Flexfilm

动态

• 发布了文章 2025-07-22 09:54

  薄膜厚度测量技术的综述：从光谱反射法（SR）到光谱椭偏仪（SE）

  

  薄膜在半导体、显示和二次电池等高科技产业中被广泛使用，其厚度通常小于一微米。对于这些薄膜厚度的精确测量对于质量控制至关重要。然而，能够测量薄膜厚度的技术非常有限，而光学方法因其非接触和非破坏性特点而被广泛采用。Flexfilm全光谱椭偏仪不仅能够满足工业生产中对薄膜厚度和光学性质的高精度测量需求，还能为科研人员提供丰富的光谱信息，助力新材料的研发和应用。1光

  光谱 测量 薄膜

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• 发布了文章 2025-07-22 09:53

  基于像散光学轮廓仪与单点膜厚技术测量透明薄膜厚度

  

  透明薄膜在生物医学、半导体及光学器件等领域中具有重要应用，其厚度与光学特性直接影响器件性能。传统接触式测量方法（如触针轮廓仪）易损伤样品，而非接触式光学方法中，像散光学轮廓仪（基于DVD激光头设计）虽具备高分辨率全场扫描能力，但对厚度小于25μm的薄膜存在信号耦合问题。本研究通过结合FlexFilm单点膜厚仪的光学干涉技术，开发了一种覆盖15nm至1.2mm

  光学器件 测量 表面轮廓仪

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• 发布了文章 2025-07-22 09:53

  大面积薄膜光学映射与成像技术综述：全光谱椭偏技术

  

  在微电子制造与光伏产业中，大面积薄膜的均匀性与质量直接影响产品性能。传统薄膜表征方法（如溅射深度剖析、横截面显微镜观察）虽能提供高精度数据，但测量范围有限且效率较低，难以满足工业级大面积表面的快速检测需求。本文聚焦光学表征技术的革新，重点阐述椭偏仪等光学方法在大面积薄膜映射与成像中的突破性应用。其中，Flexfilm全光谱椭偏仪以其独特的技术优势，在大面积薄

  测量 薄膜光伏

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• 发布了文章 2025-07-22 09:53

  生物聚合物薄膜厚度测定：从传统触探轮廓仪到全光谱椭偏仪

  

  生物聚合物薄膜（如纤维素、甲壳素、木质素）因其可调控的吸水性、结晶度和光学特性，在涂层、传感器和生物界面模型等领域应用广泛。薄膜厚度是决定其性能的关键参数，例如溶胀行为、分子吸附和光学响应。然而，生物聚合物的高亲水性、软质结构及表面异质性使厚度精确测定面临挑战。本文系统总结了现有测定技术，以纤维素为代表性案例，探讨方法优势与局限性。近年来，Flexfilm全

  传感器 机械

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• 发布了文章 2025-07-22 09:53

  白光色散干涉：实现薄膜表面轮廓和膜厚的高精度测量

  

  薄膜结构在半导体制造中扮演着至关重要的角色，广泛应用于微电子器件、光学涂层、传感器等领域。随着半导体技术的不断进步，对薄膜结构的检测精度和效率提出了更高的要求。传统的检测方法，如椭圆偏振法、反射法和白光扫描干涉法等，虽然在一定程度上能够满足测量需求，但存在一些局限性。针对这些现有技术的不足，本文提出了一种基于白光色散干涉法（WLDI）的高精度测量系统。该系统

  测量 表面轮廓仪

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• 发布了文章 2025-07-22 09:53

  台阶高度的测量标准丨在台阶仪校准下半导体金属镀层实现测量误差<1%

  

  在半导体芯片制造过程中，台阶结构的精确测量至关重要，通常采用白光干涉仪或步进仪等非接触式测量设备进行监控。然而，SiO₂/Si台阶高度标准在测量中存在的问题显著影响了测量精度。传统标准的上表面（SiO₂）和下表面（Si）的折射率（n）和消光系数（k）差异导致了反射光的干涉相消现象，进而影响白光干涉仪的测量结果。为解决这一问题，本研究结合半导体溅射工艺，提出在

  半导体 测量

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• 发布了文章 2025-07-22 09:53

  薄膜质量关键 | 半导体/显示器件制造中薄膜厚度测量新方案

  

  在半导体和显示器件制造中，薄膜与基底的厚度精度直接影响器件性能。现有的测量技术包括光谱椭偏仪（SE）和光谱反射仪（SR）用于薄膜厚度的测量，以及低相干干涉法（LCI）、彩色共焦显微镜（CCM）和光谱域干涉法（SDI）用于基板厚度的测量。本研究提出SR-SDI集成光学系统，通过可见光反射谱与近红外干涉谱的协同处理，实现跨尺度同步厚度测量，并开发模型化干涉分析算

  半导体 显示器件 测量

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• 发布了文章 2025-07-22 09:53

  传输线法（TLM）优化接触电阻：实现薄膜晶体管电气性能优化

  

  本文通过传输线方法（TLM）研究了不同电极材料（Ti、Al、Ag）对非晶Si-Zn-Sn-O（a-SZTO）薄膜晶体管（TFT）电气性能的影响，通过TLM接触电阻测试仪提取了TFT的总电阻（RT）和接触电阻（RC），结合电学表征和能带分析，发现Ti电极因形成欧姆接触且功函数差最小，显著提升了迁移率和亚阈值摆幅等关键参数。1实验设计与制备flexfilm(a)

  TLM 接触电阻 晶体管

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• 发布了文章 2025-07-22 09:52

  触针式轮廓仪 | 台阶仪 | 纳米级多台阶高度的精准测量

  

  台阶高度作为纳米结构的关键参数，其测量精度直接影响相关研究与应用。本文利用触针式轮廓仪对三台阶高度样品进行测量与表征的方法。原始测量数据通过多项式拟合与低通滤波处理消除低频伪影和高频噪声。实现了纳米级三台阶高度样本（8nm/18nm/26nm）的高精度测量。并应用于薄膜沉积速率的计算与验证，结果显示轮廓仪与光谱椭偏仪的沉积速率测量结果一致。1触针轮廓仪测量f

  测量 表面轮廓仪 高精度

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• 发布了文章 2025-07-22 09:52

  四探针法精准表征电阻率与接触电阻 | 实现Mo/NbN低温超导薄膜电阻器

  

  低温薄膜电阻器作为超导集成电路的核心元件，其核心挑战在于实现超导材料NbN与金属电阻层Mo间的低接触电阻（R₀）。本文使用四探针法研究钼（Mo）为电阻材料，利用其低电阻率和优异工艺重复性，通过NbN表面氩离子清洗活化及铝（Al）绷带层技术显著降低界面接触电阻，为NbN基超导器件提供可靠解决方案。电阻特性通过使用Xfilm埃利四探针方阻仪在2.5–300K温区

  接触电阻 电阻器 集成电路

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