0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

三安集成于EDICON24展示新一代砷化镓射频器件制造工艺

全球TMT 来源:全球TMT 作者:全球TMT 2024-04-10 14:24 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

北京2024年4月10日 /美通社/ -- EDICON CHINA 2024 (电子设计创新大会)于4月9日-10日在北京会议中心正式举行,暌违三年有余,作为无线通信行业工程师的专业交流平台,大会再次召集了射频微波以及无线设计行业领域的精英企业,针对当下的通信、消费和航空航天等领域的应用展开讨论和技术分享。三安集成作为化合物射频前端器件的整合服务商,应邀参与大会,并在技术报告会中做出分享。

三安集成应邀参与EDICON 2024,并在技术报告会中做出分享。


三安集成应邀参与EDICON 2024,并在技术报告会中做出分享。

随着5G演进到Rel. 18及更高,推动着射频前端迭代到最新的Phase 8架构,集成度进一步提高。三安集成新一代的砷化镓射频器件制造工艺正是针对市场主流的模组化趋势,能够为客户提供更高性能的解决方案。

射频前端PA器件功放管主要采用砷化镓HBT工艺,追求在高频工况下,具备高线性度、稳定性和放大效率。三安集成通过在外延材料及工艺端的改善,发展的HP1/HP2工艺,对比起前代的HG6/HG7,在IMD3和PAE均有明显的改善,能够满足在复杂工况下的信号输出稳定需求。同时,配合新一代的铜柱工艺,实现晶圆的轻薄化和良好散热特性,减小模组尺寸,缩减成本、提升整体系统性能。

三安集成砷化镓研发部部长郭佳衢在报告中提道,三安集成的砷化镓HBT工艺已经覆盖了2/3/4GSub-6GHz,以及Wi-Fi 7等无线通信应用,并向着更高频率的应用投入研发资源。

砷化镓PHEMT是三安集成的另一工艺体系,目前已进展到0.1um的工艺节点,可以满足客户在Ka至W波段的高频应用,实现良好的信号强度和低噪声系数。成熟的P25工艺型谱则广泛应用于接收模组和中高功率的手机和基站,新一代P25ED51工艺相比前代在OIP3系数有明显改善,显现出出色的产品竞争力。

"三安集成具备丰富的大规模制造经验,秉持'客户至上'的精神,为客户和市场提供更高质量的制造服务,帮助客户实现商业成功,共同促进无线通信行业的发展繁荣。"郭佳衢部长补充道。

审核编辑 黄宇

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 无线通信
    +关注

    关注

    58

    文章

    4862

    浏览量

    146474
  • 砷化镓
    +关注

    关注

    4

    文章

    178

    浏览量

    20167
  • 射频器件
    +关注

    关注

    7

    文章

    132

    浏览量

    26094
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    广芯微推出新一代高性能Sub-GHz射频收发芯片UM2011A

    近日,广芯微电子正式推出其新一代高性能Sub-GHz射频收发芯片UM2011A。这款芯片集超低功耗、远距离通信与高集成度等核心优势于身,致力
    的头像 发表于 09-08 14:18 1308次阅读
    广芯微推出<b class='flag-5'>新一代</b>高性能Sub-GHz<b class='flag-5'>射频</b>收发芯片UM2011A

    AM010WX-BI-R高电子迁移率晶体管现货库存

    AM010WX-BI-R是AMCOM品牌的高电子迁移率晶体管(GaAs pHEMT),选用陶瓷 BI 封装,频率范围高达 12 GHz,适用于的L / S / C波段宽带功率
    发表于 08-25 10:06

    浅谈氮化器件制造难点

    制造氮化(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMTs)具有定难度,这主要归因材料本身以及制造工艺
    的头像 发表于 07-25 16:30 4343次阅读
    浅谈氮化<b class='flag-5'>镓</b><b class='flag-5'>器件</b>的<b class='flag-5'>制造</b>难点

    一代高速芯片晶体管解制造问题解决了!

    ,10埃)开始直使用到A7。 从这些外壁叉片晶体管的量产中获得的知识可能有助于下一代互补场效应晶体管(CFET)的生产。 目前,领先的芯片制造商——英特尔、台积电和
    发表于 06-20 10:40

    氧化射频器件研究进展

    氧化(Ga2O3 )是性能优异的超宽禁带半导体材料,不仅临界击穿场强大、饱和速度高,而且具有极高的 巴利加优值和约翰逊优值,在功率和射频器件领域具有重要的应用前景。本文聚焦 Ga2
    的头像 发表于 06-11 14:30 1959次阅读
    氧化<b class='flag-5'>镓</b><b class='flag-5'>射频</b><b class='flag-5'>器件</b>研究进展

    化合物半导体器件的定义和制造工艺

    化合物半导体器件以Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族元素通过共价键形成的材料为基础,展现出独特的电学与光学特性。以(GaAs)为例,其电子迁移率高达8500cm²/V·s,本征电阻率达10⁹Ω·
    的头像 发表于 05-28 14:37 2127次阅读
    化合物半导体<b class='flag-5'>器件</b>的定义和<b class='flag-5'>制造</b><b class='flag-5'>工艺</b>

    从清华大学到未来科技,张大江先生在半导体功率器件十八年的坚守!

    从清华大学到未来科技,张大江先生在半导体功率器件十八年的坚守!近年来,珠海市未来科技有限公司(以下简称“未来”)在第三代半导体行业异军
    发表于 05-19 10:16

    世半导体氮化器件助力浩思动力2025上海车展核心技术首秀

    ,显著提升系统在效率、体积和可靠性方面的表现。此次合作中,世依托领先的第三代半导体技术,为浩思动力打造低碳化、智能新一代动力总成解决方案提供了坚实的技术支撑。 在2025上海国际
    的头像 发表于 04-29 10:48 3234次阅读
    <b class='flag-5'>安</b>世半导体氮化<b class='flag-5'>镓</b><b class='flag-5'>器件</b>助力浩思动力2025上海车展核心技术首秀

    霸与风河联合打造新一代智能驾驶计算平台

    CV3 系列高性能 AI 芯片打造新一代智能驾驶计算平台。该联合解决方案计划 2025 年 4 月举办的上海国际汽车工业展览会上首度公开展示,标志着双方在智能驾驶系统软件与硬件协同创新领域的重要突破。
    的头像 发表于 04-18 17:56 1419次阅读

    Pickering品英集团将在电子设计创新大会展示模块射频微波开关和设计工具

    电子设计创新大会(EDICON China),展示多款模块射频微波开关和微波开关设计工具Microwave Switching Design Tool(MSDT),MSDT是向所有用
    发表于 04-17 09:27 354次阅读
    Pickering品英集团将在电子设计创新大会<b class='flag-5'>展示</b>模块<b class='flag-5'>化</b><b class='flag-5'>射频</b>微波开关和设计工具

    最全最详尽的半导体制造技术资料,涵盖晶圆工艺到后端封测

    工艺模型概况,用流程图将硅片制造的主要领域连接起来;具体讲解每个主要工艺集成电路装配和封装的后部
    发表于 04-15 13:52

    CMOS集成电路的基本制造工艺

    本文主要介绍CMOS集成电路基本制造工艺,特别聚焦0.18μm工艺节点及其前后的变化,分述如下:前段工序(FrontEnd);0.18μm
    的头像 发表于 03-20 14:12 3719次阅读
    CMOS<b class='flag-5'>集成</b>电路的基本<b class='flag-5'>制造</b><b class='flag-5'>工艺</b>

    京东方华灿光电氮化器件的最新进展

    日前,京东方华灿的氮化研发总监马欢应半导体在线邀请,分享了关于氮化器件的最新进展,引起了行业的广泛关注。随着全球半导体领域对高性能、高效率器件的需求不断加大,氮化
    的头像 发表于 03-13 11:44 1403次阅读

    CHA5659-98F/CHA5659-QXG:毫米波通信领域的高功率放大器

    CHA5659-98F/CHA5659-QXG是法国UMS公司推出的四级单片(GaAs)高功率放大器,专为36-43.5GHz毫米波频段设计。该器件采用先进的0.15μm pHE
    的头像 发表于 03-07 16:24 1034次阅读
    CHA5659-98F/CHA5659-QXG:毫米波通信领域的<b class='flag-5'>砷</b><b class='flag-5'>化</b><b class='flag-5'>镓</b>高功率放大器

    【「大话芯片制造」阅读体验】+ 芯片制造过程和生产工艺

    盖楼样,层层堆叠。 总结下,芯片制造的主要过程包括晶圆加工、氧化、光刻、刻蚀、薄膜沉积、互连、测试和封装。 晶圆,作为单晶柱体切割而成的圆薄片,其制作原料是硅或
    发表于 12-30 18:15