Flexfilm

动态

• 发布了文章 2026-06-26 18:05

  台阶仪在精密加工的应用 | 测头半径补偿提升轮廓测量精度

  

  台阶仪（触针式轮廓仪）是精密加工领域的核心检测设备，广泛应用于航空航天与半导体制造中零件轮廓尺寸、形状误差及粗糙度的精密测量。然而，台阶仪采集的是测头球心轨迹坐标，与被测轮廓实际接触点之间存在测头半径（典型值r=0.025mm）引入的系统误差，该误差在高精度测量中会严重劣化结果准确度，急需有效补偿。当前主流二维补偿方法（如三点共圆法、测量方向补偿法）在处理正

  半导体 测量 精密测量

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• 发布了文章 2026-06-24 18:02

  椭偏仪在手机后盖板膜厚检测中的应用：0.01nm精度

  

  本文解决的核心问题是：如何在不破坏样品的前提下，精确测量PET复合衬底上介质膜的膜厚？方法是将PET复合衬底等效为单层基底材料进行建模，再用光谱椭偏技术测量TiO₂梯度折射率薄膜的厚度。测量结果为212.48nm，与SEM测量结果（211nm）偏差仅0.7%，验证了等效衬底方法的有效性。该方法同样适用其它介质膜，对镀膜工艺过程监控具有实际意义。费曼仪器（Fl

  显微镜 检测 测量

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• 发布了文章 2026-06-22 18:04

  台阶仪测量重复性评估：增材制造与铣削表面的多尺度对比分析

  

  在当今快速发展的工业制造领域，确保产品质量是核心议题之一。这不仅要求对生产过程进行严格控制，提升零部件的精度、效率与可靠性，同时也必须重视测量过程的管理，包括评估所选测量方法与仪器的优缺点及局限性。生产及后续检测环节中任何微小的误差，都可能影响产品的最终评价，甚至需要增加额外的处理工序来改善性能。Flexfilm费曼仪器探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准

  仪器 测量

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• 发布了文章 2026-06-17 18:04

  椭偏仪在偏振无关光栅中的应用：1053 nm vs. 1064 nm不同波长效率都超过96%

  

  在高功率激光系统的脉冲压缩与光谱合束应用中，光栅的衍射效率与偏振态强相关。为实现高能量利用率并简化系统结构，费曼仪器（Flexfilm）全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的高精度表征，广泛应用于薄膜材料、半导体和表面科学等领域。本研究针对中心波长1053nm、空频1480line/mm的高线对数偏振无关多层介质膜光栅（MLDG）进行了系统的材料设计、

  仪器 材料 薄膜材料

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• 发布了文章 2026-06-15 18:04

  沟槽栅IGBT翘曲控制：多晶硅沉积温度、金属膜层及沟槽结构优化

  

  沟槽栅IGBT作为提升功率器件功率密度和性能的主流技术方向，随着芯片精细化程度的不断提高，制备过程中产生的晶圆翘曲问题日益突出，翘曲值在0°和90°方向均超过120μm，严重影响光刻对准、注入工艺及等离子体工艺等关键制程的稳定性和工艺效果。Flexfilm费曼仪器探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准表征与关键参数的定量测量，精确测定样品的表面台阶高度与膜厚

  IGBT 功率器件 芯片

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• 发布了文章 2026-06-12 18:04

  光谱 VS. 单波长椭偏仪：集成电路检测中的精度与适用性比较

  

  椭偏术因其高灵敏度、非接触与在线测量能力，已成为薄膜与IC工艺检测的重要手段。但仪器的准确性依赖系统中偏振元件与几何参数的精确校准，且在工业环境中这些参数会随时间与环境漂移变化：因此需要快速、简单且准确的校准方法以维持仪器性能。传统校准方法（如双区域法）在实施上复杂且不易在生产线上周期性重复。Flexfilm全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的高精度

  光谱 测量 集成电路

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• 发布了文章 2026-06-10 18:03

  干货 | 半导体工艺测量设备如何“校准”？详解三种计量技术

  

  随着半导体器件向高集成度、高密度和高性能方向发展，器件尺寸不断缩小，对生产工艺的监控要求也越来越高。为此，需要围绕整个半导体工艺线开展计量保障技术研究，建立完善的量值溯源体系，确保工艺参数准确可靠。Flexfilm费曼仪器探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准表征与关键参数的定量测量，精确测定样品的表面台阶高度与膜厚，为材料质量把控和生产效率提升提供数据支撑

  仪器 半导体 测量设备

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• 发布了文章 2026-06-08 18:19

  椭偏仪在光刻领域抗反射涂层中的应用

  

  随着微电子技术的快速发展，光刻工艺不断追求更高的分辨率。在这一过程中，光刻胶和光刻技术起到了关键作用。光刻胶是一种感光高分子材料，用于将掩膜版上的精细图案转移到基体上。随着曝光波长从紫外全谱逐步缩短到深紫外、极紫外甚至电子束，图案分辨率显著提升，但也带来了负面效应，其中最突出的是基体表面反射引起的驻波效应。驻波效应会导致光刻胶侧壁出现波浪状缺陷，影响关键尺寸

  仪器 光刻 半导体

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• 发布了文章 2026-06-05 18:02

  纳米级多阶台阶高度样品的台阶仪测量与表征技术

  

  在纳米级测量中，仪器通常需要使用标准样品进行校准，但现有的纳米级台阶高度标准样品多为单阶结构，由于仪器存在非线性，使用不同高度值测量前均需重新校准，效率较低；而多阶台阶标准样品可减少探针定位次数，提高校准效率。Flexfilm费曼仪器探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准表征与关键参数的定量测量，精确测定样品的表面台阶高度与膜厚，为材料质量把控和生产效率提升

  仪器 测试仪 测量

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• 发布了文章 2026-06-03 18:02

  椭偏仪在HfO₂薄膜光学常数测量中的应用

  

  随着光电技术的发展，光学薄膜不仅需要良好的光学性能，还需具备电磁屏蔽、激光防护等特性。在众多膜料中，氧化物因硬度高、性能稳定而备受青睐。其中，HfO₂薄膜具有透射范围宽、折射率高、禁带宽度大、激光损伤阈值高等优点，广泛应用于日盲紫外滤光片、增透膜、高反膜、分光膜及抗激光薄膜等领域。研究表明，以金属铪为原料制备的HfO₂薄膜缺陷密度低、抗激光损伤能力强。然而，

  光学 测量

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