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Flexfilm

薄膜材料智检先锋

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动态

  • 发布了文章 2025-07-30 18:03

    椭偏仪在半导体薄膜工艺中的应用:膜厚与折射率的测量原理和校准方法

    半导体测量设备主要用于监测晶圆上膜厚、线宽、台阶高度、电阻率等工艺参数,实现器件各项参数的准确控制,进而保障器件的整体性能。椭偏仪主要用于薄膜工艺监测,基本原理为利用偏振光在薄膜上、下表面的反射,通过菲涅尔公式得到薄膜参数与偏振态的关系,计算薄膜的折射率和厚度。Flexfilm费曼仪器作为薄膜测量技术革新者,致力于为全球工业智造提供精准测量解决方案,公司自主
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  • 发布了文章 2025-07-28 18:04

    台阶仪测试原理及应用 | 半导体ZnO薄膜厚度测量及SERS性能研究

    表面增强拉曼散射SERS技术在痕量检测中具有独特优势,但其性能依赖于活性基底的形貌精度。ZnO作为一种新型半导体薄膜材料,因其本征微米级表面粗糙度通过在其表面覆盖一层贵金属Au,能够大大地提升SERS活性。而ZnO膜厚直接影响Au纳米颗粒的分布与"热点"形成。Flexfilm费曼仪器提供精准的膜厚测试,其中Flexfilm探针式台阶仪覆盖纳米至微米级薄膜的精
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  • 发布了文章 2025-07-25 18:02

    全光谱椭偏仪在二维材料中的应用 | 解析PtSe₂光学常数厚度依赖关系

    过渡金属硫化物(TMDs)的厚度可调能带结构使其在光电子领域备受关注。PtSe₂作为新型层状材料,具有从半导体到半金属的相变特性,带隙可调控。然而,其精确光学常数数据长期缺失,制约器件优化。椭圆偏振仪凭借亚纳米级精度、无损测量及同步获取膜厚与光学参数的优势,成为解决该问题的关键手段。Flexfilm费曼仪器作为国内领先测量供应商所提供的Flexfilm全光谱
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  • 发布了文章 2025-07-23 18:02

    汽车玻璃透光率检测 | 制备高透光(Ag,Cu)/TiO₂汽车玻璃隔热膜

    汽车玻璃需在保证透光的同时高效隔热,以应对太阳辐射引发的升温、老化及能耗问题。其关键在于选择性阻隔红外和紫外光。现有隔热膜研究对可见光平均透过率与隔热性能的系统研究不足。Flexfilm费曼仪器在汽车工业领域从研发、生产到质检的全流程中均有严格监控。本研究采用磁控溅射技术制备(Ag,Cu)/TiO₂汽车玻璃隔热膜,并利用Flexfilm汽车玻璃透过率检测仪对
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  • 发布了文章 2025-07-22 09:54

    半导体薄膜厚度测量丨基于光学反射率的厚度测量技术

    在半导体制造中,薄膜的沉积和生长是关键步骤。薄膜的厚度需要精确控制,因为厚度偏差会导致不同的电气特性。传统的厚度测量依赖于模拟预测或后处理设备,无法实时监测沉积过程中的厚度变化,可能导致工艺偏差和良率下降。为此,研究团队开发了一种基于激光反射率的光学传感器,能够在真空环境下实时测量氧化膜(SiO₂)、氮化膜(Si₃N₄)和多晶硅(p-Si)的厚度。FlexF
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  • 发布了文章 2025-07-22 09:54

    半导体膜厚测量丨光谱反射法基于直接相位提取的膜厚测量技术

    在现代半导体和显示面板制造中,薄膜厚度的精确测量是确保产品质量的关键环节。传统方法如扫描电子显微镜(SEM)虽可靠,但无法用于在线检测;椭圆偏振仪和光谱反射法(SR)虽能无损测量,却受限于计算效率与精度的矛盾。近期,研究人员提出了一种创新方法——直接相位提取技术,成功打破了这一技术瓶颈。FlexFilm单点膜厚仪结合相位提取技术通过将复杂的非线性方程转化为线
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  • 发布了文章 2025-07-22 09:54

    DLC薄膜厚度可精准调控其结构颜色,耐久性和环保性协同提升

    类金刚石碳(DLC)薄膜因高硬度、耐磨损特性,广泛应用于刀具、模具等工业领域,其传统颜色为黑色或灰色。近期,日本研究团队通过等离子体化学气相沉积(CVD)技术,将DLC薄膜厚度控制在20-80纳米范围内,首次实现对其结构色的精确调控。这一发现为材料的光学功能化提供了新方向。等离子体CVD装置示意图1结构色产生的物理机制flexfilm结构色由光的干涉效应主导
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  • 发布了文章 2025-07-22 09:54

    椭偏仪测量薄膜厚度的原理与应用

    在半导体、光学镀膜及新能源材料等领域,精确测量薄膜厚度和光学常数是材料表征的关键步骤。Flexfilm光谱椭偏仪(SpectroscopicEllipsometry,SE)作为一种非接触、非破坏性的光学测量技术,通过分析光与材料相互作用后偏振态的变化,能够同时获取薄膜的厚度、折射率、消光系数等参数。本文将从原理、测量流程及实际应用三个方面,解析椭偏仪如何实现
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  • 发布了文章 2025-07-22 09:54

    聚焦位置对光谱椭偏仪膜厚测量精度的影响

    在半导体芯片制造中,薄膜厚度的精确测量是确保器件性能的关键环节。随着工艺节点进入纳米级,单颗芯片上可能需要堆叠上百层薄膜,且每层厚度仅几纳米至几十纳米。光谱椭偏仪因其非接触、高精度和快速测量的特性,成为半导体工业中膜厚监测的核心设备。1宽光谱椭偏仪工作原理flexfilm宽光谱椭偏仪通过分析偏振光与样品相互作用后的偏振态变化,测量薄膜的厚度与光学性质。其核心
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  • 发布了文章 2025-07-22 09:54

    薄膜厚度测量技术的综述:从光谱反射法(SR)到光谱椭偏仪(SE)

    薄膜在半导体、显示和二次电池等高科技产业中被广泛使用,其厚度通常小于一微米。对于这些薄膜厚度的精确测量对于质量控制至关重要。然而,能够测量薄膜厚度的技术非常有限,而光学方法因其非接触和非破坏性特点而被广泛采用。Flexfilm全光谱椭偏仪不仅能够满足工业生产中对薄膜厚度和光学性质的高精度测量需求,还能为科研人员提供丰富的光谱信息,助力新材料的研发和应用。1光
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认证信息: 苏州费曼测量仪器

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