ASML产品路线图曝光，EUV***出货已超200台

半导体行业首席分析师scotten jones最近综合semicon west的信息，概括了asml high end产品的开发及应用现状和计划。

据Jones介绍，asml的nxe:3400b 45台、nxe:3400c 76台、nxe:3600d 75台等共出货了200台以上的nxe:3400/3600台，是euv产品中最多的nxe:3600d。第一个nxe 3800e预计将在第四季度上市。

euv光刻系统从2014年第一季度到2019年第四季度，nxe:3400c在客户端使用30 mj/cm2的电力，达到了约140芯片/小时的生产效率。nxe:3600d在现场的功率为30mj/cm2，略高于160 wph，在asml测试中达到185 wph。nxe:3800e的目标是220 wph以上。

nxe的实际工厂产量将持续增加，到2020年，年吞吐量超过50万晶圆的系统只有一个，2021年增至15个，2022年增至51个。

euv的问题之一是系统耗电量过大，根据asml的资料，euv持续提高能源效率，每片晶片的能耗减少了三倍。

以新一代0.55 na euv为例，第一批exe:5000将于2024年初出厂，2025年投产，asml将与imec一起在贝尔德霍文工厂建设高级na euv演示实验室（demo lab）， 2023年底前启动0.55 na euv resograb。

根据该计划，exe:5200的量产高值光圈暴露工具将于2025年初上市。

琼斯表示，如果缩小技术节点，0.55 na暴露工具最终也需要多图解，asml正在研究na约为0.75的“hyperna”工具，但尚未确定具体的变量。重要的问题是什么时候/需要这些工具。

在duv系列中，nt:2100i采用了4种新功能，今后d内存的逻辑及切割误差比1.3纳米大幅改善。