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刻蚀

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刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻［1］相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。

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刻蚀技术

两种基本的刻蚀工艺：干法刻蚀和湿法腐蚀

反刻是在想要把某一层膜的总的厚度减小时采用的（如当平坦化硅片表面时需要减小形貌特征）。光刻胶是另一个剥离的例子。总的来说，有图形刻蚀和无图形刻蚀工艺条件...

2018-12-14 标签：半导体刻蚀 6.9万 0

深度解读TSV 的工艺流程和关键技术

要实现三维集成，需要用到几个关键技术，如硅通孔（TSV），晶圆减薄处理，以及晶圆/芯片键合。TSV 互连具有缩短路径和更薄的封装尺寸等优点，被认为是三维...

2017-11-24 标签：tsv 硅通孔刻蚀 5.9万 1

微流控芯片的发展及制造工艺介绍

微全分析系统的概念是在1990年首欠由瑞士Ciba2Geigy公司的Manz与Widmer提出的，当时主要强调了分析系统的微与全，及微管道网络的MEMS...

2018-09-05 标签：mems 光刻微流控芯片 6543 0

半导体制造之刻蚀工艺详解

单晶硅刻蚀用来形成相邻晶体管间的绝缘区，多晶硅刻蚀用于形成栅极和局部连线。

2023-02-13 标签：多晶硅半导体晶体管 6448 0

刻蚀分为哪两种方式刻蚀的目的和原理

刻蚀（Etching）的目的是在材料表面上刻出所需的图案和结构。刻蚀的原理是利用化学反应或物理过程，通过移除材料表面的原子或分子，使材料发生形貌变化。

2023-08-01 标签：集成电路电子器件刻蚀 4934 0

刻蚀工艺流程和步骤酸性蚀刻和碱性蚀刻的区别

刻蚀和蚀刻实质上是同一过程的不同称呼，常常用来描述在材料表面上进行化学或物理腐蚀以去除或改变材料的特定部分的过程。在半导体制造中，这个过程常常用于雕刻芯...

2023-07-28 标签：集成电路蚀刻芯片封装 4934 0

揭秘半导体制造全流程（中篇）

本期，我们将继续探索半导体制造过程中的两大关键步骤：刻蚀和薄膜沉积。

2022-08-01 标签：晶圆半导体制造刻蚀 4653 0

半导体八大工艺之刻蚀工艺-干法刻蚀

离子束蚀刻 (Ion beam etch) 是一种物理干法蚀刻工艺。由此，氩离子以约1至3keV的离子束辐射到表面上。由于离子的能量，它们会撞击表面的材...

2023-06-20 标签：半导体晶硅刻蚀 4607 0

半导体湿法化学刻蚀工艺观察

我们提出了一种观察铝层蚀刻截面的方法，并将其应用于静止蚀刻蚀刻的试件截面的观察。观察结果成功地阐明了蚀刻截面几何形状的时间变化，和抗蚀剂宽度对几何形状的...

2021-12-14 标签：半导体刻蚀 3763 0

SiO2在氢氟酸中的刻蚀机理

摘要研究了高频和高频/HCI溶液中的不同平衡点，并研究了SiQ的蚀刻反应作为高频溶液中不同物种的函数。基于HF二聚体的存在，建立了一种新的SiO~蚀刻...

2021-12-31 标签：晶圆镀膜刻蚀 3732 0

刻蚀帖子

刻蚀资料下载

晶体硅太阳能电池刻蚀的作用及方法与刻蚀的工艺流程等介绍立即下载

类别：电源技术 2017-09-29 标签：太阳能电池刻蚀 1535 0

刻蚀资讯

半导体设备国产化机遇来临，但半导体产业还是需要全球合作

目前，国内半导体材料与设备的国产化率平均还不到20%，但经过15~20多年的技术积累，以及企业和国家的大力投入，半导体材料与设备在2020年将会获得实质...

2020-05-28 标签：光刻机刻蚀半导体设备 1.3万 0

干法刻蚀之铝刻蚀的介绍，它的原理是怎样的

在集成电路的制造过程中，刻蚀就是利用化学或物理方法有选择性地从硅片表面去除不需要的材料的过程。从工艺上区分，刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀。前者的主要特...

2020-12-29 标签：集成电路刻蚀 8777 0

详细分析碳化硅(SiC)器件制造工艺中的干法刻蚀技术

摘要：简述了在SiC材料半导体器件制造工艺中,对SiC材料采用干法刻蚀工艺的必要性.总结了近年来SiC干法刻蚀技术的工艺发展状况. 半导体器件已广泛应用...

2020-12-30 标签：碳化硅刻蚀 7995 0

湿法刻蚀和清洗（Wet Etch and Cleaning）

湿法刻蚀是集成电路制造工艺最早采用的技术之一。虽然由于受其刻蚀的各向同性的限制，使得大部分的湿法刻蚀工艺被具有各向异性的干法刻蚀替代，但是它在尺寸较大的...

2022-11-11 标签：集成电路刻蚀 7812 0

国产刻蚀机很棒，但造芯片只是“配角”

近来有网络媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”，并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁...

2019-02-16 标签：芯片刻蚀 7789 0

半导体设备大厂Lam ResearchQ3营收创纪录三分之一营收来自中国

4月21日，半导体设备大厂Lam Research发布2021第三季度财报，营收创下新高，达到38.5亿美元，高于此前37.2亿美元的预期，达到单季的最...

2021-04-22 标签：刻蚀营收 Lam Research 5777 1

随着MEMS研究的深入，电化学刻蚀研究显得越来越重要

长期以来 ,微加工研究主要是针对微电子工业的应用而开展的 ,其加工对象大都是半导体材料 ,如对 Si、Ge、GaAs 及各种金属氧化物膜等材料的刻蚀 ,...

2020-04-14 标签：半导体刻蚀 5753 0

钝化层刻蚀对厚铝铝须缺陷影响的研究

2018-03-06 标签：刻蚀集成电路制造 5709 0

干法刻蚀去除光刻胶的技术

灰化，简单的理解就是用氧气把光刻胶燃烧掉，光刻胶的基本成分是碳氢有机物，在射频或微波作用下，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化...

2022-07-21 标签：光刻胶刻蚀 5142 0

中微公司2022年第一季度收入9.49亿元同比增长57.31%

中微公司2022年第一季度财务报告 AMEC 2022 Q1 Report 中微公司于4月28日发布2022年第一季度财务报告，摘要如下：...

2022-04-28 标签：MOCVD 刻蚀中微公司 4942 0

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