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标签 > 光刻技术

光刻技术

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随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术;使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。

文章:126 浏览:15652 帖子:3

光刻技术资讯

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极紫外(EUV)光刻技术将如何影响掩模收入?

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美国宣布将六项新兴技术添加到《出口管理条例》

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光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上,然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。

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新型光刻技术解决硅材料脆性难题,MEMS机械性能极限有望突破

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2020-05-14 标签:工业自动化光刻技术 2961 0

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