感器的特点及其在实际应用应注意的问题。关键词:地铁车辆外部清洗液位传感器应用
2009-06-23 10:55:0216

怎样清洗液晶显示器|如何清洗液晶显示器

从液晶显示器的工作原理以及由来进行讲述,到怎样清洗液晶显示器如何清洗液晶显示器。非常的详细。
2008-06-10 00:57:0127

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