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ASML和IMEC宣布共同开发high-NA EUV光刻试验线

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-06-30 09:29 次阅读

6月29日,比利时微电子研究中心(imec)和阿斯麦asml宣布,将在高端high-na极紫外线(euv)光马托格测试线的下一阶段加强合作。

据悉,签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶设置imec测试线及asml的所有尖端光标及测量设备的服务。最新款0.55 na euv (twinscan exe:5200)、最新款0.33 na euv (twinscan nxe:3800)、duv淬火(twinscan nxe: 2100i)、yieldstar光学测量、hmi多光束。

报道指出,这两家企业在光控图表和测量技术方面的合作,与欧盟及其成员国的前景和计划是一致的。因此,imec和asml的合作被纳入荷兰政府目前正在讨论的ipcei提案。

asml的总裁兼首席执行官peter wennink表示,asml为促进欧洲半导体研究和持续创新,在imec最尖端测试设备上做出了重要承诺。随着人工智能ai)迅速扩展到自然语言处理、电脑视觉、自律系统等,业务的复杂性越来越大。因此,开发在不耗尽地球宝贵能源资源的情况下,满足这种计算需求的芯片技术是最重要的。

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