真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。EMI溅射镀膜具有以下特点：
2019-07-25 07:27:32
真空接触器有一个延时的抖动，请问这是什么原因？
2014-04-12 16:52:41
请问有人熟悉成都国光吗，国光的真空接触器怎么样，有人发现有什么问题吗？
2014-04-12 16:50:24
真空测试仪又称真空度测试仪，(英译：Vacuum degree reflectoscope reflector)是电力系统中普遍使用的高压电器，其核心部件是真空灭弧室，由于灭弧室是以真空条件作为工作基础的，所以它不象油开关，SF6开关那样容易检测其质量。
2020-03-26 09:02:55
寻求大神帮助！！目前设计电路原理：160uf大电容充满电后，需要通过真空触发开关导通瞬间释放，但真空触发开关在电流到零后会自动关断，此时电容中的电压反向且能量并没有完全释放；请问怎样设计触发电路才能让电流到零后不自动关断将电容中的能量完全释放？？
2021-12-17 11:10:13
使用真空镀膜技术，针对于真空室内的挡板长期由于靶材的沉积，定期需要将表面的靶材处理掉。请问用什么方式？挡板一般是什么材质？
2018-03-13 09:34:52
真空镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的设备。其相关组成及各部件：机械泵、增压泵、油扩散泵、冷凝泵、真空测量系统.电气控制部分主要采用PLC自动控制，就是先在PLC中输入预先设计好的程序，处理器主
2018-10-19 14:29:20
摄像头模组（CCM）与镀膜手机镜头是有颜色的，而且不同的手机镜头颜色是不同的，有的是红色，有的是蓝色，有的还是金色。除了手机镜头外，平时用的数码相机镜头、望远镜、眼镜等的镜片都是有颜色的。这些颜色
2021-09-09 08:49:29
【摘要】：镀膜相移长周期光纤光栅(PS-LPFG)由于其结构及设计的灵活性可以改善光纤光栅的滤波特性。运用传输矩阵法,讨论了在镀膜PS-LPFG中不同位置引入单个相移、多个π相移时传输谱的滤波
2010-04-24 10:11:32
AIP（天线封装）为了电磁屏蔽，通常会做屏蔽罩或者溅射铜，但是没有地接到屏蔽罩或者溅射铜，这样会有散热问题吗？
2020-05-15 10:23:44
`LCD段码屏铬版掩模版:此产品主要应用于STN段码屏产品铬版掩模版一直是在IC生产中大量使用的光掩模版。铬板的结构为在精密光学玻璃的表面面使用磁控溅射真空镀膜的方式镀铬和氧化铬。在铬层的表面涂敷
2018-11-22 15:45:58
市面旋片式真空泵的应用非常广泛，但同时也有相当一部分的旋片式真空泵会出现各种问题影响生产与工作，大路通真空有多年的旋片式真空泵维修经验，总结出了一整套完善的齐全的旋片式真空泵维修方案，当然做好旋片式
2017-04-08 09:11:06
及真空封装，真空镀膜等。 4、真空回流焊目前已成为欧美等发达国家军工企业、航空、航天等高端制造的必备设备，并且已在芯片封装和电子焊接等领域得到广泛应用。（北京诚联恺达科技有限公司）
2016-04-06 16:14:53
与传统的按键扫描相比，低EMI按键扫描有什么优势？省去EMI滤波器件带来的好处有哪些？
2021-05-10 07:01:01
凝汽器真空度的计算夏天，冷却器投入运行前的真空度为89.8%，冷却器投入运行后的真空度为91.4%，冷却器投入运行后的真空度提高1.6%.冬天，冷却器投入运行前的真空度为95.1%，冷却器投入运行后
2012-11-22 10:17:35
方法。然而过去的20年中，随着高沉淀速率磁控溅射技术的商业发展，在清洁真空系统下低压强工作的溅射技术取得大量的进展。在制备AI薄膜时，两种方法得到的薄膜纯度大致相当。最后，表1-1表面在10-3torr
2016-06-17 14:40:12
卷绕镀膜的介绍和应用 1、介绍卷绕镀膜是由于大面积柔性金属聚合物薄膜和纸张镀膜的需求而应运而生的。卷绕系统需要提供一个柔性基片，可以从一根轴上解开并缠绕到另外一根轴上，类似于磁带的工作。利用滑动密封
2016-06-17 14:42:10
基于DSP的磁控溅射电源的设计与实现资料分享
2016-01-05 16:33:29
。 大路通真空泵是一种旋转式变容真空泵须有前级泵配合方可使用在较宽的压力范围内有较大的抽速对被抽除气体中含有灰尘和水蒸汽不敏感广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。
2017-01-18 10:17:34
薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体(称为衬 底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法。离子溅射镀膜原理：离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在
2020-02-05 15:15:16
的方法。离子溅射镀膜原理：离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从
2020-02-06 13:13:24
摄像头镀膜的主要作用是什么？什么是摄像头模组？camera模组的装配方式有哪些？
2021-11-02 06:57:40
求相关 超导 镀膜方法与相关 知识点？？？？？？？？？万分 感谢{:soso_e154:}
2012-01-08 16:39:13
溅射薄膜压力芯体其利用离子束溅射薄膜技术结合先进的微电子工艺技术制造而成的不锈钢弹性膜片。具有准确度高，工作温度范围宽，温漂小，高稳定，高可靠，抗振动，抗冲击，抗辐射的工作特性。在各种恶劣的环境下能
2022-04-18 16:18:55
采用电弧离子镀膜方法，以高纯石墨为碳离子源在PMMA树脂义齿表面沉积类金刚石膜。应用xps谱和Raman谱对膜层的结构进行了理论分析，对镀膜样品进行了抗磨性能实验、病理实验
2009-04-26 22:20:54
29 空膜机应用于生活，应用非常广泛，但很多人不知道，因为没有接触空膜设备，一般不会注意，以下真空小介绍真空膜机应用领域，希望您对真空膜机应用有更深入的了解。以下11种是真空镀膜机技术
2022-09-20 10:46:26
用磁控溅射法制成WO3 薄膜,通过改变成膜的溅射参数来改变WO3 薄膜的性能. 利用XRD分析了样品的粒径大小,研究了成膜工艺参数对气敏元件性能的影响. 结果表明,薄膜中WO3 晶粒的平
2009-06-30 10:01:594 本文阐述了石英晶片真空蒸发镀膜测控的基本原理和镀膜过程中石英晶片谐振频率变化与镀膜厚度之间的关系。主要研究了以W77E516 单片机为核心
2009-09-10 09:21:1923 本文介绍了离子束溅射镀膜机电源的设计方案，并着重阐述了短路保护电路、自动恢复电路和线性光电隔离电路的设计。测试结果表明：该电源能满足离子束溅射镀膜机设备的要
2009-10-16 09:41:5931 非平衡磁控溅射系统磁场的半解析法:应用电磁场分析中的一种新方法———半解析法，对一种典型的非平衡磁控溅射系统进行了磁场分析) 结果表明，应用半解析法计算，求解变量
2009-10-20 13:25:0723 增强溅射的原理类似于喷射工艺。低压电弧在真空室中央放电使等离子强度增大几倍，从而产生强度更高的电离
2009-12-07 16:27:289 本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计，重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。
2009-12-07 16:36:589 本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计,重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。
2009-12-07 16:40:0514 真空测量是真空技术中的一个重要组成部分。用于测量真空度的仪器称为真空计
2009-12-21 13:35:1815 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元
2023-05-11 14:14:53
10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在
2023-05-11 16:02:30
400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和
2023-05-11 16:45:25
摘要：磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用，电源是磁控溅射镀膜的关键设备之一。本文介绍了全桥逆变直流磁控溅射电源主电路和控制电路的设计，该电源输出功率2kW，采用PI恒
2010-06-27 21:04:5144 压强低于一个标准大气压的稀薄气体空间称为真空,在真空状态下,由于气体稀薄分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减少,分子在一定时间内碰撞于固体表面上的次数亦相对减
2010-07-16 17:09:2915 实验．光学零件的镀膜
一。实验目的:1．掌握镀膜的基本原理.2．了解真空镀膜机的的基本结构。3．了解镀膜机操作的过程
2008-09-22 12:42:09
2162 全玻璃真空管集热器
全玻璃真空集热管是由双层玻璃管组成，内管表面溅射选择性涂层，以增加吸收能力，减小辐射损失；内管之间抽真空减少对流
2009-11-14 16:18:563251 最全，最专业的镀膜资料
2016-12-13 21:27:370 蒸发镀膜，是将膜料加热蒸发为气相后沉积到衬底表面，此种成膜方式决定了蒸发出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子动能太低，填充密度太低。
2017-12-05 08:59:3039517 碳膜电阻器是采用高温真空镀膜技术将碳紧密附在瓷棒表面形成碳膜，然后加适当接头切割，并在其表面涂上环氧树脂密封保护而成的。金属膜电阻器就是以特种金属或合金作电阻材料，用真空蒸发或溅射的方法，在陶瓷或玻璃基本上形成电阻膜层的电阻器。
2018-01-24 09:41:0387729 由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度，以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。
2019-04-29 11:34:2610009 
相较传统产品，全新一代HiLobe罗茨泵可节省20%的抽真空时间；而与上一代罗茨泵相比，又能够将维护和能耗成本降低 50％以上，从而为真空镀膜、电子束焊接、真空炉和冷冻干燥等众多工业领域的用户带来更可靠、性价比更高的创新型真空解决方案。
2019-11-26 08:39:522623 真空传感器由玻璃衬底、下电极、绝缘层、硅膜片（ 上电极） 、上层密封用的玻璃组成， 其中下电极溅射在玻璃衬底上， 电极上生长一绝缘层； 硅膜是利用硅片的双面光刻、扩散和各向异性腐蚀技术形成的。
2019-12-25 14:00:2412214 谱分析、电子显微镜、表面分析以及加速器和实验室等常规应用范围，还能满足半导体技术、真空镀膜和气体回收等多方面应用的需求。
2020-03-22 10:23:004180 真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。
2020-07-24 18:53:000 肇庆市大力真空设备有限公司生产的DJW（L）系列卧式（立式）磁控溅射镀膜生产线采用DC电源或中频电源控制平面靶、圆柱旋转靶或中频孪生靶在工件上溅射成膜，广泛应用于各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜等行业。
2020-11-25 10:14:483541 业界主流的薄膜沉积工艺主要有原子层沉积（ALD）、物理式真空镀膜（PVD）和化学式真空镀膜（CVD）等，其中ALD属于CVD的一种，属于当下最先进的薄膜沉积技术。
2021-09-03 11:12:421617 
真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备，其广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。真空泵一般处于相对恶劣的工作环境中，难免会出现真空泵腐蚀现象
2021-10-11 15:51:521450 介绍了半导体晶片制造设备溅射机和溅射工艺对晶片碎片的影响，给出了如何减少晶片应力以达到少碎片的目的。
2022-03-10 14:45:082 真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲，真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分为两种类型，即气体捕集泵和气体传输泵。其广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。
2022-03-11 16:15:149 我们测量了硅化物膜(CoSi2、NiSi2、TiSi2和WSi)的溅射刻蚀速率，并研究了离子能量的依赖性，发现它们与二氧化硅薄膜的相对溅射刻蚀速率几乎与溅射离子能量无关，从相对溅射蚀刻速率和计算
2022-05-07 15:41:462010 
真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲，真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分为两种类型，即气体捕集泵和气体传输泵。其广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。
2022-08-23 10:01:271 高工锂电获悉，国内早期从事复合集流体产品研发的厂商广东汇成真空科技股份有限公司是一家研发、生产和销售真空镀膜设备、光学镀膜设备、卷绕镀膜设备、连续式磁控溅射镀膜设备、半导体PVD设备等真空应用解决方案的国家高新技术企业。
2022-08-25 10:58:142177 物理气相沉积（Physical Vapor Deposition， PVD)工艺是指采用物理方法，如真空蒸发、溅射 （Sputtering）镀膜、离子体镀膜和分子束外延等，在圆片表面形成薄膜。
2022-11-03 15:32:2011934 光学镜片对VR/AR用户交互体验起决定性作用，镜片要想实现完美成像效果，其清晰度以及折射率等需要不断突破以往常规光学镜片在真空镀膜机上的研发和生产。虹科Ellab TSP无线实时温度&真空度验证系统——实时监测光学镜片生产过程的真空度压力值以及温度值，市面上绝无仅有！
2022-11-04 10:35:502121 
溅射镀膜(Vacuum Sputtering)基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。
2023-02-24 09:51:097303 CVD镀膜设备 应用：真空CVD镀膜设备中物料传送 主要产品：Parker直线电机、Parker伺服驱动器 描述：面板需要在真空环境中做化学气相沉积方式的镀膜处理。直线电机提供了一种高性价比的传送
2023-02-24 11:55:481097 
真空镀膜是薄膜技术的最具潜力的手段，也是纳米技术的主要支撑技术。所谓纳米技术，如果离开了真空镀膜，它将会失去半壁江山。
2023-03-13 12:18:532137 随着镀膜工艺的发展，镀膜精度的要求不断提高，控制规律复杂多变，采用PLC替代继电器的自动化控制方案逐渐受到企业的青睐，在电子、电气、半导体、航天、机械、新能源等领域广泛使用。 物通博联工业智能网关
2023-03-22 17:42:18576 
真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲，真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分为两种类型，即气体捕集泵和气体传输泵。其广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。
2023-04-17 10:02:420 有人曾这样形容磁控溅射技术——就像往平静的湖水里投入了石子溅起水花。磁控溅射真空镀膜技术是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition）的一种，其原理是：用带电粒子加速轰击靶材表面，发生表面原子碰撞并产生能量和动量的转移，使靶材原子从表面逸出并沉积在衬底材料上的过程。
2023-04-18 10:30:074559 高温下DPC（磁控溅射工艺）覆铜陶瓷基板的设计和应用
2023-06-19 17:35:302617 
上海伯东客户某高校使用国产品牌离子束溅射镀膜机用于金属薄膜制备, 工艺過程中, 国产离子源钨丝仅使用 18个小时就会烧断, 必须中断镀膜工艺更换钨丝, 无法满足长时间离子束溅射镀膜的工艺要求, 导致
2023-05-25 15:53:362833 
真空镀膜机作为一种关键设备，用于在真空环境下进行薄膜涂覆。在光学镀膜、金属镀膜等领域具有广泛应。对电流的准确监测和控制是实现高质量薄膜的关键。传统电流传感器在真空环境中存在温漂大、精度低等问题，制约
2023-06-13 15:06:382549 
DPC（磁控溅射）陶瓷基板是一种重要的电子材料，主要应用于微电子器件、集成电路、LED等领域。铜面处理是提高DPC（磁控溅射）陶瓷基板性能的重要手段。本文将从铜面处理方法和处理后的性能影响两个方面探讨DPC（磁控溅射）陶瓷基板的铜面处理及其对性能的影响。
2023-06-25 14:35:511934 
电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。
2023-06-27 10:08:5514200 
近日，复合集流体设备厂商——无锡光润真空科技有限公司（下称“光润真空”）完成天使轮融资，本轮融资由无锡市天使基金独家完成。本轮融资资金将主要用于推进复合集流体专用磁控溅射镀膜设备的研发生产，加速
2023-06-30 15:28:121562 Si3 N4 氮化硅镀膜系统. 在某次维护之后, 抽真空时只能达到 80 mbar 的压力. 为了在如此高的工作压力之下依然能够进行检漏, 推荐选用上海伯东氦质谱检漏仪 ASM 340. ASM
2023-08-07 14:35:571497 
电阻真空计是什么？电阻真空计有什么作用？电阻真空计怎么看？ 电阻真空计是一种通过测量电阻变化来间接测量气压的仪器。它能够在真空或低压等环境下非常稳定和精确地测量出气体的压强。它的主要原理是基于电阻
2023-08-24 14:27:093809 上海伯东某客户生产超高纯度特种气体不锈钢减压阀门, 接头, 管件, 这些配件主要用于集成在真空镀膜配气面板, 实现工艺气体的传输. 为了防止气体外泄, 除了阀门, 接头, 管件需要单独检漏外, 整个
2023-06-02 15:13:141895 
上海伯东提供适用于光学镀膜机的离子源和真空系统 光的干涉在薄膜光学中应用广泛. 光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜. 光学镀膜是光学器件上的单个或多个材料沉积薄层, 实现
2023-09-08 11:34:112316 
磁控溅射（Magnetron Sputtering）是一种常见的物理气相沉积 (PVD) 工艺，具有速度快、温度低、损伤小等优点，其关键特点是使用一个磁场来控制并增强溅射过程。已发展成为工业镀膜中非
2023-12-04 11:17:411274 
Si上 AIN 和 GaN 的溅射外延(111) 溅射外延是一种低成本工艺，适用于沉积III族氮化物半导体，并允许在比金属-有机气相外延（MOVPE）更低的生长温度下在大衬底区域上沉积。介绍了用反应
2024-01-12 17:27:131093 
动力。 溅射靶材是制备半导体晶圆、显示面板、太阳能电池等表面电子薄膜的核心材料。其纯度、致密度和成分均匀性等性能对下游客户的镀膜质量具有直接影响。超卓航科所采用的冷喷涂技术，作为一种颇具前景的固态粉末沉积方法
2024-01-15 10:35:58737 
另据天眼查资料显示，先导电子科技股份有限公司前身为先导薄膜材料有限公司，专注于真空镀膜用溅射靶材和蒸发材料的研发、生产、销售以及回收服务。
2024-02-19 16:13:162871 汇成真空的主营业务是真空镀膜技术及其应用，研发涵盖溅射镀膜技术、蒸发镀膜技术、离子镀膜技术、柔性卷绕镀膜技术及各种成膜工艺。其生产的真空镀膜设备应用广泛，涵盖消费电子、工业品如航空航天、半导体、核工业、耐磨件、柔性薄膜等多个领域
2024-03-01 09:24:051235 行业背景 半导体制造业可以说是现代电子工业的核心产业，广泛应用于计算机、通信、汽车、医疗等领域。而在半导体生产加工过程中，如刻蚀、 镀膜、 扩散、沉积、退火等环节，真空泵都是必不可少的关键设备，它可
2024-03-05 17:17:551294 
证监会近日披露了关于同意广东汇成真空科技股份有限公司（简称：汇成真空）首次公开发行股票注册的批复，标志着这家以真空镀膜技术为核心的企业在创业板上市的征程上迈出了重要一步。汇成真空的创业板IPO注册申请获得批准，无疑为公司未来的发展注入了强大的动力。
2024-03-07 14:39:291337 铠装热电偶不是利用真空镀膜法制成的 。以下是关于铠装热电偶和薄膜热电偶的介绍： 铠装热电偶 铠装热电偶又称缆式热电偶，是由热电极（多数采用的是铂丝，也有用镍丝的）、绝缘材料（通常为氧化镁粉末）和金
2024-10-08 11:16:271857 本文小编分享一篇文章，本文介绍的是原子层镀膜在功率器件行业的应用，本文介绍了原子层镀膜技术在碳化硅功率器件和氮化镓功率器件中的应用，并介绍了原子层镀膜技术解决的问题以及这项技术的优越性。
2024-10-15 15:21:011358 
本文介绍了磁控溅射镀膜工艺参数对薄膜的影响。 磁控溅射镀膜工艺参数对薄膜的性能有着决定性的影响。这些参数包括溅射气压、溅射功率、靶基距、基底温度、偏置电压、溅射气体等。通过精确控制这些
2024-11-08 11:28:013030 在现代科技领域中，薄膜技术发挥着至关重要的作用。而磁控溅射镀膜作为一种常用的薄膜制备方法，其工艺的成功与否关键在于对薄膜性能的准确表征。 一、薄膜的物理性能表征 薄膜的物理性能涵盖厚度、密度、孔隙率
2024-11-22 10:35:441052 电镀是一种在金属表面覆盖一层金属膜的工艺，用于提高金属的耐腐蚀性、耐磨性、装饰性等性能。电镀膜的性能直接影响到产品的使用寿命和外观。因此，对电镀膜进行性能测试是电镀工艺中不可或缺的一部分。本文将介绍
2024-11-28 14:21:272434 本文主要介绍磁性靶材磁控溅射成膜影响因素 磁控溅射作为一种重要的物理气相沉积技术，在薄膜制备领域应用广泛。然而，使用磁性靶材（如镍）时，其特殊的磁性质会对溅射过程和成膜质量产生显著影响。本文
2025-02-09 09:51:401948 
倾佳电子杨茜为客户提供BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)全国产碳化硅MOSFET和隔离驱动的真空镀膜电源设计方案，助力射频电源业自主可控和产业升级！ 倾佳电子杨茜致力于推动
2025-02-13 21:56:24914 
在当今竞争激烈的制造业领域，镀膜工艺作为提升产品性能和品质的关键环节，受到了广泛关注。而镀膜上下料环节的效率和精度，又直接影响着整个镀膜生产的质量和成本。富唯智能镀膜上下料设备凭借其卓越的性能和创新的技术，成为了众多企业提升镀膜生产水平的首选利器。接下来，就让我们深入了解这款设备的独特魅力。
2025-02-17 15:20:20653 
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过
2025-02-20 14:24:151043 在2025年11月13日至15日于广东佛山举办的真空与半导体行业展会上，真空镀膜设备制造商振华真空推出的“大平面光学镀膜生产线”受到业内广泛关注。该方案基于自研的磁控光学沉积技术，有效改善了大面积
2025-11-17 16:00:40895 
含酒精擦镜纸会损伤镜头镀膜吗因为酒精具有挥发快，并且可以一定程度上消毒的功能，所以在清洁手机屏幕或者眼镜的时候，很多人会选择含酒精的擦镜纸。那么在镜头领域一样可以使用含酒精的擦镜纸吗？大多数的镜头
2025-12-02 17:02:00961 
XYZ三轴真空直线模组是一种能够在真空环境下实现精准直线运动的装置，由三个独立的线性驱动器组成，可分别控制X、Y、Z三个方向的运动。在半导体制造、真空镀膜、高端科研等对环境洁净度与运动精度要求严苛
2025-12-03 09:29:18359 
在光电行业飞速发展的今天，激光技术正以前所未有的深度和广度改变世界。作为这一变革的重要推动者，晶众光电（CRYSTRONG）始终致力于激光薄膜技术的研发与制备，凭借覆盖190nm至20μm全波段的顶尖镀膜能力，为全球客户提供高性能、高可靠性的光学薄膜解决方案。
2025-12-18 10:57:53404
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