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标签 > 光刻机
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集成电路制造关键装备要求零部件材料具有高纯度、高致密度、高强度、高弹性模量、高导热系数和低热膨胀系数等特点,且且结构件要具有极高的尺寸精度和结构复杂性,...
类别:IC datasheet pdf 2022-06-13 标签:光刻机EUV 604 0
类别:IC datasheet pdf 2022-06-13 标签:光刻机EUV 219 0
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效...
广州增芯12英寸MEMS芯片量产线搬入光刻机,顺利进入调试投产准备阶段
据传感器专家网获悉,3月11日,广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目在广州增城开发区举行光刻机搬入活动,标志着增芯项目...
近日,光刻机巨头ASML传出可能因荷兰政府的反移民政策倾向而考虑迁离本国的消息,这令业界哗然。据悉,荷兰政府为阻止这一可能发生的变故,已专门成立了由首相...
ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色,其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥资入股了AS...
无锡工厂是SK海力士的核心生产基地,其产量约占公司DRAM总产量的40%。目前,无锡工厂正在生产两款较旧的10nm制程DRAM。
英特尔和台积电都在技术上投入资金。三星和其他内存制造商必须跟上技术节点的转变,即使同时保持产能远离市场。他们需要跟上技术的步伐,以在摩尔定律的基础上保持...
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