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电子发烧友网>今日头条>关于非晶半导体中的光刻工艺的研究报告

关于非晶半导体中的光刻工艺的研究报告

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jf_90840116发布于 2023-05-08 01:46:30

共聚焦显微镜精准测量圆激光切割槽

 半导体大规模生产过程需要在圆上沉积集成电路芯片,然后再分割成各个单元,最后再进行封装和焊接,因此对圆切割槽尺寸进行精准控制和测量,是生产工艺至关重要的环节。 
2023-04-28 17:41:49

金属布线的工艺半导体注入生命的连接

经过氧化、光刻、刻蚀、沉积等工艺,晶圆表面会形成各种半导体元件。半导体制造商会让晶圆表面布满晶体管和电容(Capacitor);
2023-04-28 10:04:52532

2023年最强半导体品牌Top 10!第一名太强大了!

日前,英国品牌估值咨询公司“品牌金融”(Brand Finance)发布最新“全球半导体品牌价值20强(Brand Finance Semiconductor 20 2023)”报告报告显示,在
2023-04-27 10:09:27

半导体工艺之金属布线工艺介绍

本篇要讲的金属布线工艺,与前面提到的光刻、刻蚀、沉积等独立的工艺不同。在半导体制程中,光刻、刻蚀等工艺,其实是为了金属布线才进行的。在金属布线过程中,会采用很多与之前的电子元器件层性质不同的配线材料(金属)。
2023-04-25 10:38:49986

虹科技术|半导体制造工艺中的UV-LED光源

半导体行业借助紫外光谱范围(i 线:365 nm、h线:405 nm和g线:436 nm)中的高功率辐射在各种光刻、曝光和显影工艺中创建复杂的微观结构
2023-04-24 11:23:281480

《炬丰科技-半导体工艺》金属氧化物半导体的制造

书籍:《炬丰科技-半导体工艺》 文章:金属氧化物半导体的制造 编号:JFKJ-21-207 作者:炬丰科技 概述 CMOS制造工艺概述   CMOS制造工艺流程   设计规则   互补金属氧化物
2023-04-20 11:16:00247

ASML是如何崛起的?半导体发展的三个历史阶段

那时集成电路也刚刚发明不久,光刻工艺还在微米级别,工艺步骤也比现在简单很多美国是走在世界前列的。在那个对工艺要求并不高的年代,很多半导体公司通常自己用镜头设计光刻工具,光刻机在当时甚至不如照相机的结构复杂。
2023-04-20 09:22:331314

国内功率半导体需求将持续快速增长,欢迎广大客户通过华秋商城购买导微系列产品

技术及工艺的先进性,还较大程度上依赖进口,未来进口替代空间较大。从中长期看,国内功率半导体需求将持续快速增长。根据前瞻产业研究院预测,到2026年分立器件的市场需求将超过3,700亿元。近年来物联网
2023-04-14 16:00:28

国内功率半导体需求将持续快速增长

技术及工艺的先进性,还较大程度上依赖进口,未来进口替代空间较大。从中长期看,国内功率半导体需求将持续快速增长。根据前瞻产业研究院预测,到2026年分立器件的市场需求将超过3,700亿元。近年来物联网
2023-04-14 13:46:39

浅谈EUV光刻中的光刻胶和掩模等材料挑战

新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121164

【新闻】全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告正式发布

全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告链接:https://mp.weixin.qq.com/s/bdcp-wGqvXY_8DPzn8dhKw各高校在计算机类竞赛的表现情况是评估相关高校计算机
2023-04-10 10:16:15

湿式半导体工艺中的案例研究

半导体行业的许多工艺步骤都会排放有害废气。对于使用非常活泼的气体的化学气相沉积或干法蚀刻,所谓的靠近源头的废气使用点处理是常见的做法。相比之下,对于湿法化学工艺,使用中央湿式洗涤器处理废气是一种公认
2023-04-06 09:26:48408

被卡脖子的半导体设备(万字深度报告

光刻是将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的光刻胶上,通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上的技术。光刻工艺包括三个核心流程:涂胶、对准和曝光以及光刻胶显影,整个过程涉及光刻机,涂胶显影机、量测设备以及清洗设备等多种核心设备,其中价值量最大且技术壁垒最高的部分就是光刻机。
2023-03-25 09:32:394952

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍 NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提速40倍。这对于半导体制造而言极大的提升了效率。甚至可以说
2023-03-23 18:55:377489

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