0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

美国将光刻技术纳入出口限制清单

传感器技术 来源:EET电子工程专辑 作者:EET电子工程专辑 2020-11-12 14:41 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

日前,美国商务部工业安全局(BIS)在其官方网站发文表示,将六项新兴技术添加到《出口管理条例》(EAR)的商务管部管制清单(CCL)中。美国商务部在官网发文表示,此举是为了支持关键及新兴技术这一国家战略。

目前受到出口管制的新兴技术总数已经达到了 37 项。

商务部长威尔伯·罗斯(Wilbur Ross)宣称:“关键技术和新兴技术国家战略是保护美国国家安全,确保美国在军事、情报和经济事务中保持技术领先地位的重要战略部署。”“美国商务部已经对 30 多种新兴技术的出口实施了管控,我们将继续评估和确定未来还有哪些技术需要管控。”

彻底封锁芯片先进制造工艺

最新的商业管制是依据 2019 年 12 月全体大会上达成的协议——《常规军备和两用物品及技术出口管制瓦森纳协议》实施的。制定和实施对新兴技术的多边控制符合《2018 年出口控制改革法案》(ECRA)的要求,这样能够确定哪些新兴和基础性技术对美国国家安全起到至关重要的作用。

本次新上榜商业管制清单的六项新兴技术为:

混合增材制造/计算机数控工具;

特定的计算光刻软件;

用于为5nm生产精加工晶圆的某些技术;

有限的数字取证分析工具;

用于监测电信服务通信的某些软件

亚轨道航天器

美国实施出口管制的六大技术,都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关,尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品,EUV光刻机的重要性可想而知。

“用于制造极紫外线掩模的计算光刻技术软件”涵盖EUV光刻所需的特定软件,包括与三维(3D)效应、掩模阴影效应、光照方向效应、远距离眩光效应、邻近效应、抗蚀剂中的随机性效应以及源掩模优化有关的软件,这类软件是在晶圆上做出经过优化的光刻胶图案必需的软件;

而“用于为 5nm 生产精加工芯片的技术”旨在应用于面向5nm生产的晶圆,包括对直径300 mm的硅晶圆进行切片、打磨和抛光以达到某些标准所需要的技术,以及尽量减小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技术以及局部光散射体(LLS)。以上两类技术都受到国家安全和反恐管制的约束。

目前全世界唯一能生产EUV光刻机的企业只有荷兰ASML公司,而ASML最大的两大股东资本国际集团(MSCI)和贝莱德集团(BlackRock, Inc.)都是美国公司,其用于打造EUV光刻机的高精技术也有不少为美国所持有。

美国商务部此举相当于直接封锁了高端芯片的制造技术,针对的是谁不用多说。从目前来看,中国作为美国芯片产品最大的采购国之一,受出口管制影响是巨大的。

这是 BIS 自 2018 年通过 ECRA 法令以来实施的第四套新兴技术管控措施。BIS 在此之前曾公布了三份联邦文件通知,对航空航天、生物技术、化学、电子、加密、地理空间图像和海洋领域的 31 项新兴技术实施了管制,其中大多数是在多边支持下实施的。其中包括因化学 / 生物和反恐理由而受管制的 24 种化学武器前体,以及:

1、离散微波晶体管

2、操作软件的连续性

3、Post-quantum 密码学

4、用作水中听音器的水下传感器

5、空中发射平台

6、地理空间图像软件(单侧)

7、一次性生物栽培室

受新管制影响最大的几个行业是航空航天、生物技术、化学、电子、加密、地理空间图像和海洋行业。正如BIS所承诺的那样,新兴技术是加以严格定义的,几乎都受到多边管制的约束。

此外,根据 ECRA 规定,商务部工业安全局已于 2020 年 8 月 27 日就基础技术鉴定征求公众意见,公众意见征询期将持续到 2020 年 11 月 9 日,这也就意味着,未来或许还会有更多新兴和关键技术被列入出口管制清单。

受管制新兴技术具体解释

如下所述,该规则将一个新的出口管制分类编号(ECCN)添加到CCL,并修订了另外五个ECCN。

混合增材制造(AM)/计算机数控(CNC)工具受ECCN 2B001管制。该规则阐明,除车削、铣削或磨削能力外还拥有增材制造能力的机床适用于ECCN 2B001。因此,即使增材制造能力添加到设备中,归类为ECCN 2B001的机床仍可能归类为该ECCN。该规则不管制一般的增材制造设备。ECCN 2B001的产品受到国家安全、核不扩散和反恐管制的约束。

为制造极紫外(EUV)掩模而设计的计算光刻软件添加到ECCN 3D003:ECCN 3D003已扩大范围,涵盖EUV光刻所需的特定软件,包括与三维(3D)效应、掩模阴影效应、光照方向效应、远距离眩光效应、邻近效应、抗蚀剂中的随机性效应以及源掩模优化有关的软件。这类软件是晶圆上做出经过优化的光刻胶图案所需的,受到国家安全和反恐管制的约束。

用于为5nm生产精加工晶圆的技术受新的ECCN 3E004的管制:该规则为CCL添加了ECCN 3E004;ECCN 3E004管制用于生产高端集成电路基板的技术,它们旨在应用于面向5 nm生产的晶圆。受管制技术包括:对直径300 mm的硅晶圆进行切片、打磨和抛光以达到某些标准所需要的技术,以及尽量减小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技术以及局部光散射体(LLS)。这些技术受到国家安全和反恐管制的约束。

可以规避计算机(或通信设备)方面的身份验证或授权控制措施,并提取原始数据的数字取证分析工具添加到ECCN 5A004中:BIS扩大了ECCN 5A004的范围,以管制可以迅速分析设备并恢复受保护信息的硬件,包括通过破解、操纵、利用及/或绕过制造商安装在设备上的安全措施。这项新的ECCN即5A004.b并非旨在管制提取设备上不受保护的数据的产品、生产或测试设备、系统管理工具或用于零售用途(比如解锁手机)的工具。相应的软件管制已添加到5D002。这些产品受到国家安全和反恐管制的约束。

用于通过侦听接口来监测和分析从电信服务提供商处获得的通信和元数据的软件添加到ECCN 5D001:BIS添加了ECCN 5D001.e,这涵盖专门经过设计或修改,供执法部门用于分析从侦听接口获取的通信内容或元数据。该软件必须提供以下两种功能:1)基于硬选择器,使用“侦听接口”对从通信服务提供商获取的通信内容或元数据执行搜索;以及2)根据搜索通信内容或元数据的结果,映射关系网络或跟踪针对性个人的活动。这项新内容并不管制网络管理工具或银行软件。软件受到国家安全和反恐管制的约束。

亚轨道飞行器添加到ECCN 9A004.h:BIS已将亚轨道飞行器添加到了以前应用于CCL第9类中的太空发射器和“航天器”的管制。亚轨道飞行器旨在在平流层上方运行,不完成轨道就降落在地球上。因此,它并不符合“航天器”的定义,“航天器”仅限于卫星和太空探测器。飞行器受到国家安全、区域稳定和反恐管制的约束。

中国出台出口管制法

中国方面,《中华人民共和国出口管制法》已由第十三届全国人民代表大会常务委员会第二十二次会议于2020年10月17日通过,并从2020年12月1日起施行,中国管制法实行引发了外国媒体的密切关注。在管制法中,中国除了将核材料等纳入管制范围内,其他一些维护中国国家安全等货物也纳入其中。

该法规定,任何国家或者地区滥用出口管制措施危害中国国家安全和利益的,中国可以根据实际情况对该国家或者地区对等采取措施。

出口管制是指对特定物项的出口采取禁止或者限制性措施,以对该物项的使用主体或者用途进行控制。实施出口管制,是国际通行的履行防扩散等国际义务的做法。当下,出口管制正成为维护国家安全和利益的重要手段。

出口管制法包括总则,管制政策、管制清单和管制措施,监督管理,法律责任,附则五章,共49条。

该法明确了出口管制范围,确保管制物项、管制主体和行为全覆盖,规定:从中国境内向境外转移管制物项,以及中国公民、法人和非法人组织向外国组织和个人提供管制物项,均受本法约束。

据报道,美国近年来将注意力放在提高国家地位以及打压其他国家发展上,国内制造业发展落后,国产开机械等已经无法满足美国制作武器以及其他大型设备的需求,不得已,美国只能通过向其他国家进口机械。而中国是美国主要机械进口国,因为中国机械质量等能够满足美国要求。虽然其他国家也有出口机械等,但由于国内制造加工技术并不先进,所以所出口机械无法让美国满意。

如今中国出台管制法案,对一些机械器材进行限制出口,美国将无法从中国进口所需机械,这使美国政府官员暴跳如雷,他们表示,中方这一做法将直接影响到美国武器制作,美国会面临断供危机。

责任编辑:lq

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    462

    文章

    53537

    浏览量

    459151
  • 光刻技术
    +关注

    关注

    1

    文章

    151

    浏览量

    16462
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    614

    浏览量

    88527

原文标题:中国发布“出口管制法”后,美国将光刻技术纳入出口限制清单

文章出处:【微信号:WW_CGQJS,微信公众号:传感器技术】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    技术解读:出口美国必备的208V/480V转380V变压器,什么是 UL认证变压器

    ​ ​技术解读:出口美国必备的208V/480V转380V UL认证变压器​ ​ 对于任何计划中国工业设备出口
    的头像 发表于 10-20 15:08 298次阅读
    <b class='flag-5'>技术</b>解读:<b class='flag-5'>出口</b><b class='flag-5'>美国</b>必备的208V/480V转380V变压器,什么是 UL认证变压器

    西门子发布关于美国解除近期对中国EDA出口限制的声明

    西门子今天就美国解除近期对中国 EDA 出口限制发布以下声明。 西门子近期获美国商务部工业与安全局 (BIS) 通知,该局于 5 月 23 日致函西门子所提出的 对中国客户
    的头像 发表于 07-03 19:01 2354次阅读

    美国解除对华出口限制,三大巨头恢复对华EDA销售

    设计软件。   美国自2022年8月实施禁令,严格限制先进制程(14纳米及以下)EDA工具对华出口。此次调整被视为对成熟制程供应链的有限松动,但先进制程领域的技术封锁仍将持续。   据
    发表于 07-03 16:12 1544次阅读

    美取消对中国芯片设计软件出口限制 西门子已恢复中国客户对其软件和技术的全面访问

    据央视新闻报道,美国已取消对中国芯片设计软件的出口限制。 据悉,在当地时间的7月2日德国西门子证实了该消息,德国西门子称收到美国政府通知已取消对中国芯片设计软件的
    的头像 发表于 07-03 11:22 2220次阅读

    黄仁勋:不再将中国市场纳入业绩预测

    管制。 此外,对于芯片管制,黄仁勋在接受美国消费者新闻与商业频道(CNBC)采访时发表了进一步的看法,黄仁勋重申了对美国芯片出口限制的批评。虽然现在
    的头像 发表于 06-13 14:29 1272次阅读

    光刻图形转化软件免费试用

    光刻图形转化软件可以gds格式或者gerber格式等半导体通用格式的图纸转换成如bmp或者tiff格式进行掩模版加工制造,在掩膜加工领域或者无掩膜光刻领域不可或缺,在业内也被称为矢量图形光栅化软件
    发表于 05-02 12:42

    今日看点丨美国浪潮等54家中国科技企业加入实体清单;中国科学院成功研发全固态 DUV 光源技术

    1. 美国浪潮等 54 家中国科技企业加入实体清单   当地时间周二(3月25日),美国商务部工业与安全局(BIS)在联邦公报上发布两份文件,
    发表于 03-26 11:15 1263次阅读

    出口美国必备!UL认证480V变220V变压器

    随着出口美国新规的实施,UL认证480V变220V变压器成为配套设备出口的必备产品。卓尔凡变压器作为源头厂家,生产的480V变220V变压器已通过UL整机认证,完全符合美国市场准入标准
    的头像 发表于 02-17 16:56 857次阅读
    <b class='flag-5'>出口</b><b class='flag-5'>美国</b>必备!UL认证480V变220V变压器

    纳米压印技术:开创下一代光刻的新篇章

    光刻技术对芯片制造至关重要,但传统紫外光刻受衍射限制,摩尔定律面临挑战。为突破瓶颈,下一代光刻(NGL)
    的头像 发表于 02-13 10:03 3331次阅读
    纳米压印<b class='flag-5'>技术</b>:开创下一代<b class='flag-5'>光刻</b>的新篇章

    今日看点丨美国商务部将智谱等11家中企列入实体清单;荷兰4月1日起扩大半导体设备出口管制

    1. 美国商务部将智谱等11 家中企列入实体清单   1月15日,美国商务部工业和安全局 (BIS) 11 家中国实体列入实体名单,理由是这些实体从事的活动违反了
    发表于 01-16 11:04 1190次阅读

    看点:Meta宣布裁员约5% 欧盟对美限制AI芯片出口担忧 广汽与华为合作进展加速

    裁撤5%的员工,但是计划会在年内招募新员工以填补这些空缺。 按照Meta 约7.2万名员工、裁员比例约为5%来测算,此次裁员波及3600个岗位。 欧盟对美限制AI芯片出口担忧 据外媒法新社报道,
    的头像 发表于 01-15 11:15 1793次阅读

    美国拜登政府公布先进半导体出口限制,英伟达和中国商务部回应!

    美国拜登政府1月13日公布了用于人工智能(AI)的先进半导体相关的出口管制修订案。针对东南亚和中东地区,在设置“数量限制”的同时建立可便捷出口
    的头像 发表于 01-14 15:27 675次阅读

    今日看点丨美国正式公布AI芯片出口限制!;Arm拟涨价300% 并考虑自行开发芯片

    1. 美国正式公布AI 芯片出口限制!   美国宣布对英伟达公司及其同行的先进人工智能芯片销售实施全面新限制。这些规定将于一年内生效,对可
    发表于 01-14 10:56 899次阅读

    光刻掩膜技术介绍

    胶。 掩膜版对下游行业生产线的作用主要体现为,利用掩膜版上已设计好的图案,通过透光与非透光的方式进行图像(电路图形)复制,电路图案精确地转移到硅片上的光刻胶层。随后,经过蚀刻、掺杂等步骤,在硅片上形成所需的电路结构,从而实现批量生产。
    的头像 发表于 01-02 13:46 4606次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>掩膜<b class='flag-5'>技术</b>介绍

    美国中微公司移出制裁清单

    公司和IDG Capital从CMC清单中剔除。 据了解,2024年1月31日(美国东部时间),美国国防部根据《2021财年国防授权法案》第1260H条,中微公司列入CMC
    的头像 发表于 12-18 16:05 1214次阅读