在核聚变能源成为全球能源转型重要方向的今天，托卡马克等核聚变研究装置的稳定运行与技术突破，离不开对等离子体状态的精准把控。等离子体诊断作为解析等离子体物理特性的核心手段，通过探针法、微波法、激光法、光谱法等多种技术，获取电子密度、电子温度、碰撞频率等关键参数，为核聚变反应的控制与优化提供数据支撑。
2025-12-15 09:29:07
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华为与广汽、东风集团达成全新合作，这一战略联盟对制造工艺提出了新的要求。在保持各自体系特色的同时实现产品质量提升，成为各方需要面对的课题。在这一背景下，等离子表面处理设备或许能够提供一种新的工艺思路
2025-12-11 10:09:30384 方法，最终所展示出来的温度曲线是极其不稳定的，他会由于控制器件的灵敏程度、加热头的性能等等原因，导致最终的温度曲线会在目标周围震荡，达不到理想的控制效果，就像下图：实际曲线（黑线） 在 目标曲线（红线
2025-11-28 07:17:28
IR2010SPBF驱动器控制半桥电路输出PWM设备安装在地铁上，在运行过程中会出现TMS检测到输出频率占空比都是零，取回故障设备通电测量PWM正常输出，什么原因会导致这种现象发生？
2025-11-26 09:38:58
氩离子抛光技术通过电场加速产生的高能氩离子束，在真空环境下对样品表面进行可控的物理溅射剥离。与传统机械制样方法相比，其核心优势在于：完全避免机械应力导致的样品损伤，能够保持材料的原始微观结构，实现
2025-11-25 17:14:14456 
摘要：电感耦合等离子体发射光谱仪广泛应用于实验室元素分析。本文采用电感耦合等离子发射光谱法（ICP-OES）同时测定碱性电池生产废水中铁、锌、锰、镍、铜、铅、铝、铬金属元素的含量。
2025-11-25 13:52:45345 
等离子透镜实验方案 柏林马克斯·伯恩研究所(MBI)与汉堡DESY研究中心组成的联合研究团队成功研制出可聚焦阿秒级光脉冲的等离子体透镜。这一突破性进展使得实验可用阿秒脉冲功率实现量级提升，为研究超快
2025-11-25 07:35:1798 
在TEM（透射电子显微镜）高精度的表征和FIB（聚焦离子束）切片加工技术之前，使用等离子体进行样品预处理是一个关键的步骤，主要用于清洁和表面改性，其直接目的是提升成像质量或加工效率。
2025-11-24 17:17:031234 当科技巨头META宣布9月发布搭载 微型屏幕 的 智能眼镜 时，轻巧机身内的高精度光学系统引发关注。这款设备要在镜片上实现虚实融合，依赖一项 纳米级表面处理技术 —— 等离子表面处理 。它通过
2025-11-19 09:37:28351 有没有人知道这是什么原因导致的
2025-11-11 06:07:06
氩离子抛光技术作为一项前沿的材料表面处理手段，凭借其高效能与精细加工的结合，为多个科研与工业领域带来突破性解决方案。该技术通过低能量离子束对材料表面进行精准处理，不仅能快速实现抛光还能在微观尺度
2025-11-03 11:56:32205 
氩离子抛光和切割技术是现代微观分析领域中不可或缺的样品制备手段。该技术通过利用宽离子束（约1毫米宽）对样品进行切割或抛光，能够精确地去除样品表面的损伤层，并暴露出高质量的分析区域，为后续的微观结构
2025-10-29 14:41:57192 
你是否想象过，有一种特殊的“火焰”，它并不灼热，却能瞬间让材料表面焕然一新；它不产生烟雾，却能精密地雕刻纳米级的芯片电路？这种神奇的“火焰”，就是今天我们要介绍的主角——射频等离子体（RF Plasma）。
2025-10-24 18:03:141303 坚实有力的技术支撑。SEM分析在这之前，样品的制备是至关重要的一步。传统的研磨和抛光方法虽然在一定程度上能够满足样品表面处理的需求，但往往会对样品表面造成不可逆的损
2025-10-11 14:14:38217 
德国施泰因哈根2025年9月29日 /美通社/ -- 汽车行业正面临重大挑战：新材料应用、轻量化结构理念以及日益增长的可持续性要求，这些都需要创新制造工艺的支持。等离子技术在应对这些挑战中发
2025-09-30 09:42:14380 RT-Thread Vision Board这个板子现在OTG那个口连我的电脑连上去电脑openmv识别不到我的openmv，我看设备管理器里面也没有，然后我换了好多线也不管用，换电脑也不成功，不知道是什么原因，板子连线后闪蓝灯
2025-09-23 06:20:18
最近在学习artpi2，发现图片显示的这里
这里用的是英文，但是setting这里是中文
gpio的setting上也有类似的现象，请问这是什么原因导致的
2025-09-22 06:10:01
定位后，发现在调用栈中经常会同时出现两个中断，一个串口中断和systick 中断，就挺奇怪的，这是定时器中断被别的中断打断了吗? rt_sched_lock 的作用似乎就是关闭全局中断吧。。。 请问可能是什么原因？ 谢谢！
rt-thread 版本: 5.2.1
2025-09-09 06:56:39
电解电容鼓包是常见的失效现象，通常由内部压力积聚导致外壳变形，其根本原因与电解电容的结构特性、工作条件及材料老化密切相关。以下是具体原因分析及预防措施： 一、电解电容鼓包的核心原因 1. 过电压
2025-08-29 16:19:441344 抛光（PEP）工艺具有抛光效率高、适用于复杂零件等优势，可有效改善表面质量。本文借助光子湾科技共聚焦显微镜等表征手段，研究电解质等离子抛光工艺对激光选区熔化成形T
2025-08-21 18:04:38600 
行业背景 等离子清洗机是半导体、电子、医疗器械等精密制造领域的关键设备，通过等离子体去除材料表面微污染物（如油污、氧化层），其处理效果（如清洁度、表面张力）直接影响后续焊接、镀膜等工艺的良率，在传统
2025-08-13 11:47:24458 
图1.射频放电诊断系统与相似射频放电参数设计 核心摘要： 清华大学与密歇根州立大学联合团队在顶级期刊《物理评论快报》发表重大成果，首次通过实验验证了射频等离子体的相似性定律，并成功构建全球首个
2025-07-29 15:58:47582 
dotnet配置如下：
log日志如下：
但是转换时长足足八个小时一直卡在50%，请问这是什么原因？
看一下数据中的图片和标注是否同名，且一对一
2025-07-25 06:18:35
安规电容通常用于抑制噪声、滤波或电气隔离等。安规电容在设计时必须具备一定的安全标准，以保证在故障情况下不会对使用者造成电击或火灾等危险。然而，安规电容也有可能因各种原因发生损坏，常见的原因包括： 一
2025-07-13 11:03:59998 远程等离子体刻蚀技术通过非接触式能量传递实现材料加工，其中热辅助离子束刻蚀（TAIBE）作为前沿技术，尤其适用于碳氟化合物（FC）材料（如聚四氟乙烯PTFE）的精密处理。
2025-06-30 14:34:451129 
等离子体发生装置通过外部能量输入使气体电离生成等离子体，在工业制造、材料科学、生物医疗等领域应用广泛。高压放大器作为能量供给的核心器件，直接影响等离子体的生成效率、稳定性和可控性。 图
2025-06-24 17:59:15486 
(如道路开挖)、重物碾压、动物啃咬(如老鼠咬断)。 案例：某小区宽带中断，经排查发现施工队挖断主干光纤，导致整栋楼断网。 检测方法：使用OTDR(光时域反射仪)定位断点位置。 光纤弯曲过度 原因：布线时弯曲半径过小( 案例：办公室网络时断
2025-06-17 10:05:402958 
离子研磨技术的重要性在扫描电子显微镜（SEM）观察中，样品的前处理方法至关重要。传统机械研磨方法存在诸多弊端，如破坏样品表面边缘、产生残余应力等，这使得无法准确获取样品表层纳米梯度强化层的真实、精准
2025-06-13 10:43:20600 
图1. 等离子体多通道Betatron振荡产生的示意图 近期，中国科学院上海光学精密机械研究所超强激光科学与技术全国重点实验室研究团队提出了一种基于双激光脉冲干涉的新型高亮度X射线源产生方案。该团
2025-06-12 07:45:08393 
求助，使用51单片机和VL6180X传感器测距，结果一直是0是什么原因，能读到ID为0xB4
2025-06-09 06:38:46
，等离子清洗机在生产过程中面临以下核心问题： 数据孤岛现象：传统清洗机依赖本地PLC控制，数据分散在各车间，难以集中分析与优化。 运维效率低下：设备故障依赖人工巡检，响应滞后，导致停机时间延长，影响生产计划。 能耗与
2025-06-07 15:17:39625 
RT所示，我现在用这颗USB芯片，跑的USB High Speed模式，在win10上会出现跑着跑着USB设备消失了，设备管理器中都也找不到该设备了，必须要重新插拔一下才可以，有时候1天就会出现一次，有时候3-4天出现一次。这可能是什么原因造成的？
2025-06-03 07:56:16
样品切割和抛光配温控液氮冷却台，去除热效应对样品的损伤，有助于避免抛光过程中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化，氩离子切割制样原理氩离子切割制样是利用氩离子束（〜1mm）来切割样品，以获得相比
2025-05-26 15:15:22478 
在半导体制造领域，晶圆抛光作为关键工序，对设备稳定性要求近乎苛刻。哪怕极其细微的振动，都可能对晶圆表面质量产生严重影响，进而左右芯片制造的成败。以下为您呈现一个防震基座在半导体晶圆制造设备抛光机上的经典应用案例。
2025-05-22 14:58:29551 
我做了两版硬件，一版可以识别到fx3相机，另一版找不到。
但是两版都能测试USBBulkSourceSink.img，并且速率都在4Gbps以上。
有区别的是不能识别fx3相机的版本用的是52m的参考时钟，
请问下可能的原因在哪里？
2025-05-22 06:53:05
/com.ifx.tb.tool.ezusbfx3sdk
但是，现在不可用，我无法访问文件“ Windows (x32-x64) (exe)”。
有什么原因导致我无法下载 SDK？
另外，我可以直接下载驱动吗？
2025-05-21 06:40:49
在使用STM32F103芯片的2个定时器捕获2路PWM波时，当2路信号同时输入时，会出现捕获的频率不准确，但是分开一路一路的输入捕获时，捕获的PWM频率是正确的，这是什么原因导致的呢？
2025-05-14 06:24:00
Puffer抛光，扩大了非球面直径。这使得适用CCP抛光方法的范围更广。随后，Pea Puffer非球面通过中心磨削回到所需的透镜直径。
Pea Puffer通常导致更经济实惠的制造链（见下面的 Gudr2
2025-05-09 08:48:08
氩离子抛光技术氩离子抛光技术（ArgonIonPolishing,AIP）作为一种先进的样品制备方法，为电子显微镜（SEM）和电子背散射衍射（EBSD）分析提供了高质量的样品表面。下面将介绍氩离子
2025-04-27 15:43:51640 
在使用STM32F103芯片的2个定时器捕获2路PWM波时，当2路信号同时输入时，会出现捕获的频率不准确，但是分开一路一路的输入捕获时，捕获的PWM频率是正确的，这是什么原因导致的呢？
2025-04-27 08:39:28
在现代制造业中，等离子焊设备凭借其高效、优质的焊接性能，广泛应用于航空航天、汽车制造、船舶工业等领域。然而，等离子焊设备运行过程中能耗较高，且传统模式下缺乏对能耗数据的精准采集与分析，导致企业难以
2025-04-25 17:22:20689 在使用STM32F103芯片的2个定时器捕获2路PWM波时，当2路信号同时输入时，会出现捕获的频率不准确，但是分开一路一路的输入捕获时，捕获的PWM频率是正确的，这是什么原因导致的呢？
2025-04-25 08:29:21
LTC3350电容充电上升电流很慢，而规格书上写的是电流从0上升到设置的满电流只需要2ms，实际测试远远大于2ms，而且电流峰值也达不到设置值。请问是什么原因？
橙色波形为VIN处电流波形，原理图见附件。
PDF
2025-04-17 07:54:03
5V供电的STC单片机串口引脚（TX/RX）接到快充适配器的D+/D-上面后，导致快充适配器输出9V电压，这是什么原因导致的？
2025-03-26 10:34:01
通快霍廷格电子等离子体射频及直流电源为晶圆制造的沉积、刻蚀和离子注入等关键工艺提供精度、质量和效率的有力保障。 立足百年电源研发经验，通快霍廷格电子将持续通过创新等离子体电源解决方案，助力半导体产业
2025-03-24 09:12:28561 
电子发烧友网站提供《LGK一40型空气等离子弧切割机电气原理图.pdf》资料免费下载
2025-03-21 16:30:23
9 氩离子抛光技术的核心氩离子抛光技术的核心在于利用高能氩离子束对样品表面进行精确的物理蚀刻。在抛光过程中，氩离子束与样品表面的原子发生弹性碰撞，使表面原子或分子被溅射出来。这种溅射作用能够在不引
2025-03-19 11:47:26626 
氩离子抛光技术又称CP截面抛光技术，是利用氩离子束对样品进行抛光，可以获得表面平滑的样品，而不会对样品造成机械损害。去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像
2025-03-17 16:27:36799 
绝对值编码器位置丢失可能由多种原因引起，以下是一些常见原因及相应的解决办法： 一、原因分析 1. 电源干扰： ● 错误的电压、电流或突然断电可能会影响编码器的读数，导致位置丢失
2025-03-16 17:17:213484 ST25R3916B输出功率达不到1.6W
2025-03-13 06:02:26
等离子体光谱仪（ICP-OES）凭借其高灵敏度、高分辨率以及能够同时测定多种元素的显著特点，在众多领域发挥着关键作用。它以电感耦合等离子体（ICP）作为激发源，将样品原子化、电离并激发至高能级，随后
2025-03-12 13:43:573379 
6.12.1升级到6.13老是闪退，回到6.12.1又正常，问一下大家是什么原因导致，有什么解决办法？
2025-03-11 08:13:55
LSM6DSR工作一段时间后就算静止不动也会出现Y轴数据偏移,请问一下是什么原因可能会导致出现这个异常？
2025-03-11 07:52:15
氩离子抛光技术作为一种先进的材料表面处理方法，该技术的核心原理是利用氩离子束对样品表面进行精细抛光，通过精确控制离子束的能量、角度和作用时间，实现对样品表面的无损伤处理，从而获得高质量的表面效果
2025-03-10 10:17:50937 
使用MCSDK 5.4.8 生成工程，在上位机软件中启动电机，设置目标转速达到3500rpm后，再设置更大就无法继续升高了，转速达不到3500rpm以上，而且还会缓慢减速，请问这是什么原因呢？是速度
2025-03-10 08:04:34
部分stm32L0单片机电源管脚对地电阻异常，有的200欧姆左右，有的500欧姆左右。导致功耗变大，什么原因会导致电源管脚对地电阻变低异常。
2025-03-07 07:19:43
氩离子切割与抛光技术是现代材料科学研究中不可或缺的样品表面制备手段。其核心原理是利用宽离子束（约1毫米）对样品进行精确加工，通过离子束的物理作用去除样品表面的损伤层或多余部分，从而为后续的微观结构
2025-03-06 17:21:19762 
不良、绝缘层厚度不均匀等，可能会导致传输速度达不到千兆，甚至影响网络连接的稳定性。 水晶头质量：水晶头的质量和制作工艺同样重要。如果水晶头的金属片接触不良、有制造缺陷或材料不佳，会导致信号衰减或不稳定，从而限
2025-03-05 10:26:411975 最近学习使用rtthread_studio 开发stm32f407网络通信，打开lwip软件包，结果变异报错，网上查了一下，没人遇到过这个情况，好像简单设置一下就能编译通过，怎么我这就这么倒霉，这个错误是什么原因导致的呢，是我在软件包初始配置时出错了，请各位帮忙给指导一下
2025-03-05 09:09:05
EBSD样品制备EBSD样品的制备过程对实验结果的准确性和可靠性有着极为重要的影响。目前，常用的EBSD样品制备方法包括机械抛光、电解抛光和聚焦离子束（FIB）等，但这些方法各有其局限性。1.
2025-03-03 15:48:01692 
随着集成电路特征尺寸的缩小，工艺窗口变小，可靠性成为更难兼顾的因素，设计上的改善对于优化可靠性至关重要。本文介绍了等离子刻蚀对高能量电子和空穴注入栅氧化层、负偏压温度不稳定性、等离子体诱发损伤、应力迁移等问题的影响，从而影响集成电路可靠性。
2025-03-01 15:58:151548 
时可以投影，但是在不投影的时候使能信号一直是高，导致光机常亮。3个灯都一样。这个是什么原因导致的。有没有办法通过软件看到350当前发出的使能信号状态。
2025-02-28 08:06:44
微观结构的分析氩离子束抛光技术作为一种先进的材料表面处理方法，凭借其精确的工艺参数控制，能够有效去除样品表面的损伤层，为高质量的成像和分析提供理想的样品表面。这一技术广泛应用于扫描电子显微镜（SEM
2025-02-26 15:22:11618 
使用DLPC910驱动DLP6500显示，在驱动板上能测得和理论频率一致的RST_ACTIVE信号变化，但是DMD的显示图像不正确。想咨询一下，这可能是什么原因导致的？
2025-02-26 07:24:58
使用ILA抓取的数据是正确的。DMD显示的图像拉伸，并且有部分图像无法显示。是什么原因导致这种异常现象呢？这是因为DLP9500的管脚设置错误还是软排线呢？
2025-02-26 06:43:14
我们自己做的dlpc3478+dlpa3000的板，可以正常投影，但是现在出现了一个情况，就是internal patterns模式下，关闭投图，光机仍有残影现象，请问这是什么原因？
图一为正常投射，图二为关闭投射后的残影
2025-02-26 06:29:15
DLPC4100输出的RST_ACTIVE信号为高电平时，User FPGA无法抓到这个高电平，是什么原因导致的呢（管脚分配正确）？
2025-02-26 06:28:56
氩离子抛光技术作为一种前沿的材料表面处理手段，凭借其高效能与精细效果的结合，为众多领域带来了突破性的解决方案。它通过低能量离子束对材料表面进行精准加工，不仅能够快速实现抛光效果，还能在微观尺度上保留
2025-02-24 22:57:14774 
和不平整部分，达到高度平滑的效果。氩离子抛光的优势氩离子抛光的核心原理是利用氩气在真空环境下的电离特性。当氩气被引入真空腔体并施加高电压时，氩原子被电离成氩离子，形成
2025-02-21 14:51:49762 
我们使用的外部pattern模式，DLP_ON 长时间为高电平。工作一段时间后会发现，在不投影时光机LED依然会有微弱的亮光。请问可能是什么原因导致？
2025-02-21 10:27:57
您好，测试时发现SPI0 没有输出时钟信号，从GUI设置DLPA100时，也测不到波形，显示设置错误，读取也是错误的，显示DLPA100 not present，请问是什么原因？
2025-02-21 09:26:44
--》stop--》delay--》START-->写电流值--》stop一直循环进行光控制。
初步测试到是写IIC信号导致DLPC3478异常，无PAT_READY信号输出。
请帮忙分析可能是什么原因导致长时间运行投影停止。谢谢
2025-02-21 07:53:46
是固定的
我尝试修改Trigger_Out_1和Trigger_Out2的配置参数，但是并没有任何变化，可能是什么原因呢？
我看投影的图像是正确的。
2025-02-21 06:25:51
（3.3V左右），INT引脚也有复位动作。请问这是什么原因造成的，难道是初始化失败的原因吗？
2：想使用外部USB-IIC调试板进行调试，我移除了mcu的iic引脚，当我连接DLP Lightcrafeter Display时，提示如下图错误。请问这是什么原因？
2025-02-19 06:27:22
您好，我们自制了4710-g2evm的控制板，通过4710-g2evm的光机进行测试，断断续续会出现启动失败，最终彻底连接不上。使用放大镜查看发现，DMD芯片损坏，请问可能是什么原因导致的？
2025-02-18 06:36:28
在烧录一段视频播放时，在纯色较多的画面时，会出现雪花（如图蓝色的底色）并不是视频中的纯蓝色，在播放图片模式下就没有这种现象，请问是什么原因，谢谢
2025-02-17 08:33:54
最大慢慢降到正常，第五次以后的值才会正常。
光电池和LED的上升下降时间都是us量级，我在采集前用定时器等待1ms以后才开始的。请问专家，出现这种情况是由于什么原因造成的？
2025-02-13 08:33:32
等离子清洗机的基本结构大致相同,一般由真空室、真空泵、高频电源、电极、气体导入系统、工件传送系统和控制系统等部分组成。可以通过选用不同种类的气体和调整装置的特征参数等方法满足不同的清洗用途和要求,使
2025-02-11 16:37:51726 氩离子束抛光技术（ArgonIonBeamPolishing,AIBP），一种先进的材料表面处理工艺，它通过精确控制的氩离子束对样品表面进行加工，以实现平滑无损伤的抛光效果。技术概述氩离子束抛光技术
2025-02-10 11:45:38923 
氩离子抛光技术的原理氩离子抛光技术基于物理溅射机制。其核心过程是将氩气电离为氩离子束，并通过电场加速这些离子，使其以特定能量和角度撞击样品表面。氩离子的冲击能够有效去除样品表面的损伤层和杂质，从而
2025-02-07 14:03:34867 
，
电路为照着数据手册做的，就不上传了，请问有什么原因会导致这种现象，会不会是焊接时对芯片造成了损伤，以至于产生了这么大的偏差，谢谢
2025-02-06 07:24:29
按第一个图来连接的。数据出来后，可以跟随输入的电压变化，但是上下浮动比较大。第二个图是同一个电压采样多次的结果。不知道什么原因。是不是我的电阻电容没用好呢？谢谢
2025-02-05 07:15:02
移动电源（充电宝）不亮灯且不充电的问题可能由多种因素导致，以下是对可能原因及相应解决方法的详细分析：
2025-01-27 16:25:0016956 氩离子抛光技术氩离子束抛光技术，亦称为CP（ChemicalPolishing）截面抛光技术，是一种先进的样品表面处理手段。该技术通过氩离子束对样品进行精密抛光，利用氩离子束的物理轰击作用，精确控制
2025-01-22 22:53:04759 
个用例中，我们以镀银镜和高反射（HR）介质涂层镜为例，通过比较系统中的脉冲传播来说明这种效果。
建模任务
系统构建模块—元件
系统构建模块—探测器
总结—元件
光线和场追迹结果
脉冲评估
2025-01-21 09:53:48
等离子体（Plasma）是一种电离气体，通过向气体提供足够的能量，使电子从原子或分子中挣脱束缚、释放出来，成为自由电子而获得，通常含有自由和随机移动的带电粒子（如电子、离子）和未电离的中性粒子。由于
2025-01-20 10:07:169181 
为什么DAC7811输出达不到Vref，并且根据手册上的这个图输出怎么不是线性的,不满足这个等式V OUT=-V REF x
CODE/4096
2025-01-17 07:38:26
我用图一所示的升压电路得到15V，然后通过分压电阻接到TLC7226的REF脚，但是我通过电压表测得REF脚实际电压只有4V不到，这是什么原因呢？难道REF一定要接电压跟随吗？
2025-01-17 06:07:44
去除表面损伤层和不平整部分，达到高度平滑的效果。与传统机械研磨抛光相比，氩离子抛光在多个方面展现出无可比拟的优越性。氩离子抛光的工作原理氩离子抛光的核心原理在于氩气在
2025-01-16 23:03:28585 
当前我们使用SPI数据模式.CLK的频率为250K.通道为全部有效,高电平状态.发送SYNC信号后,接收到DRDY信号下降沿,读取不到数据,全部为低电平
请问是什么原因造成的?
2025-01-16 07:51:52
在电视技术的发展史上，等离子电视曾是家庭娱乐的中心。然而，随着科技的进步，新的显示技术不断涌现，等离子电视逐渐退出了主流市场。本文将探讨等离子电视与当前主流显示技术——液晶显示（LCD）、有机
2025-01-13 09:56:301904 等离子电视以其出色的画质和大屏幕体验，曾经是家庭娱乐中心的首选。尽管随着技术的发展，液晶电视和OLED电视逐渐取代了等离子电视的市场地位，但等离子电视依然以其独特的优势在某些领域保持着一席之地。 一
2025-01-13 09:54:282044 在现代家庭娱乐设备中，电视是不可或缺的一部分。随着科技的发展，电视技术也在不断进步，从早期的显像管电视发展到了现在的等离子电视和液晶电视。这两种电视技术各有特点，消费者在选择时往往会感到困惑。 一
2025-01-13 09:51:394001
ADS8867的spi无输出，spi主机为dsp2812发送伪数据，但是接受不到数据，示波器测试ADS8867的spi的输出为3.3v直线。ADS8867连接为3线模式。是什么原因呢？有相关经验的支支招啊。
2025-01-10 08:00:29
简介 ：
表面等离子体激元（SPPs）是由于金属中的自由电子和电介质中的电磁场相互作用而在金属表面捕获的电磁波，并且它在垂直于界面的方向上呈指数衰减。[1]
与绝缘体-金属-绝缘体(IMI
2025-01-09 08:52:57
现在TLC1514的输入时钟为1MHz，SDI和CS信号都没有问题，发送写CFR指令和读CFR指令，但SDO没有数据输出，是一个不到2V的高电平。不知是什么原因，求指教！
2025-01-07 08:26:53
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