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标签 > 光刻技术
随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术;使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
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光刻技术的进步使得器件的特征尺寸不断减小,芯片的集成度和性能不断提高。在摩尔定律的引领下,光学光刻技术经历了接触/接近、等倍投影、缩小步进投影、步进扫描...
特别是,韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年,韩国本土提出的专利申请数量为40件,超过了国外企业的10件。这是韩国提交的...
降低曝光光源的波长是光刻技术和设备的一个重要发展趋势。半个世纪以来随着光刻技术的发展,特征尺寸随之减小。在196O年代,半导体芯片制造商主要使用可见光作为光源。
集成电路的飞速发展有赖于相关的制造工艺光刻技术的发展,光刻技术是迄今所能达到的最高精度的加工技术。 集成电路产业是现代信息社会的基石。集成电路的发明使电...
近日,中国科学院官网上发布的一则研究进展显示,该团队研发的新型5nm超高精度激光光刻加工方法,随后这被外界解读为,已经5nm ASML的垄断,对此相关人...
早报:三星有望获得苹果M1芯片部分代工订单 因台积电5nm工艺产能紧张
但外媒最新的报道显示,5nm工艺已大规模量产的台积电,目前的产能无法满足再为苹果大规模代工M1芯片,苹果可能会将部分M1芯片的代工订单,交由台积电的竞争...
芯闻精选:松下将改组为控股公司制,下设车载电池等8家业务公司
松下控股下设车载电池、电子零部件、汽车零部件等 8 家业务公司。外媒表示,这样能够明确责任和权限,加快公司决策。松下还公布了新的人事任命,常务执行董事楠...
光刻技术为中心的行业壁垒,EUV光刻机并非是是中国半导体行业的唯一症结
在一颗芯片诞生的过程中,光刻是最关键又最复杂的一步。 说最关键,是因为光刻的实质将掩膜版上的芯片电路图转移至硅片,化虚为实。说最复杂,是因为光刻工艺需要...
体上,三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时,口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需要...
美国实施出口管制的六大技术,都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关,尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品,EUV光刻机在半导体制程的重要意...
在过去的十年中,包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发,以确保技术处于领先地位。最近,代工公司(意指三星)开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术...
韩国EUV光刻技术方面取得极大进展 专利申请是国外的两倍以上
IT之家 11 月 16 日消息 据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道,韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。但并没有提到是哪...
商务部长威尔伯·罗斯(Wilbur Ross)宣称:“关键技术和新兴技术国家战略是保护美国国家安全,确保美国在军事、情报和经济事务中保持技术领先地位的重...
该公司最近推出了Ryzen 9 5950X,5900X,5800X和5600X型号。尽管在Ryzen 5000系列中使用了7 nm光刻技术,但与前几代产...
微工程研究所的研究人员采用了新型纳米结构化技术,称为热扫描探针光刻(thermal scanning probe lithography,t-SPL)技...
新型光刻技术解决硅材料脆性难题,MEMS机械性能极限有望突破
联合小组经过长达十年的研究,重点是采用光刻工艺替代聚焦离子束(FIB)工艺来完成在硅晶圆上的结构制作。FIB虽然可以实现硅晶圆结构,但会对硅表面造成损伤...
与传统组织活检相比,检测原发或转移灶中脱离进入外周血循环的肿瘤细胞(CTC)具有肿瘤分子信息全、侵入性小、取样方便等优势。CTC分析技术的挑战在于如何从...
据国内媒体报道,来自中国科学院长春光学精密机械与物理研究所等单位的研究人员,开发了一种新型飞秒激光等离子激元光刻技术(FPL)。
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