共读好书
什么是光刻?
光刻是集成电路(IC或芯片)生产中的重要工艺之一。简单地说,就是利用光掩模和光刻胶在基板上复制电路图案的过程。
硅片上涂有二氧化硅绝缘层和光刻胶。光刻胶在紫外光照射下很容易被显影剂溶解,经过溶解和蚀刻后,电路图案就会留在基板上。
什么是光刻胶?为什么500nm紫外线波长必须被阻挡?
光刻胶与树脂、溶剂和添加剂结合在一起。光刻胶的感光范围为200nm-500nm。因此,许多半导体实验室会采用黄光来阻挡500nm紫外波长,以防止光刻胶曝光过度或过早曝光的情况。
为什么用黄光?
因为黄光的波长较长, 难以使得光刻胶曝光, 因此将黄光作光刻区域的照明光源。
审核编辑 黄宇
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
半导体
+关注
关注
328文章
24548浏览量
203199 -
光刻胶
+关注
关注
10文章
284浏览量
29750
发布评论请先 登录
相关推荐
半导体制造黄光微影制程(相片蚀刻制程)说明
目前最先进的黄光微影制程中,使用ArF准分子雷射(λ=193nm)作为光源。nm为nano-meter,代表10的负九次方。
发表于 04-10 12:21
•163次阅读
半导体发展的四个时代
公司是这一历史阶段的先驱。现在,ASIC 供应商向所有人提供了设计基础设施、芯片实施和工艺技术。在这个阶段,半导体行业开始出现分化。有了设计限制,出现了一个更广泛的工程师社区,它们可以设计和构建定制
发表于 03-27 16:17
半导体发展的四个时代
等公司是这一历史阶段的先驱。现在,ASIC 供应商向所有人提供了设计基础设施、芯片实施和工艺技术。在这个阶段,半导体行业开始出现分化。有了设计限制,出现了一个更广泛的工程师社区,它们可以设计和构建定制
发表于 03-13 16:52
哪些因素会给半导体器件带来静电呢?
根据不同的诱因,常见的对半导体器件的静态损坏可分为人体,机器设备和半导体器件这三种。
当静电与设备导线的主体接触时,设备由于放电而发生充电,设备接地,放电电流将立即流过电路,导致静电击穿。外部物体
发表于 12-12 17:18
韩国总统尹锡悦将参观ASML无尘室,成为首个到访外国元首
尹锡悦代表方面表示:“asml允许韩国总统访问无尘室,作为外国首脑,他将首次访问无尘室。”他表示:“韩国政府希望将荷兰的尖端设备和韩国的尖端制造能力相融合。”如果半导体联盟的目标得以实现,就可以强化全球
光刻区为什么选黄光灯?为什么不使用红光或绿光?
黄光的波长远离UV范围,因此不会引起光刻胶的意外曝光。黄光灯通常不含有紫外线,从而保护光敏材料免受不必要的曝光。
发表于 10-11 15:14
•982次阅读
无尘室专用静电耗散产品分为哪几种
无尘室专用静电耗散产品主要用于控制无尘室内的静电积聚和静电放电,以确保无尘室内空气质量和工作环境的稳定性。静电耗散产品可以分为以下几种类型: 1. 静电耗散地板:无尘室专用的静电耗散地
韩国HANMI半导体贴合设备工厂全面运营
Bonder工厂位于HANMI半导体5个工厂之一的第3工厂约7.9万平方米的地皮上。第三工厂是可以同时组装和测试50多个半导体零部件的大型无尘室。该产品为制造dual tc bonder、tc bonder和flip chip
半导体企业如何决胜2023秋招?
根据中国集成电路产业人才白皮书数据来看,目前行业内从业人员仅46w左右,人才缺口仍有30w之 巨 。在国内半导体行业快速发展的当下,定位、抢夺优质人才是企业未来长期发展的基石。
那么每年秋招就是赢得
发表于 06-01 14:52
评论