Flexfilm

动态

• 发布了文章 2026-04-20 18:03

  台阶仪在有机薄膜晶体管应用：60 nm有源层等效厚度精确测量全流程

  

  有机薄膜晶体管因其低成本、柔性化制备潜力而在光电探测领域备受关注，然而有机薄膜的厚度精准控制与微观结构表征始终是制约器件性能优化的关键难题。Flexfilm费曼仪器探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准表征与关键参数的定量测量，精确测定样品的表面台阶高度与膜厚，为材料质量把控和生产效率提升提供数据支撑。本研究以光敏有机半导体材料酞菁铁（FePc）为有源层，采

  仪器 晶体管 测量

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• 发布了文章 2026-04-17 18:03

  基于均匀样品的薄膜厚度测量：椭偏仪vs.反射仪

  

  本研究利用高质量二氧化硅（SiO₂）和氧化铝（Al₂O₃）薄膜（硅衬底）对光谱椭偏仪和反射仪进行了系统比较。通过详细的不确定度分析，发现两种方法在10nm至2000nm的膜厚范围内结果高度一致，偏差均在测量不确定度之内。椭偏仪在较薄薄膜上不确定度更低，而反射仪在较厚薄膜上更具优势。这项工作强调了严格的厚度表征和不确定度评估对薄膜计量学的重要性。Flexfil

  仪器 测量

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• 发布了文章 2026-04-15 18:04

  磁控溅射工艺时间对金属及氧化物靶材溅射速率的影响：基于台阶仪的薄膜厚度表征

  

  磁控溅射是物理气相沉积（PVD）领域的主流技术之一，具有沉积温度低、速率快、多靶共沉积灵活等优势，被广泛应用于金属、半导体及绝缘体薄膜的制备。实际工程中，由于不同材料溅射原子的角分布差异悬殊，晶振片监测往往误差较大，工程师们通常采用"以工艺时间换算薄膜厚度"的方法：在短时间内溅射沉积一定厚度的薄膜，经台阶仪测量折算出沉积速率，再按比例推算目标厚度所需的溅射时

  仪器 半导体

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• 发布了文章 2026-04-13 18:04

  「纳米光栅无损检测」告别破坏性表征，光谱椭偏仪实现99.97%精度无损测量

  

  随着半导体技术的持续演进，器件特征尺寸不断缩减，而量产化的工艺需求却日益提高，纳米压印技术因此应运而生。纳米压印（NIL）的基本原理是将模具上的图形直接转移至衬底，从而实现批量化复制。与传统光刻工艺相比，纳米压印还具有工艺简单、分辨率高、生产效率高、成本低等显著优势，已成为半导体加工工艺中最重要的技术路线之一。在纳米压印工艺过程中，模板和器件的关键尺寸（CD

  仪器 光谱 测量

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• 发布了文章 2026-04-10 18:04

  磁控溅射SiO₂薄膜工艺优化：台阶仪在膜厚与粗糙度表征中的应用

  

  氧化硅（SiO₂）薄膜作为典型的功能薄膜材料，具有优良的光学、电学及机械性能，在液晶显示、太阳能电池、建筑玻璃及汽车玻璃等领域得到广泛应用。其低折射率和高透光特性，使其在光学减反射膜和表面保护层中具有重要作用。在太阳能电池中，氧化硅薄膜不仅可作为隔离层抑制载流子复合，还可作为抗反射层提升光吸收效率，从而改善器件整体性能与稳定性。随着高性能薄膜需求的不断提升，

  仪器 材料 薄膜

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• 发布了文章 2026-04-08 18:05

  椭偏仪薄膜测试解决方案：半导体、聚合物与生物传感的高精度表征

  

  近年来，随着材料科学的快速发展，薄膜制备技术及表界面研究逐渐成为研究热点。纳米加工技术的不断成熟，使得器件性能要求持续提高，相应地，各类微纳表征技术也得到了快速发展。SEM、AFM及TEM等方法虽具备高空间分辨率与良好的可视化能力，但普遍存在对样品造成不可逆损伤的问题，且难以实现原位检测。相比之下，椭圆偏振光谱（SpectroscopicEllipsomet

  半导体 测试 薄膜

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• 发布了文章 2026-04-03 18:01

  台阶仪在薄膜晶体管的应用 | 精准表征有源层厚度均匀性

  

  在薄膜晶体管（TFT）的研发与性能优化中，有源层（即半导体沟道层）的厚度是决定器件电学特性（如阈值电压、开关比、迁移率）的核心参数之一。本文聚焦于互补型薄膜晶体管（CTFT）的工艺优化，系统探究了P型SnO、Te及N型SnO₂薄膜的厚度对最终器件性能的影响。为确保实验结论的可靠性，精确控制并验证薄膜的实际沉积厚度成为前提条件。本研究采用Flexfilm费曼仪

  仪器 晶体管 薄膜

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• 发布了文章 2026-04-01 18:05

  光谱椭偏法对大面积室温直流溅射AZO薄膜均匀性的表征研究

  

  铝掺杂氧化锌（Al:ZnO，AZO）兼具高透明度与高导电性，且组成元素储量丰富、无毒，适用于多种大面积光电器件。光谱椭偏法通过引入振荡子模型，可以同时提取薄膜的多个光学和电学参数，是评估大面积沉积质量的有效手段。本研究用该方法对沉积在15cm×15cm玻璃衬底上的AZO薄膜进行多点测量，获取方块电阻和可见光透过率的空间分布。对照测量（分光光度法和四探针法）显

  光谱 测量 薄膜

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• 发布了文章 2026-03-30 18:02

  台阶仪在Mo₂C薄膜测量中的应用 | 粗糙化比率>1的薄膜材料

  

  在薄膜科学与技术领域，表面粗糙度是评价薄膜质量、理解生长机制的重要指标。Flexfilm费曼仪器探针式台阶仪可以实现表面微观特征的精准表征与关键参数的定量测量，精确测定样品的表面台阶高度与膜厚，为材料质量把控和生产效率提升提供数据支撑。本文基于台阶仪对Mo₂C薄膜表面粗糙度的测量结果，结合晶粒边界修正，系统分析了其快速粗糙化现象，并对常规粗糙化理论难以解释的

  测量 薄膜 薄膜材料

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• 发布了文章 2026-03-27 18:02

  基于椭偏仪的大尺寸MPALD氧化铝薄膜厚度均匀性与n、k值表征

  

  随着半导体制造工艺不断向更小线宽和更高精度演进，原子层沉积技术因其原子级厚度可控性及优异的均匀性、保形性，在集成电路制造领域获得广泛应用。然而，传统热驱动原子层沉积工艺受限于配体交换反应的温度要求，难以满足热敏感基底的低温沉积需求。为此，等离子体增强原子层沉积技术通过引入高活性自由基替代热反应，有效拓宽了材料范围并降低了沉积温度。在各类等离子体源中，微波等离

  仪器 半导体制造 薄膜

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