0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

全光谱椭偏仪在二维材料中的应用 | 解析PtSe₂光学常数厚度依赖关系

Flexfilm 2025-07-25 18:02 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

过渡金属硫化物(TMDs)的厚度可调能带结构使其在光电子领域备受关注。PtSe₂作为新型层状材料,具有从半导体半金属的相变特性,带隙可调控。然而,其精确光学常数数据长期缺失,制约器件优化。椭圆偏振仪凭借亚纳米级精度、无损测量及同步获取膜厚与光学参数的优势,成为解决该问题的关键手段。Flexfilm费曼仪器作为国内领先测量供应商所提供的Flexfilm全光谱椭偏仪,可精确量化PtSe₂的折射率n消光系数k厚度d,结合多尺度表征解析厚度依赖规律与相变机制。

1

PtSe₂薄膜的制备和光学表征

flexfilm

样品制备

820ff89a-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

(a)化学气相沉积的方法制备 PtSe₂ 的示意图(b)制备得到的 PtSe₂薄膜的光学显微图

在实验中用到的6 块不同厚度的 PtSe₂薄膜(标号分别为样品 A-F)所有样品的尺寸均约为 1×1×0.03 cm³。这些样品均为采用化学气相沉积的方法沉积在蓝宝石(Al₂O₃)基底上得到的。

光学表征

首先对样品 A-F 进行了光学表征,以验证样品的质量。利用原子力显微镜(AFM)观察了样品的表面形貌以及测量了 6 个样品的厚度,与椭偏仪拟合得到的厚度进行比较。

各样品的生长时间、使用 AFM 和椭偏仪测量的厚度以及相应的 Se/Pt 化学计量比

82208f3e-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

2

椭偏仪测量PtSe₂薄膜的光学常数

flexfilm

测量参数

光谱范围:360–1700 nm

入射角:50°

波长步长:5 nm

8231d2d0-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

椭偏仪内部光路示意图

光路流程
超连续光源 → 槽光栅(分光) → 偏振片(线偏振光) → 1/4波片(椭圆偏振光) → 样品反射 → 物镜 → 检偏器 → CCD探测器

测量原理
通过分析反射光中 s/p偏振分量 的振幅比(ψ)相位差(Δ),结合菲涅尔反射理论,反演样品的光学常数(n, κ)和厚度

824196f2-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

采用 Lorentz + Tauc-Lorentz + Drude + eps 线型拟合得到的 (a)n和k;(b) ψ和Δ

模型建立:采用"蓝宝石基底/PtSe₂薄膜/空气"三层模型,以Lorentz + Tauc-Lorentz + eps色散关系拟合,均方根误差(RMSE)< 5,优于Drude混合模型。

3

光学常数厚度依赖性

flexfilm

8252e0f6-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

测量得到的不同厚度的PtSe₂的(a)折射率n;(b)消光系数k;(c)介电函数实部ε₁;(d)介电函数虚部ε₂

通过椭偏拟合获得PtSe₂的光学常数(n, k,ε₁,ε₂)及厚度d,关键规律如下:

折射率 n:厚度增大而增大(长波区更显著);随波长增加呈"先增后减"趋势,且峰值位置随厚度红移。

消光系数k:样品的厚度越大,消光系数k的值越大红外区显著增强);除最薄样品(A)外,所有k谱存在双吸收峰,峰间距随厚度减小而缩小;波长依赖性:短波区平稳 → 600–1200 nm剧减 → 长波区趋稳。

介电函数:ε₁变化同n;ε₂谱呈单峰结构,峰位随厚度增加红移

本文使用椭偏仪在紫外到红外光谱范围内(360-1700 nm)测量了不同厚度PtSe₂的光学常数, 化学气相沉积制备的蓝宝石基底上的 PtSe₂薄膜的光学常数表现为强烈的厚度依赖特性,随着薄膜厚度增加,其折射率n和消光系数k都增大,原因是随样品厚度增加其半金属的成分也增加。PtSe₂光学常数的厚度依赖特性为我们调控基于 PtSe₂的光电器件提供了新的维度,有助于 PtSe₂在光电器件领域的应用。

Flexfilm全光谱椭偏仪

flexfilm

826ab55a-693e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

全光谱椭偏仪拥有高灵敏度探测单元光谱椭偏仪分析软件,专门用于测量和分析光伏领域中单层或多层纳米薄膜的层构参数(如厚度)和物理参数(如折射率n、消光系数k)

  • 先进的旋转补偿器测量技术:无测量死角问题。
  • 粗糙绒面纳米薄膜的高灵敏测量:先进的光能量增强技术,高信噪比的探测技术。
  • 秒级的全光谱测量速度:全光谱测量典型5-10秒。
  • 原子层量级的检测灵敏度:测量精度可达0.05nm。

Flexfilm全光谱椭偏仪拥有高灵敏度探测单元和光谱椭偏仪分析软件可以精确量化PtSe₂的折射率n消光系数k厚度dFlexfilm费曼仪器以创新技术解决二维材料的光学常数标定难题,助力全球薄膜材料领域的高质量发展。

原文参考:《基于椭偏仪测量的PtSe2光学性质研究》

*特别声明:本公众号所发布的原创及转载文章,仅用于学术分享和传递行业相关信息。未经授权,不得抄袭、篡改、引用、转载等侵犯本公众号相关权益的行为。内容仅供参考,如涉及版权问题,敬请联系,我们将在第一时间核实并处理。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 材料
    +关注

    关注

    3

    文章

    1461

    浏览量

    28514
  • 光谱
    +关注

    关注

    4

    文章

    1005

    浏览量

    36842
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    基于超构表面阵列的微型单次曝光光谱研究

    半导体芯片和光学元件加工等应用中,精确测量薄膜的厚度和折射率至关重要。光谱
    的头像 发表于 04-19 09:17 1936次阅读
    基于超构表面阵列的微型单次曝光<b class='flag-5'>光谱</b><b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>研究

    基于超构表面的微型

    图1.传统构型光谱(a)和基于超构表面阵列的光谱
    的头像 发表于 04-28 06:35 1019次阅读
    基于超构表面的微型<b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>

    光谱测量:金属/半导体TMDs薄膜光学常数与高折射率特性

    过渡金属硫族化合物(TMDs)因其独特的激子效应、高折射率和显著的光学各向异性,纳米光子学领域展现出巨大潜力。本研究采用Flexfilm光谱
    的头像 发表于 07-21 18:17 725次阅读
    <b class='flag-5'>全</b><b class='flag-5'>光谱</b><b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>测量:金属/半导体TMDs薄膜<b class='flag-5'>光学</b><b class='flag-5'>常数</b>与高折射率特性

    原理和应用 | 精准测量不同基底光学薄膜TiO₂/SiO₂的光学常数

    费曼仪器作为国内领先的薄膜材料检测解决方案提供商,致力于为全球工业智造提供精准测量解决方案。其中光谱
    的头像 发表于 07-22 09:51 1169次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>原理和应用 | 精准测量不同基底<b class='flag-5'>光学</b>薄膜TiO₂/SiO₂的<b class='flag-5'>光学</b><b class='flag-5'>常数</b>

    薄膜厚度测量技术的综述:从光谱反射法(SR)到光谱(SE)

    被广泛采用。Flexfilm光谱不仅能够满足工业生产中对薄膜厚度
    的头像 发表于 07-22 09:54 1904次阅读
    薄膜<b class='flag-5'>厚度</b>测量技术的综述:从<b class='flag-5'>光谱</b>反射法(SR)到<b class='flag-5'>光谱</b><b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>(SE)

    聚焦位置对光谱膜厚测量精度的影响

    半导体芯片制造中,薄膜厚度的精确测量是确保器件性能的关键环节。随着工艺节点进入纳米级,单颗芯片上可能需要堆叠上百层薄膜,且每层厚度仅几纳米至几十纳米。光谱
    的头像 发表于 07-22 09:54 798次阅读
    聚焦位置对<b class='flag-5'>光谱</b><b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>膜厚测量精度的影响

    测量薄膜厚度的原理与应用

    半导体、光学镀膜及新能源材料等领域,精确测量薄膜厚度光学常数
    的头像 发表于 07-22 09:54 1495次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>测量薄膜<b class='flag-5'>厚度</b>的原理与应用

    薄膜测量原理和方法:光学模型建立和仿真

    领先的薄膜材料检测解决方案提供商,致力于为全球工业智造提供精准测量解决方案。其中Flexfilm光谱
    的头像 发表于 08-15 18:01 3763次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>薄膜测量原理和方法:<b class='flag-5'>光学</b>模型建立和仿真

    的原理和应用 | 薄膜材料或块体材料光学参数和厚度的测量

    是一种基于椭圆偏振分析的光学测量仪器,通过探测偏振光与样品相互作用后偏振态的变化,获取材料光学
    的头像 发表于 08-27 18:04 1256次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>的原理和应用 | 薄膜<b class='flag-5'>材料</b>或块体<b class='flag-5'>材料</b><b class='flag-5'>光学</b>参数和<b class='flag-5'>厚度</b>的测量

    半导体薄膜厚度测量中的应用:基于光谱干涉法研究

    薄膜厚度的测量芯片制造和集成电路等领域中发挥着重要作用。法具备高测量精度的优点,利用宽谱测量方式可得到
    的头像 发表于 09-08 18:02 1313次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b><b class='flag-5'>在</b>半导体薄膜<b class='flag-5'>厚度</b>测量中的应用:基于<b class='flag-5'>光谱</b>干涉<b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b>法研究

    常见技术问题解答(一)

    是一种基于椭圆偏振分析的光学测量仪器,通过探测偏振光与样品相互作用后偏振态的变化,获取材料光学
    的头像 发表于 09-26 18:04 551次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>常见技术问题解答(一)

    常见技术问题解答(

    是一种基于椭圆偏振分析的光学测量仪器,通过探测偏振光与样品相互作用后偏振态的变化,获取材料光学
    的头像 发表于 10-10 18:05 201次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>常见技术问题解答(<b class='flag-5'>二</b>)

    光谱入门指南:原理、方法与基础应用

    材料科学和光学表征领域,精确获取薄膜厚度光学常数是理解
    的头像 发表于 10-24 18:09 496次阅读
    <b class='flag-5'>光谱</b><b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>入门指南:原理、方法与基础应用

    基板效应下OLED有机薄膜的折射率梯度:光谱法的精确表征与分析

    影响研究。这种数据匮乏严重制约了研究人员材料选择和器件设计时做出充分知情的决策。Flexfilm光谱
    的头像 发表于 11-17 18:05 162次阅读
    基板效应下OLED有机薄膜的折射率梯度:<b class='flag-5'>光谱</b><b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b>法的精确表征与分析

    术精准测量超薄膜n,k值及厚度:利用光学各向异性衬底

    传统测量同时确定薄膜光学常数(复折射率n,k)与厚度d时,通常要求薄膜
    的头像 发表于 12-08 18:01 30次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b>术精准测量超薄膜n,k值及<b class='flag-5'>厚度</b>:利用<b class='flag-5'>光学</b>各向异性衬底