品质因数FOM是半导体性能的量化指标之一。MOSFET的FOM由漏-源导通电阻与器件的一个或多个参数的乘积得出。FOM值越低,器件性能越好。
如下是对SiC MOSFET具有重要意义的品质因数:
RDS(on)*Area: 这是最常用的FOM,它代表了MOSFET技术的进步
RDS(ON)× Qg: 综合反映静态导通损耗与栅极驱动损耗,是器件选型与代际对比的基础指标
RDS(ON)× Coss:软开关核心指标,决定轻载损耗与谐振频率,FOM 越小,轻载效率越高、可工作频率越高
RDS(ON)× Eoss: 评估轻载 / 待机损耗,Eoss越小,轻载下充放电损耗越低
器件数据手册通常不会给出FOM值。英飞凌推出的1200V第二代CoolSiC MOSFET,采用先进的沟槽栅SiC技术,实现了品质因数的全面突破。CoolSiC MOSFET G2能够实现超低导通电阻与低输出电容的完美结合,助力系统设计更紧凑、更经济。其业界领先的栅极电荷和输出电容特性,显著降低了开关损耗,提升了高频操作下的能效。此外,高栅-源阈值电压设计有效防止了寄生导通,确保了系统的稳定运行。无论是硬开关还是软开关应用,CoolSiC MOSFET都能提供灵活的设计空间,助力工程师打造卓越、高性能的解决方案。
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发表于 05-07 10:56
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