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电子发烧友网>今日头条>GaN:一场真正的革命

GaN:一场真正的革命

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利用GaN的带宽和功率密度优势对抗RCIED

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高功率GaN RF放大器的热考虑因素

氮化镓 (GaN) 是需要高频率工作(高 Fmax)、高功率密度和高效率的应用的理想选择。与硅相比,GaN 具有达 3.4 eV 的 3 倍带隙,达 3.3 MV/cm 的 20 倍临界电场击穿
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什么是氮化镓半导体?GaN如何改造5G网络?

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绝缘栅GaN基平面功率开关器件技术

GaN基功率开关器件能实现优异的电能转换效率和工作频率,得益于平面型AlGaN/GaN异质结构中高浓度、高迁移率的二维电子气(2DEG)。图1示出绝缘栅GaN基平面功率开关的核心器件增强型AlGaN/GaN MIS/MOS-HEMT的基本结构。
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绝缘栅Si基GaN平面器件关键工艺

传统GaN-on-Si功率器件欧姆接触主要采用Ti/Al/X/Au多层金属体系,其中X金属可为Ni,Mo,PT,Ti等。这种传统有Au欧姆接触通常采用高温退火工艺(>800℃),第1层Ti在常温下
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什么是GaN氮化镓?Si、GaN、SiC应用对比

由于 GaN 具有更小的晶体管、更短的电流路径、超低的电阻和电容等优势,GaN 充电器的运行速度,比传统硅器件要快 100 倍。GaN 在电力电子领域主要优势在于高效率、低损耗与高频率,GaN 材料的这一特性令其在充电器行业大放异彩。
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2023-03-28 14:51:28

GAN041-650WSBQ

GAN041-650WSB/SOT429/TO-247
2023-03-27 14:36:14

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