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行芯科技邀您相约CSTIC 2026集成电路科学技术大会

行芯PHLEXING 来源:行芯PHLEXING 2026-03-14 11:18 次阅读
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集成电路科学技术大会(CSTIC)2026将于3月22日-24日在上海浦东嘉里大酒店盛大举行,与SEMICON China 2026同期举办。作为国内先进工艺Signoff EDA领域的标杆企业,行芯科技将于3月23日发表《Advanced Signoff Solutions for Advanced Systems》主题演讲,分享Signoff前沿技术与实践成果。诚邀业界同仁、专家学者莅临现场,共探技术前沿,共话行业未来。

大会核心亮点

CSTIC 2026由SEMI与IEEE联合主办,是中国及亚洲极具规模与权威性的半导体技术年度盛会。

大会设置十大专题研讨会,覆盖半导体制造、器件设计、集成、材料、设备等全技术领域,重点聚焦AI芯片、6G 芯片、神经形态计算、先进存储、3D集成、MEMS技术等行业前沿热点。

大会优秀论文可收录至IEEE Xplore,是半导体行业技术交流、成果发布与产学研深度对接的核心平台。

主题演讲

《Advanced Signoff Solutions for Advanced Systems》

演讲人:Dr. Runjie Zhang 资深产品总监

论坛:Symposium IX: Design and Automation of Circuits and Systems

日期:2026年3月23日(周一)10:55

地点:上海浦东嘉里大酒店3F 3号多功能厅(花木路1388号)

演讲概述:本次演讲聚焦先进工艺下电流功率密度提升、可靠性问题加剧的行业挑战,系统介绍行芯科技全流程EDA Signoff解决方案及核心产品矩阵,主要会覆盖RC寄生参数提取、EMIR分析、电源早期设计探索三大关键环节。GloryEX精准捕捉复杂寄生效应,筑牢签核数据底座;GloryBolt通过通过独特的DMP并行架构、统计无向量分析及机器学习智能优选周期技术实现EMIR分析效率与精度双提升,高效定位电源网络风险;GloryGrid可早期评估电源规划对EMIR的影响,尤其规避工艺切换、异构集成场景下的收敛瓶颈。演讲将结合实践,展现行芯方案如何加速设计收敛破解先进工艺芯片签核难题,为高端芯片研发提供高效可靠的Signoff技术支撑。

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原文标题:演讲预告|CSTIC 2026,行芯邀您共探先进工艺Signoff新解法

文章出处:【微信号:Phlexing,微信公众号:行芯PHLEXING】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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