0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

氧化镓器件的研究现状和应用前景

泰克科技 来源:泰克科技 2025-04-29 11:13 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

在超宽禁带半导体领域,氧化镓器件凭借其独特性能成为研究热点。泰克中国区技术总监张欣与香港科技大学电子及计算机工程教授黄文海教授,围绕氧化镓器件的研究现状、应用前景及测试测量挑战展开深入交流。

香港科技大学在氧化镓研究领域取得了显著的成果,涵盖了材料生长、器件设计、性能优化和应用开发等多个方面。通过与国际科研机构和企业的合作,港科大团队不仅推动了氧化镓技术的发展,也为相关领域的应用提供了重要的技术支持。

黄文海教授的团队主要致力于氧化镓器件全链条的研究。在材料生长方面,聚焦优化晶体生长工艺,通过改进熔体生长技术,成功提升了氧化镓晶体的质量,降低了晶体缺陷密度,为制备高性能器件提供了优质材料基础。在器件设计与制备上,黄教授的团队创新设计了多种新型器件结构,例如基于场板优化的垂直晶体管结构,有效提高了器件的击穿电压和导通性能,部分器件性能指标达到国际先进水平。这些成果为氧化镓器件在高功率、高压等应用场景的推广奠定了坚实基础。

氧化镓器件的演变与关键技术突破

张欣:在氧化镓器件的发展进程中,您认为哪些关键技术突破助力其从理论走向实际应用?这些突破具体是如何提升氧化镓器件性能的呢?

黄文海教授:氧化镓器件的发展确实离不开一些关键技术的突破。首先,高质量的材料生长技术是基础,我们通过分子束外延(MBE)等技术,能够生长出高质量的氧化镓薄膜,这对于器件的性能至关重要。其次,器件结构设计的优化也非常关键。例如,我们通过引入场板技术,有效提高了器件的耐压能力。此外,对于器件的电场管理技术,如高k介质的应用,也显著改善了器件的电学性能。

张欣:近年来,氧化镓器件在材料、结构等方面持续演进。能否请您分享一下当下在这些方面的最新发展趋势?

黄文海教授:在材料方面,我们正在探索新型的氧化镓材料,这些材料具有更高的耐压能力和更低的漏电率。在结构设计上,我们致力于开发更高效的垂直结构,以实现更高的功率密度和更好的散热性能。这些研究方向都旨在进一步提升氧化镓器件的性能,以满足不同应用场景的需求。

氧化镓器件的应用展望

张欣:在诸多应用领域中,您认为未来氧化镓器件在哪些方面最具发展潜力?原因是什么?

黄文海教授:我认为氧化镓器件在电力电子、紫外探测和传感器等领域具有巨大的发展潜力。在电力电子领域,氧化镓器件的高耐压和低功耗特性使其成为理想的电力转换器件,能够显著提高电力系统的效率和可靠性。在紫外探测方面,氧化镓材料的宽带隙特性使其对紫外光具有高灵敏度,有望在环境监测、生物医学成像等领域发挥重要作用。

张欣:对于氧化镓器件在新兴领域的应用,目前还面临哪些挑战?学术界和产业界该如何协同合作?

黄文海教授:目前,氧化镓器件在高频、高功率应用中的稳定性仍需进一步提高。学术界应专注于基础研究,探索新材料和新结构;产业界则应侧重于器件制造和应用开发,将研究成果转化为实际产品。通过这种协同合作,可以加速氧化镓器件的商业化进程,推动相关技术的发展。

测试测量的挑战与应对

张欣:在氧化镓器件的测试测量环节,您遇到过哪些较为突出的难点和痛点?

黄文海教授:氧化镓器件的特殊电学和光学特性给测试测量带来了诸多技术难题。例如,由于氧化镓器件的高耐压特性,在测量其电学参数时需要高精度、高稳定性的测试设备。此外,对于器件的光学特性测量,如紫外光发射和吸收,也需要专业的光谱分析设备。

张欣:这些测试难点对氧化镓器件的研发、生产以及质量控制产生了怎样的影响?在实际工作中,您是如何应对这些挑战的?

黄文海教授:这些测试难点对氧化镓器件的研发、生产以及质量控制产生了显著影响。为了应对这些挑战,我们采用了多种先进的测量方法,如扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)以及X射线光电子能谱(XPS)等,以全面表征氧化镓器件的性能。同时,我们也使用了泰克/吉时利(Tektronix/Keithley)的测试测量解决方案,这些设备的高精度和高稳定性对于我们的研究至关重要。

未来展望:氧化镓器件的发展方向

张欣:请您对氧化镓器件未来5 - 10年的发展方向做一个前瞻性预测。在此过程中,您认为会出现哪些关键的技术创新点?

黄文海教授:未来5-10年,氧化镓器件将在更高电压、更高频率和更高功率的应用中取得突破。这些应用将推动电力电子技术的革新,为可再生能源、电动汽车和智能电网等领域带来新的发展机遇。同时,我认为新型器件结构的开发、材料质量的进一步提升以及制造工艺的优化将是未来的关键技术创新点。我相信,通过不断的技术创新和合作,氧化镓器件将在更多领域实现突破,为全球半导体产业的发展注入新的活力。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    339

    文章

    31542

    浏览量

    267827
  • 氧化镓
    +关注

    关注

    5

    文章

    92

    浏览量

    10915
  • 泰克科技
    +关注

    关注

    2

    文章

    230

    浏览量

    20693

原文标题:【对话前沿专家】香港科技大学黄文海教授谈氧化镓器件的突破与展望

文章出处:【微信号:泰克科技,微信公众号:泰克科技】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    氧化量产里程碑涌现!第四代半导体器件即将到来?

    应用包括功率器件和光电探测器,但目前来看,这两大氧化的应用场景依然未实现大规模应用。   近年来,业界一直在材料上推进商业化进程,各大高校和研究机构也开始试验更高性能的
    的头像 发表于 03-28 19:43 8658次阅读
    <b class='flag-5'>氧化</b><b class='flag-5'>镓</b>量产里程碑涌现!第四代半导体<b class='flag-5'>器件</b>即将到来?

    一文详解MOS器件隔离与场氧化

    MOS 集成电路早期以热生长厚氧化层实现器件隔离,即在MOS 晶体管之间以厚SiO2层相隔离,如图5.5所示。
    的头像 发表于 05-28 17:14 70次阅读
    一文详解MOS<b class='flag-5'>器件</b>隔离与场<b class='flag-5'>氧化</b>层

    深度市场分析:智能IC卡定制源头工厂的发展现状与未来前景

    深度剖析:智能IC卡定制源头工厂的现状前景在数字化时代,智能IC卡广泛应用于交通、金融、医疗等多个领域,市场需求持续增长。然而,许多用户在选择智能IC卡定制源头工厂时,面临着产品质量参差不齐、价格
    的头像 发表于 05-11 17:58 247次阅读
    深度市场分析:智能IC卡定制源头工厂的发展<b class='flag-5'>现状</b>与未来<b class='flag-5'>前景</b>

    昌龙智芯650V-3300V氧化功率器件发布:国产高压半导体实现从“跟跑”到“领跑”的跨越

    2026年4月,昌龙智芯正式发布覆盖650V至3300V电压等级的氧化功率器件系列,标志着我国在高压功率半导体领域实现关键技术突破,填补了国内在该电压范围氧化
    的头像 发表于 04-24 10:25 1589次阅读

    意法半导体推出四款全新VIPERGAN氮化功率器件

    从快充充电器到工业自动化,氮化正成为高功率密度电源设计的核心选择。意法半导体近日推出四款全新VIPERGAN氮化功率器件,持续推动氮化技术在更广阔领域的落地。
    的头像 发表于 04-11 16:17 4555次阅读
    意法半导体推出四款全新VIPERGAN氮化<b class='flag-5'>镓</b>功率<b class='flag-5'>器件</b>

    氧化器件新突破!光导开关击穿电压突破10000V

    电子发烧友网综合报道 氧化器件又有新突破! 深圳平湖实验室联合山东大学、杭州仁半导体等,成功研制出具备万伏级耐压能力的垂直结构氧化
    的头像 发表于 04-09 09:41 3153次阅读

    日本氧化技术再获突破:六项成果集中发布,低成本量产指日可待

    研究成果。这一系列突破标志着日本在氧化材料生长工艺上取得系统性进展,有望大幅降低制造成本、提升器件性能,为电动汽车、可再生能源及宇宙开发等高端领域的应用铺平道路。一、
    的头像 发表于 04-09 06:40 573次阅读
    日本<b class='flag-5'>氧化</b><b class='flag-5'>镓</b>技术再获突破:六项成果集中发布,低成本量产指日可待

    四探针方阻仪高精度表征:铟氧化物/银/铟氧化物多层膜的光电性能

    能力。近年来,研究人员提出了一种具有夹层结构的铟氧化物/银/铟氧化物多层膜,并通过快速热退火工艺进一步优化其整体光电性能。在评估这种
    的头像 发表于 04-02 18:03 217次阅读
    四探针方阻仪高精度表征:铟<b class='flag-5'>镓</b>锌<b class='flag-5'>氧化</b>物/银/铟<b class='flag-5'>镓</b>锌<b class='flag-5'>氧化</b>物多层膜的光电性能

    半导体将参加 ISPSD 2026 国际功率器件与功率集成电路大会

    半导体研究创新|云半导体六篇研究成果被ISPSD2026录用在刚刚结束的ISPSD2026征稿评比中,云半导体(CloudSemi)
    的头像 发表于 03-10 14:36 895次阅读
    云<b class='flag-5'>镓</b>半导体将参加 ISPSD 2026 国际功率<b class='flag-5'>器件</b>与功率集成电路大会

    电流密度1 kA/cm²,二极管耐压比SiC大3倍!氧化器件商业化!

    ,可以让研究人员在创业期间每年获得10万美元生活津贴和10万美元研发经费,并获得其他项目、学员和潜在投资者、行业专家等建立联系的机会。 值得关注的是,Gallox是全球首家将氧化器件
    的头像 发表于 09-06 00:05 7911次阅读

    氧化破局!江苏拓能半导体科技有限公司工业电机驱动系统著作权落地,解锁高效节能新范式

    2025年8月25日,江苏拓能半导体科技有限公司(以下简称“江苏拓能”)自主研发的 “氧化半导体在工业电机驱动应用系统(V1.0)” 正式获得软件著作权(登记号:2025SR1611231)。作为
    的头像 发表于 09-05 18:22 1225次阅读

    氧化功率器件动态可靠性测试方案

    在氮化和碳化硅之后,氧化(Ga₂O₃)正以超高击穿电压与低成本潜力,推动超宽禁带功率器件进入大规模落地阶段。
    的头像 发表于 07-11 09:12 3400次阅读
    <b class='flag-5'>氧化</b><b class='flag-5'>镓</b>功率<b class='flag-5'>器件</b>动态可靠性测试方案

    东京大学开发氧化铟(InGaOx)新型晶体管,延续摩尔定律提供新思路

    据报道,东京大学的研究团队近日成功开发出一种基于掺氧化铟(InGaOx)晶体材料的新型晶体管。这一创新在微电子技术领域引起了广泛关注,标志着微电子器件性能提升的重要突破。该
    的头像 发表于 07-02 09:52 1185次阅读
    东京大学开发<b class='flag-5'>氧化</b>铟(InGaOx)新型晶体管,延续摩尔定律提供新思路

    氮化器件在高频应用中的优势

    氮化(GaN)器件在高频率下能够实现更高效率,主要归功于GaN材料本身的内在特性。
    的头像 发表于 06-13 14:25 1881次阅读
    氮化<b class='flag-5'>镓</b><b class='flag-5'>器件</b>在高频应用中的优势

    氧化射频器件研究进展

    氧化(Ga2O3 )是性能优异的超宽禁带半导体材料,不仅临界击穿场强大、饱和速度高,而且具有极高的 巴利加优值和约翰逊优值,在功率和射频器件领域具有重要的应用前景。本文聚焦于 Ga2
    的头像 发表于 06-11 14:30 2847次阅读
    <b class='flag-5'>氧化</b><b class='flag-5'>镓</b>射频<b class='flag-5'>器件</b><b class='flag-5'>研究</b>进展