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倾佳电子基于SiC碳化硅MOSFET的15-125kW三相T型混合逆变器设计深度研究报告

杨茜 来源:jf_33411244 作者:jf_33411244 2025-11-20 09:11 次阅读
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倾佳电子基于基本半导体B3M010C075Z与B3M013C120Z的15-125kW三相T型混合逆变器设计深度研究报告:颠覆性影响与技术路径分析

倾佳电子(Changer Tech)是一家专注于功率半导体和新能源汽车连接器的分销商。主要服务于中国工业电源电力电子设备和新能源汽车产业链。倾佳电子聚焦于新能源、交通电动化和数字化转型三大方向,并提供包括IGBT、SiC MOSFET、GaN等功率半导体器件以及新能源汽车连接器。

倾佳电子杨茜致力于推动国产SiC碳化硅模块在电力电子应用中全面取代进口IGBT模块,助力电力电子行业自主可控和产业升级!

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三个必然,勇立功率半导体器件变革潮头:

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET模块全面取代IGBT模块和IPM模块的必然趋势!

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET单管全面取代IGBT单管和大于650V的高压硅MOSFET的必然趋势!

倾佳电子杨茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET单管全面取代SJ超结MOSFET和高压GaN 器件的必然趋势!

1. 执行摘要

随着全球能源结构向分布式可再生能源转型,工商业(C&I)光储一体化系统正迎来爆发式增长。在这一背景下,15kW至125kW功率段的三相混合逆变器成为了连接光伏组件、储能电池与交流电网的核心枢纽。当前,基于硅基IGBT的传统T型三电平拓扑设计虽已成熟,但在面对高频化、高功率密度及极致效率(>99%)的市场需求时,正逐渐触及物理极限。倾佳电子深入剖析了基本半导体(BASIC Semiconductor)推出的两款第三代碳化硅(SiC)MOSFET——750V的B3M010C075Z与1200V的B3M013C120Z,旨在全面评估其应用于T型三电平拓扑时的技术颠覆性与系统级影响。

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本研究通过对器件静态特性、动态开关行为、热管理性能及封装工艺的详尽数据分析,揭示了该组合如何通过不对称耐压配置(Asymmetric Blocking Voltage Configuration)重塑T型拓扑的设计范式。研究发现,B3M010C075Z凭借其10mΩ的超低导通电阻与750V的耐压优势,完美适配中点钳位支路,解决了传统650V器件在1100V直流母线下的可靠性隐忧;而B3M013C120Z则以银烧结工艺与开尔文源极封装,确立了主功率路径的高频硬开关新基准。二者协同工作,不仅将系统开关频率潜力从传统的16-20kHz提升至40-60kHz以上,更使得磁性元件体积缩减30%-50%,并在全负载范围内实现了效率曲线的扁平化优化。倾佳电子将从器件物理、拓扑运行机理、系统无源元件设计及经济性分析等多个维度,为电力电子设计工程师提供一份详尽的各种技术洞察与实施指南。

2. 15-125kW工商业逆变器的技术演进与挑战

2.1 混合逆变器(Hybrid Inverter)的功能复杂性

与传统的并网逆变器不同,混合逆变器必须同时管理光伏输入(DC)、电池储能(DC)与电网(AC)之间的能量流动。在15-125kW的工商业应用场景中,这种复杂性被进一步放大:

双向功率流需求:设备不仅需要将光伏电能转换为交流电并网,还需具备从电网或光伏向电池高效充电的能力(整流模式)。这对功率器件的第三象限特性提出了严苛要求。

宽电压范围适应性:为了降低线缆损耗,现代光伏系统的直流母线电压正逐步向1100V甚至1500V演进,而电池组电压范围则宽至200V-900V。逆变器必须在极宽的电压增益范围内保持高效运行。

环境适应性与维护成本:C&I设备常安装于户外屋顶或设备间,高温、高湿环境要求设备具备极高的防护等级(IP65/IP66)。这对散热设计提出了巨大挑战,无风扇或少风扇设计成为趋势。

2.2 T型三电平拓扑(T-Type NPC)的物理局限

T型中点钳位拓扑因其兼具两电平拓扑的低导通损耗(长换流路径仅经过一个开关管)和I型三电平拓扑的低开关损耗特性,长期统治着该功率段市场。然而,基于硅基IGBT的T型方案面临着不可逾越的物理障碍:

性能瓶颈 物理根源 系统影响
反向恢复损耗 (Err) 硅基FRD(快恢复二极管)在关断时存在大量少数载流子复合过程,产生巨大的反向恢复电流峰值 (Irrm)。 限制了开关频率的提升,导致开关损耗随频率呈指数级增长,迫使设计停留在20kHz以下。
拖尾电流 (Tail Current) IGBT作为双极性器件,关断时少子复合滞后,造成电流拖尾。 显著增加了关断损耗 (Eoff),并需要设置较长的死区时间,导致波形畸变和低次谐波含量增加。
导通压降 (Vce(sat)) IGBT存在固有的PN结压降(通常>1.0V),即使在轻载下也无法消除。 导致轻载效率低下(<20%负载时),影响了系统在日照不足或夜间小功率放电时的能效表现。
非对称电压应力 在1100V系统中,半母线电压可达550V。 传统的650V IGBT在考虑到开关过冲和宇宙射线诱导失效时,电压裕量仅为100V,可靠性设计捉襟见肘。

3. 核心器件深度表征与物理特性分析

为突破上述瓶颈,引入宽禁带(WBG)半导体技术成为必然。基本半导体的B3M010C075Z和B3M013C120Z并非通用的SiC MOSFET,而是针对T型拓扑的非对称电压需求进行了精准定义的专用器件。

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3.1 B3M010C075Z:中点钳位路径的性能怪兽 (750V SiC MOSFET)

该器件被定义为T型拓扑中连接中性点与交流输出端的关键组件(T2/T3管)。其750V的额定电压打破了650V与1200V的传统二元对立,为中压应力点提供了最优解。

3.1.1 静态特性与导通损耗机制

B3M010C075Z在VGS=18V及TJ=25∘C条件下,典型导通电阻RDS(on)仅为10mΩ。更具颠覆性的是其高温特性:在TJ=175∘C的极限结温下,电阻仅上升至12.5mΩ。

这一特性对于中点开关管至关重要。在T型拓扑中,T2/T3管主要负责续流和零电平输出,其导通占空比在某些调制策略下可能非常高。相比同规格IGBT在高温下Vce(sat)的显著增加,SiC MOSFET的正温度系数电阻虽然存在,但增幅极小,且无拐点电压(Knee Voltage),使得在部分负载下的传导损耗呈现几何级数下降。

3.1.2 动态电容与开关能量

器件的寄生电容直接决定了开关速度和损耗。B3M010C075Z的输入电容Ciss为5500pF,而反向传输电容Crss(米勒电容)仅为19pF。极低的Crss意味着米勒平台极短,允许极快的电压变化率(dv/dt)。

开关能量 (Esw):在500V/80A的典型工况下,开启能量Eon为910μJ,关断能量Eoff为625μJ。这意味着单次开关的总损耗仅为1.5mJ左右,是同电流等级IGBT(通常在10mJ-20mJ)的十分之一甚至更低。这为将中点开关频率提升至50kHz以上提供了物理基础。

3.2 B3M013C120Z:高压主开关的坚实支柱 (1200V SiC MOSFET)

作为连接直流母线正负极的主开关(T1/T4),B3M013C120Z必须承受全母线电压,同时保证极低的损耗。

3.2.1 耐压与阻抗的极致平衡

在1200V耐压等级下实现13.5mΩ的导通电阻 是材料科学的重大突破。传统硅基MOSFET在1000V以上由于漂移区电阻急剧增加,几乎无法在单芯片上实现如此低的阻抗。B3M013C120Z不仅实现了这一指标,且在175∘C时电阻仅增至23mΩ。这意味着在125kW的高功率输出时,即使器件处于热稳定状态,其导通损耗依然可控,从而减轻了对散热系统的依赖。

3.2.2 栅极电荷与驱动优化

该器件的总栅极电荷QG仅为225nC 。在设计高频驱动电路时,驱动功率Pdr=QG×Vgs×fsw。

数据对比:同功率等级的1200V IGBT模块,其QG通常高达1000nC-2000nC。

设计洞察:使用B3M013C120Z,驱动电源的功率需求降低了约80%。这允许设计者使用更小巧、成本更低的隔离电源变压器和驱动IC,从而在PCB寸土寸金的混合逆变器控制板上节省宝贵空间。

3.3 共有核心技术:封装与互连工艺的革命

两款器件均采用了TO-247-4封装与银烧结技术,这并非简单的包装升级,而是释放SiC芯片潜能的关键使能技术。

3.3.1 银烧结 (Silver Sintering) 的热学优势

传统功率器件采用锡焊(Soldering)将芯片贴装于铜底板,焊料层的热导率和熔点是限制器件高温可靠性的短板。基本半导体在B3M010C075Z和B3M013C120Z中全线引入银烧结工艺。

热阻数据:两款器件的结壳热阻Rth(j−c)均被压低至0.20 K/W 。

工程意义:银烧结层的热导率是锡焊料的5-6倍,熔点更是高达960°C(远高于锡焊的220°C)。这不仅极大地降低了热阻,使得芯片产生的热量能瞬间传导至散热器,更彻底消除了功率循环中因热膨胀系数不匹配导致的焊层疲劳失效风险。对于设计寿命长达10年甚至20年的光伏逆变器而言,这是可靠性的一次质的飞跃。

3.3.2 开尔文源极 (Kelvin Source) 的电学解耦

TO-247-4封装引入了第4引脚——开尔文源极(Pin 3)。在传统TO-247-3封装中,源极引线电感Ls(通常约5-10nH)同时处于主功率回路和栅极驱动回路中。

机理分析:当电流快速变化时(高di/dt),Ls上会产生感应电动势VLs=Ls×di/dt。这个电压直接反向串联在驱动回路中,形成负反馈,减缓开关速度,增加开关损耗。

性能释放:通过将驱动回路的参考地独立引出(Kelvin Source),B3M013C120Z和B3M010C075Z成功旁路了主回路电感的影响。这使得器件能够以超过3000A/μs甚至更高的di/dt进行开关 ,从而将开关损耗压缩至极限。

4. T型三电平拓扑中的协同效应与工作模态分析

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将750V和1200V两款器件结合应用于T型拓扑,构建了一种“混合电压等级全碳化硅”架构。我们将通过分析具体的换流回路,来揭示这种组合的优越性。

4.1 拓扑结构定义

纵向桥臂 (Main Leg):由两个B3M013C120Z (1200V) 串联组成,分别连接DC+和DC-。定义上管为T1,下管为T4。

横向桥臂 (Clamp Leg):由两个B3M010C075Z (750V) 反向串联(共源极或共漏极)组成,连接交流输出点与直流中点(N)。定义为T2和T3。

4.2 换流模态分析 (Commutation Loop Analysis)

4.2.1 正半周:T1与T3的换流 (P状态 ↔ O状态)

当逆变器输出正电压时,电流在主开关T1(连接DC+)和钳位开关T3(连接中点N)之间切换。

T1导通 (P状态):电流流经T1。B3M013C120Z的13.5mΩ低阻抗确保导通损耗极低。此时T3承受阻断电压,约为半母线电压(例如400V-500V)。T2保持常通。

T1关断 -> T3续流 (死区时间):T1关断,电感电流迫使T3的体二极管导通。此时,750V器件B3M010C075Z的体二极管特性介入。

T3导通 (O状态):死区结束后,T3沟道打开。由于是SiC MOSFET,电流从体二极管转移到沟道(同步整流)。

关键洞察:B3M010C075Z的体二极管压降较高(~3.6V 1),但沟道电阻极低(10mΩ)。因此,精确控制死区时间至关重要。一旦沟道导通,压降瞬间降至10mΩ×50A=0.5V,远低于IGBT二极管的压降。

4.2.2 负半周:T4与T2的换流 (N状态 ↔ O状态)

同理,负半周由T4(B3M013C120Z)和T2(B3M010C075Z)配合工作。

4.3 反向恢复损耗的“归零”

在传统的IGBT T型方案中,当T3续流结束,T1再次开启时,T3的二极管必须经历反向恢复过程。IGBT配套的FRD通常具有较大的反向恢复电荷Qrr和反向恢复时间trr,这会导致T1开启瞬间产生巨大的电流尖峰,不仅增加损耗,还是EMI的主要源头。

SiC的优势:B3M010C075Z的体二极管反向恢复电荷Qrr仅为460nC 1,且其恢复特性是“硬”的,几乎没有拖尾。更重要的是,由于大部分续流时间电流流经MOSFET沟道而非二极管,二极管中积累的少数载流子极少(SiC本身为多子器件),实际上几乎消除了反向恢复损耗。这意味着T1的开启损耗(Eon)不再受限于对管的Qrr,从而大幅降低了总开关损耗。

4.4 电压等级匹配的安全性分析

在1100V直流母线系统中,中点钳位管需承受VDC/2=550V的静态电压。

650V IGBT方案:650V−550V=100V裕量。在开关暂态下,由于杂散电感引起的电压尖峰往往超过100V,设计者必须使用复杂的吸收电路(Snubber)或极其激进的栅极电阻来减缓开关速度,这牺牲了效率。

750V SiC方案 (B3M010C075Z):750V−550V=200V裕量。这额外的100V裕量是巨大的设计红利。它允许设计者减少甚至移除吸收电路,并使用更快的开关速度,同时在面对宇宙射线诱导的单粒子烧毁(SEB)风险时具有更高的鲁棒性。

5. 系统级颠覆性影响评估

5.1 开关频率提升与无源元件小型化

利用B3M010C075Z和B3M013C120Z构建的T型拓扑,其开关损耗的降低允许将开关频率从传统的16kHz提升至40kHz-60kHz,甚至更高。这一变化对无源元件产生了连锁反应:

组件 传统设计 (16kHz) SiC优化设计 (48kHz) 缩减幅度
LCL滤波器电感 需较大电感量以抑制电流纹波,体积庞大,铜损高。 电感量需求与频率成反比,可减少约60%。磁芯体积和铜线用量大幅下降。 体积 -50% / 重量 -40%
DC Link电容 需大容量电解电容阵列以吸收低频纹波。 高频纹波更容易被薄膜电容滤除,可减少电容数量或完全采用长寿命薄膜电容。 寿命 +200% / 体积 -30%

对于125kW机型,电感器的重量往往占据整机重量的30%以上。频率提升带来的电感小型化,直接使整机重量减轻20kg以上,使得原本需要吊车安装的设备变为双人搬运成为可能,极大降低了安装运维成本(OPEX)。

5.2 热管理系统的重构:迈向无风扇设计

在15-30kW功率段,B3M010C075Z (240A) 和 B3M013C120Z (180A) 的电流能力存在巨大裕量。结合银烧结带来的0.20 K/W低热阻,器件温升被显著抑制。

设计变革:这使得设计者可以尝试在25kW甚至30kW机型上取消强制风冷,转而采用自然散热设计。无风扇设计消除了逆变器中唯一的机械运动部件,解决了风扇寿命短、易积灰、易进水汽的痛点,将产品的平均无故障时间(MTBF)提升至新的高度,特别适合沙漠、海边等恶劣环境。

功率密度:在需要风扇的100-125kW大功率段,SiC方案允许在保持原有50kW-60kW机箱尺寸的前提下,将功率翻倍,极大地提升了功率密度。

5.3 电池充放电效率的极致优化

混合逆变器的核心竞争力之一是储能循环效率。

第三象限传导:在电池充电(整流)模式下,电流反向流经开关管。B3M010C075Z和B3M013C120Z的同步整流特性(Synchronous Rectification)在此发挥关键作用。通过主动控制栅极,在反向电流期间导通沟道,利用RDS(on)特性代替二极管导通。

数据推演:假设充电电流为100A。若流经二极管(压降~4V),损耗为400W;若流经沟道(1200V管阻抗13.5mΩ),损耗仅为1002×0.0135=135W。损耗降低了66%。在整个电池充放电循环中,这种效率提升直接转化为用户的经济收益。

5.4 并联扩容策略 (针对100-125kW应用)

对于125kW的高功率设计,单管电流可能不足。B3M010C075Z和B3M013C120Z表现出优异的并联特性。

正温度系数电阻:两款器件的RDS(on)均随温度升高而增加 。这是一种天然的均流机制:如果并联的某一只管子电流过大导致温度升高,其电阻会增加,自动迫使电流流向温度较低的管子,防止热失控。

阈值电压一致性:虽然数据手册给出的VGS(th)范围较宽(1.9V-3.5V),但在实际并联设计中,通过筛选或特定的驱动电路设计,可以确保良好的动态均流。建议采用2-3个器件并联,配合PCB叠层母排技术,可替代昂贵的功率模块,大幅降低BOM成本。

6. 应用指南与设计风险规避

尽管优势明显,但将SiC MOSFET应用于T型拓扑并非简单的“原位替换”,设计者需注意以下关键点:

6.1 栅极驱动设计:应对高dv/dt

SiC MOSFET的高速开关(tr/tf < 20ns )会产生极高的dv/dt(>50V/ns)。这可能通过米勒电容Crss向栅极耦合干扰电流,导致误导通(Crosstalk)。

对策:

负压关断:必须使用-3V至-5V的负压关断,以提高噪声容限。数据手册推荐VGS(op)=−5/18V 。

米勒钳位 (Miller Clamp):驱动电路应包含有源米勒钳位功能,在关断期间提供低阻抗路径。

独立源极布线:务必严格利用TO-247-4的开尔文源极(Pin 3),驱动回路地与功率回路地只能在芯片内部一点连接。

6.2 死区时间 (Dead Time) 的精细化管理

由于SiC MOSFET体二极管导通压降高(~3.6V-4.0V),过长的死区时间会导致巨大的二极管导通损耗。

计算:假设死区时间为1μs,开关频率50kHz,电流100A,二极管压降4V。仅死区造成的损耗就高达4V×100A×1μs×50kHz×2=40W(每相)。

优化:鉴于B3M系列极快的开关速度,建议将死区时间缩短至100ns-200ns区间。这不仅降低了损耗,还改善了输出电压的谐波失真(THD)。

6.3 短路保护 (Short Circuit Protection)

SiC MOSFET的芯片面积通常小于同电流等级的IGBT,热容较小,短路耐受时间(SCWT)较短(通常<3μs)。

方案:传统的去饱和检测(Desat)可能响应太慢。建议采用基于分流器(Shunt)或Rogowski线圈的快速电流检测方案,或使用专用的SiC驱动芯片,确保在2μs内完成关断保护。

7. 经济性分析与市场竞争力

7.1 BOM成本分析

虽然SiC单管的价格高于IGBT单管,但系统级成本(System BOM)往往持平甚至更低:

增加项:SiC功率器件成本。

减少项:

散热器铝材用量(-30%)。

输出滤波电感铜材与磁芯(-50%)。

机箱结构件(体积减小带来的材料节省)。

运输与安装人工成本。

7.2 LCOE (平准化度电成本) 贡献

对于最终用户,SiC逆变器带来的价值是全生命周期的。

发电量提升:99%的峰值效率和更宽的高效区间,使得在早晚弱光和云遮遮挡条件下,SiC逆变器能多发约1%-1.5%的电量。

寿命延长:更低的工作温度和无风扇设计,延长了设备的使用寿命,减少了更换备件的频率。

8. 结论

深圳市倾佳电子有限公司(简称“倾佳电子”)是聚焦新能源与电力电子变革的核心推动者:
倾佳电子成立于2018年,总部位于深圳福田区,定位于功率半导体与新能源汽车连接器的专业分销商,业务聚焦三大方向:
新能源:覆盖光伏、储能、充电基础设施;
交通电动化:服务新能源汽车三电系统(电控、电池、电机)及高压平台升级;
数字化转型:支持AI算力电源、数据中心等新型电力电子应用。
公司以“推动国产SiC替代进口、加速能源低碳转型”为使命,响应国家“双碳”政策(碳达峰、碳中和),致力于降低电力电子系统能耗。
需求SiC碳化硅MOSFET单管及功率模块,配套驱动板及驱动IC,请添加倾佳电子杨茜微芯(壹叁贰 陆陆陆陆 叁叁壹叁)

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综合评估表明,基本半导体的B3M010C075Z (750V) 与 B3M013C120Z (1200V) 组合,为15-125kW三相混合逆变器提供了一套几近完美的T型三电平解决方案。这一组合不仅从物理层面解决了传统方案在电压应力、开关损耗和热管理方面的痛点,更通过银烧结和开尔文封装等先进工艺,释放了SiC材料的全部潜能。

对于逆变器研发团队而言,采纳这一方案意味着能够设计出体积更小、重量更轻、效率更高且更可靠的新一代产品。这不仅是技术参数的升级,更是在竞争激烈的工商业光储市场中构建差异化竞争优势的战略支点。随着产能的释放和成本的进一步优化,预计这种“1200V + 750V”的全SiC T型架构将在未来3-5年内彻底取代IGBT方案,成为该功率段的行业标准。

审核编辑 黄宇

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    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子市场报告</b>:国产<b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>功率器件在全<b class='flag-5'>碳化硅</b>户用储能领域的战略突破

    基本半导体碳化硅 (SiC) MOSFET 外特性深度研究报告:饱和区、线性区及动态行为的物理与工程分析

    基本半导体碳化硅 (SiC) MOSFET 外特性深度研究报告:饱和区、线性区及动态行为的物理与工程分析
    的头像 发表于 11-24 04:40 564次阅读
    基本半导体<b class='flag-5'>碳化硅</b> (<b class='flag-5'>SiC</b>) <b class='flag-5'>MOSFET</b> 外特性<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>研究报告</b>:饱和区、线性区及动态行为的物理与工程分析

    电子碳化硅SiC MOSFET驱动特性与保护机制深度研究报告

    电子碳化硅SiC MOSFET驱动特性与保护机制深度
    的头像 发表于 11-23 11:04 1591次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>SiC</b> <b class='flag-5'>MOSFET</b>驱动特性与保护机制<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>研究报告</b>

    电子主流厂商碳化硅 (SiC) MOSFET 驱动 IC 产品及其技术特征深度研究报告

    电子主流厂商碳化硅 (SiC) MOSFET 驱动 IC 产品及其技术特征
    的头像 发表于 11-23 10:53 1222次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>主流厂商<b class='flag-5'>碳化硅</b> (<b class='flag-5'>SiC</b>) <b class='flag-5'>MOSFET</b> 驱动 IC 产品及其技术特征<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>研究报告</b>

    电子碳化硅 (SiC) MOSFET 设计户储逆变器如何助力安全性提升的深度研究报告

    电子碳化硅 (SiC) MOSFET 设计户储逆变器
    的头像 发表于 11-23 10:17 2432次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>全<b class='flag-5'>碳化硅</b> (<b class='flag-5'>SiC</b>) <b class='flag-5'>MOSFET</b> 设计户储<b class='flag-5'>逆变器</b>如何助力安全性提升的<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>研究报告</b>

    电子碳化硅MOSFET高级栅极驱动设计:核心原理与未来趋势综合技术评述

    电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件
    的头像 发表于 10-18 21:22 266次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>高级栅极驱动设计:核心原理与未来趋势综合技术评述

    电子SiC碳化硅MOSFET串扰抑制技术:机理深度解析与基本半导体系级解决方案

    电子SiC碳化硅MOSFET串扰抑制技术:机理深度
    的头像 发表于 10-02 09:29 519次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>串扰抑制技术:机理<b class='flag-5'>深度</b>解析与基本半导体系级解决方案

    电子1400V 碳化硅 (SiC) MOSFET 产品竞争力深度分析报告

    电子1400V 碳化硅 (SiC) MOSFET 产品竞争力
    的头像 发表于 09-28 09:32 427次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>1400V <b class='flag-5'>碳化硅</b> (<b class='flag-5'>SiC</b>) <b class='flag-5'>MOSFET</b> 产品竞争力<b class='flag-5'>深度</b>分析<b class='flag-5'>报告</b>

    T电平逆变器碳化硅MOSFET深度技术分析与应用价值研究

    电子T电平逆变器
    的头像 发表于 09-09 09:49 4047次阅读
    <b class='flag-5'>T</b><b class='flag-5'>型</b><b class='flag-5'>三</b>电平<b class='flag-5'>逆变器</b>与<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>:<b class='flag-5'>深度</b>技术分析与应用价值<b class='flag-5'>研究</b>

    电子SiC碳化硅MOSFET开关行为深度研究与波形解析

    电子SiC碳化硅MOSFET开关行为深度
    的头像 发表于 09-01 11:32 2552次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>开关行为<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>研究</b>与波形解析

    电子碳化硅MOSFET短路特性与退饱和保护(DESAT)深度研究报告

    电子碳化硅MOSFET短路特性与退饱和保护(DESAT)深度
    的头像 发表于 09-01 09:28 684次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>短路特性与退饱和保护(DESAT)<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>研究报告</b>