ASML的EUV***研发历程
euv即极紫外线光刻技术是光刻技术领域的新技术，被视为未来半导体制造领域的重要部分。但是，euv技术的开发存在很多困难，仍然存在局限性。
asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域***生产企业的领头羊，也是全球市场占有率最大的***生产企业。2012年，asml推出了世界上第一个euv试制品，并于2016年推出了euv第一个商用显卡制造机asmlnxe:3400b。共花费了7年的时间。2019年，asml发布了euv的第一个量产版本asmlnxe:3400c，宣布euv***技术的正式量产阶段。
在asml中，euv***的开发过程也很长。asml将从2001年开始投入巨额资金和人力，到2019年批量生产，历时10年完成。这体现了euv***技术在发展过程中所克服的技术难题和挑战。
asml公司的euv***技术的突破是***领域的伟大成就，但据许多报道，***的突破并不完全是事实。也有媒体不正确或报道不完全或夸张描写，试图吸引眼球的情况。
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