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ASML的EUV***研发历程

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-06-08 09:37 次阅读

euv即极紫外线光刻技术是光刻技术领域的新技术,被视为未来半导体制造领域的重要部分。但是,euv技术的开发存在很多困难,仍然存在局限性。

asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域***生产企业的领头羊,也是全球市场占有率最大的***生产企业。2012年,asml推出了世界上第一个euv试制品,并于2016年推出了euv第一个商用显卡制造机asmlnxe:3400b。共花费了7年的时间。2019年,asml发布了euv的第一个量产版本asmlnxe:3400c,宣布euv***技术的正式量产阶段。

在asml中,euv***的开发过程也很长。asml将从2001年开始投入巨额资金和人力,到2019年批量生产,历时10年完成。这体现了euv***技术在发展过程中所克服的技术难题和挑战。

asml公司的euv***技术的突破是***领域的伟大成就,但据许多报道,***的突破并不完全是事实。也有媒体不正确或报道不完全或夸张描写,试图吸引眼球的情况。

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