Flexfilm

动态

• 发布了文章 2026-01-12 18:03

  光谱椭偏仪在二维材料光学表征中的应用综述

  

  二维材料因其独特的电子与光学性质成为前沿研究热点。准确表征其光学响应，尤其是复介电函数，对理解其物理机制与器件应用至关重要。传统光学方法受限于信号强度与灵敏度，而光谱椭偏仪通过探测偏振态变化，能够实现超薄材料的高精度光学常数提取，已成为该领域不可或缺的工具。Flexfilm全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的高精度表征，广泛应用于薄膜材料、半导体和表

  二维材料 光学 光谱

  491浏览量

• 发布了文章 2026-01-09 18:03

  台阶仪在纳米薄膜工艺监控：基于三台阶标准的高精度厚度与沉积速率测定

  

  纳米尺度测量通常依赖具有纳米特征的标准样品进行仪器校准。目前常见标准样品多为单台阶结构，由于仪器非线性，需使用不同高度值进行多次校准。多台阶标准样品可减少探针重复定位，提升校准效率。原子力显微镜与台阶仪是纳米结构测量的常用设备，后者具有更大扫描范围且对样品污染不敏感，但噪声较大且易受环境振动影响。光谱椭偏仪等方法可用于测量薄膜沉积速率，但其结果受材料特性与模

  光谱 测量 薄膜

  524浏览量

• 发布了文章 2026-01-07 18:03

  椭偏仪在MEMS的应用：Er/Sc-AlN薄膜的厚度和光学常数精确表征

  

  随着5G通信技术的快速发展，智能手机对射频前端滤波器的需求急剧增加，声表面波（SAW）滤波器因其高声速、高机电耦合系数和低温漂特性成为研究热点。传统LiTaO₃等单晶材料存在成本高、声速低、温漂大等问题，而基于AlN的压电薄膜SAW滤波器具有成本低、易于集成、性能可调等优势，逐渐成为主流选择。然而，纯AlN薄膜的压电常数（d33）和机电耦合系数（kt）较低，

  mems 光学 薄膜

  462浏览量

• 发布了文章 2026-01-05 18:05

  台阶仪在半导体的应用|精确测量刻蚀深度和表面图案化

  

  摩擦纳米发电机作为一种环境机械能收集技术，在材料选择、结构设计及表面工程等方面持续优化。表面改性通过调控粗糙度与表面电荷，已成为提升摩擦电输出的重要手段。目前，激光辐照、等离子体刻蚀等方法已在聚合物材料中取得成效，但在金属-半导体体系，尤其是半导体表面图案化方面的研究仍较有限。GaN作为第三代宽禁带半导体，具备优异的化学稳定性与高电子迁移率，适用于摩擦电层。

  半导体 测量

  626浏览量

• 发布了文章 2025-12-31 18:04

  椭偏仪在半导体的应用|不同厚度m-AlN与GaN薄膜的结构与光学性质

  

  Ⅲ族氮化物半导体是紫外至可见光发光器件的关键材料。传统c面取向材料因极化电场导致量子限制斯塔克效应，降低发光效率。采用半极性（如m面）生长可有效抑制该效应，尤其(11-22)取向在实现高铟掺入InGaN量子阱方面优势显著。然而，半极性薄膜在异质外延中面临晶体质量差、应力各向异性等挑战。Flexfilm全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的高精度表征，广

  GaN 半导体 薄膜

  4.2k浏览量

• 发布了文章 2025-12-29 18:03

  台阶仪在光电材料中的应用：基于AZO薄膜厚度均匀性表征的AACVD工艺优化

  

  铝掺杂氧化锌（AZO）作为一种高性能透明导电氧化物，在光电子和能源器件中具有广泛应用前景。目前，基于气溶胶辅助化学气相沉积（AACVD）技术制备AZO薄膜的研究多采用氮气等惰性气体作为载气，而对具有氧化活性的氧气作为载气的系统性研究明显缺乏，这限制了对沉积气氛与薄膜性能间关联机制的深入理解。Flexfilm探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准表征与关键参数

  光电材料 薄膜

  507浏览量

• 发布了文章 2025-12-26 18:02

  椭偏仪在半导体的应用|不同厚度c-AlN外延薄膜的结构和光学性质

  

  随着半导体器件向高温、高频、高功率方向发展，氮化铝（AlN）等宽禁带半导体材料的外延质量至关重要。薄膜的厚度、界面粗糙度、光学常数及带隙温度依赖性直接影响器件性能。Flexfilm全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的高精度表征，广泛应用于薄膜材料、半导体和表面科学等领域。本文基于光谱椭偏技术，结合X射线衍射、拉曼光谱等方法，系统研究了c面蓝宝石衬底上

  半导体 薄膜

  1.6k浏览量

• 发布了文章 2025-12-24 18:04

  晶圆多层膜的阶高标准：实现20–500nm无金属、亚纳米级台阶精度

  

  在集成电路检测中，高光学对比度的晶圆级阶高标准对提升自动图像识别的精度至关重要。传统基于单层Si-SiO₂薄膜的阶高标准在低台阶高度下对比度不足，通常需借助金属镀层增强信号，但这会引入污染风险。Flexfilm探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准表征与关键参数的定量测量，精确测定样品的表面台阶高度与膜厚，为材料质量把控和生产效率提升提供数据支撑。本研究提出

  晶圆 测量

  605浏览量

• 发布了文章 2025-12-22 18:04

  光学膜厚测量技术对比：光谱反射法vs椭偏法

  

  在现代高科技产业如半导体和新能源领域，厚度低于一微米的薄膜被广泛应用，其厚度精确测量是确保器件性能和质量控制的核心挑战。面对超薄、多层、高精度和非破坏性的测量需求，传统的接触式或破坏性方法已难以胜任。Flexfilm全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的高精度表征，广泛应用于薄膜材料、半导体和表面科学等领域。为解决这一难题，以光谱反射法(SR)和光谱椭

  光学 光谱 测量

  1.8k浏览量

• 发布了文章 2025-12-19 18:04

  表面粗糙度测量技术选型：台阶仪与光学轮廓仪对比分析

  

  表面粗糙度作为材料表面的微观几何特征，深刻影响着摩擦、密封、热传递、腐蚀及生物相容性等重要功能性能，其精确评估是实现工业质量控制和性能优化的基础。然而，现有的测量技术体系面临着两难选择：传统的接触式方法（如触针轮廓术）虽被广泛采用，但存在划伤样品、无法用于软质材料的风险；而各种非接触光学等方法虽避免了损伤，却往往受限于设备成本高、操作复杂或对特定表面条件敏感

  测量 表面轮廓仪

  710浏览量