极紫外（EUV）光刻技术将如何影响掩模收入？

藤村：在过去的几年中，口罩的收入一直在增长。在此之前，口罩收入相当稳定，每年约为30亿美元。最近，它们已经超过了40亿美元的水平，并且预计还会继续增长。发光二极管公司认为，这一增长的一部分是由于该行业向EUV的转变。调查中的一个问题问到参与者：“ COVID将对光掩模市场产生什么业务影响？” 有人认为这可能是消极的，但大多数人认为这不会产生太大影响，或者可能会产生积极的影响。在最近的eBeam计划中小组成员评论说，前景乐观的原因可能是由于半导体行业的需求情况。庇护所和在家工作的环境正在为电子和半导体行业创造更多的需求和机会。

SE：极紫外（EUV）光刻技术将如何影响掩模收入？

藤村：总体上，三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时，口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需要在高级节点处使用更多的掩模。使用EUV，您的掩模较少，但是每个EUV层的掩模成本更高。

SE：几十年来，IC行业一直遵循摩尔定律，即芯片中的晶体管密度每18到24个月翻一番。按照这种节奏，芯片制造商可以在芯片上封装更多和较小的晶体管，但是摩尔定律似乎正在放缓。接下来是什么？

藤村：摩尔定律的定义正在改变。不再关注CPU时钟速度的趋势。那变化不大。它通过位宽扩展而不是时钟速度扩展。其中很多与热性能和其他方面有关。我们有一些理论可以逐步改善。另一方面，如果您查看诸如使用GPU或具有更多CPU内核的大规模并行计算之类的东西，以及如果包括这些东西，则可以多快地访问内存（或可以访问多少内存），那么摩尔定律就非常活跃。

例如，D2S为半导体制造业提供计算系统，因此我们也是技术的消费者。我们进行大量的超级计算，因此了解计算能力方面的情况对我们很重要。我们看到的是，我们的计算能力正在以与以前大致相同的速度持续提高。但是，作为程序员，我们必须适应如何利用它。并不是您可以使用相同的代码，它就不会像20年前那样自动缩放。您必须了解在任何给定时间点，缩放比例如何不同。您必须弄清楚如何利用新一代技术的优势，然后转移代码。因此，这肯定更难。您必须弄清楚如何利用新一代技术的优势，然后转移代码。因此，这肯定更难。您必须弄清楚如何利用新一代技术的优势，然后转移代码。因此，这肯定更难。

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