0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

Cadence汪晓煜:EDA的新风潮,聚焦3D IC、AI、设计上云

晶芯观察 来源:电子发烧友网 作者:黄晶晶 2022-01-04 13:50 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

电子发烧友网报道(文/黄晶晶)根据中国半导体行业协会的最新统计数据,中国IC设计企业已经超过2800家,庞大的设计公司数量对应着大量的设计需求,而如何满足他们的需求,这是作为上游EDA企业需要考虑和前瞻的问题。在中国集成电路设计业2021年会(ICCAD2021)上,Cadence(楷登电子)公司中国区总经理汪晓煜在接受电子发烧友网等媒体采访时表示,随着摩尔定律的演进、先进封装的发展以及AI云计算等新兴技术的推动,EDA行业也在发展着深刻变化。结合到中国越来越多的IC设计公司,和系统公司等都在研发设计芯片,Cadence洞察客户需求,做出了积极的应对。

Cadence(楷登电子)公司中国区总经理汪晓煜

运用机器学习、AI提升EDA设计效率

Cadence在应用人工智能和机器学习技术方面步伐较快,早在三年前在珠海的ICCAD年会上,Cadence就分享了其EDA工具在机器学习方面的研发经验。三年来,嵌入了机器学习的相关产品在客户端投入使用,反响不错。

汪晓煜表示,在EDA中应用机器学习和AI目前首先体现在大规模数字IC的实现优化,这一块在机器学习的运用效果非常好,能够对数据运行进行大幅度提升,Cadence对应的产品叫Cerebrus,它能够让设计工程师在最短的时间找到最优的配方,获得最好的PPA。

同时,Cadence还将机器学习用于数字仿真验证产品的回归测试,通过机器学习达到用10%的时间提升10倍效率的效果。

此外,Cadence在PCB设计综合方面也花费了大量的精力,与麻省理工的教授共同合作研发,将机器学习引入其中。“把PCB综合布局布线做好不是一件容易的事情,我们跟国际大公司、头部企业做了很多尝试后,我们今年才确定可以满足客户对于PCB设计综合多目标优化的实现需求。”汪晓煜说道。

目前,并非所有EDA工具都能够引入机器学习,但Cadence希望将机器学习融入更多的产品当中,大幅度提升设计生产效率。

EDA如何助推3DIC

在超越摩尔的趋势下,3D堆叠已经成为设计业关注的焦点,Cadence能够提供统一的一体化平台Integrity 3D IC。汪晓煜说,“近几年,Cadence已经有意识地逐渐补齐3DIC平台所需要的工具,例如多物理仿真、热分析、信号完整性分析等,再加上原有的模拟设计、数字设计,封装SIP设计能力等,我们在Integrity 3D IC进行全面整合,建立统一数据库,构建我们 3D IC的最大价值。”

他认为,3D IC最终的实现是无需介质层的芯片堆叠,这才是实现真正意义上的超越摩尔,无需介质是指连线可以更短,功耗随之降低,进而提升带宽性能,封装成本更低,良率显著提高。如今,我们已经可以实现部分芯片的3D堆叠,证明3D IC这条路可以走通,但是无需介质的芯片堆叠还需要通过EDA公司、晶圆代工厂、设计公司等多方努力,而Cadence提供一体化的设计平台,正是为了助力3D IC达到事半功倍的效果。

EDA上云

CadenceEDA上云计划在早期与AWS、微软、台积电等多方进行尝试,于三年前已经形成成熟方案,Cadence所有的工具都可以上云,EDA上云能够给客户提供灵活性和便利性,它成为越来越多公司的选择。汪晓煜表示,一个现象是EDA上云的用户目前大部分在欧美,尤其是小公司不愿意建立自己的IT系统,更偏爱于直接在云端使用EDA。如此一来,目前的两种商业模式,一种是AWS向用户提供服务,向我们拿一些计算资源或License。另一种是客户直接找Cadence,由Cadence设置好云和APP,客户只需在电脑上打开网页登陆即可使用。

在国内也有类似的模式,Cadence授权中国唯一一家EDA上云合作伙伴英诺达公司,由英诺达提供硬件加速器和软件上云的服务。目前国内许多IC设计公司基于这样的模式,实现CadenceEDA上云的体验。

随着先进工艺节点的设计例如大规模SoC、GPUCPU、DPU等芯片的开发都在16nm、12nm、7nm甚至5nm,对EDA工具的需求和投入越来越多,进入先进节点后,设计企业在验证上的投入大幅提升,这给EDA企业带来了挑战,也带来了更多机会。

汪晓煜表示,Cadence拥有最完整、最有竞争力的全套EDA的解决方案,也拥有与全球优秀客户合作的经验。希望与中国客户更加紧密的合作,助力其开发具有国际竞争力的产品。

本文为电子发烧友网原创文章,作者黄晶晶,微信号kittyhjj,转载请注明以上来源。如需入群交流,请添加微信elecfans999,投稿爆料发邮件到huangjingjing@elecfans.com。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • Cadence
    +关注

    关注

    68

    文章

    1040

    浏览量

    147501
  • eda
    eda
    +关注

    关注

    72

    文章

    3162

    浏览量

    184093
  • AI
    AI
    +关注

    关注

    91

    文章

    41964

    浏览量

    303057
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    Cadence 与 Google 合作,利用 ChipStack AI Super Agent 在 Google Cloud 扩展 AI 驱动的芯片设计

    合作,利用 Google Cloud 的 Gemini 模型优化 Cadence® ChipStack™ AI Super Agent。此次合作使 Cadence 站在向代理式设计自
    的头像 发表于 04-24 13:22 228次阅读

    Cadence与Google合作,利用ChipStack AI Super Agent在Google Cloud扩展AI驱动的芯片设计

    设计 AI 计算软件领域的行业领导者楷登电子(美国 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布与 Google Cloud 达成战略合作 ,利用 Google Cloud
    的头像 发表于 04-24 10:36 2359次阅读

    英伦科技光场裸眼3D笔记本重磅新!解锁光场技术无“镜”3D新体验!

    期待已久的英伦科技光场裸眼3D笔记本终于新了! 这款集结多项黑科技的硬核产品,直接把3D显示体验拉到了天花板,不管是专业工作还是娱乐放松,都能给你带来前所未有的沉浸感。
    的头像 发表于 04-17 15:48 392次阅读
    英伦科技光场裸眼<b class='flag-5'>3D</b>笔记本重磅<b class='flag-5'>上</b>新!解锁光场技术无“镜”<b class='flag-5'>3D</b>新体验!

    简单认识3D SOI集成电路技术

    在半导体技术迈向“后摩尔时代”的进程中,3D集成电路(3D IC)凭借垂直堆叠架构突破平面缩放限制,成为提升性能与功能密度的核心路径。
    的头像 发表于 12-26 15:22 1090次阅读
    简单认识<b class='flag-5'>3D</b> SOI集成电路技术

    Cadence Conformal AI Studio荣获2025亚洲金选奖年度最佳EDA

    Cadence Conformal AI Studio 在 2025 年亚洲 EE 大奖中荣获“年度最佳 EDA”称号!
    的头像 发表于 12-26 09:55 1033次阅读

    一文掌握3D IC设计中的多物理场效应

    EDA半导体行业正处在一个关键转折点,摩尔定律的极限推动着向三维集成电路(3D IC)技术的转型。通过垂直集成多个芯粒,3D IC 在性能、
    的头像 发表于 12-19 09:12 794次阅读
    一文掌握<b class='flag-5'>3D</b> <b class='flag-5'>IC</b>设计中的多物理场效应

    AI重塑EDA3D-IC成关键战场:Cadence的洞察与应变

    电子发烧友网报道(文/吴子鹏)当摩尔定律逼近物理极限,3D-IC成为延续算力指数级增长的新选择;当大模型发展一日千里,AI开始反向定义芯片设计与需求。两条技术曲线在同一时空交汇,EDA工具链的智能化
    的头像 发表于 11-27 08:51 7920次阅读

    西门子EDA重塑3D IC设计:突破高效协同、可靠验证、散热及应力管理多重门

    随着摩尔定律逐渐接近物理极限,传统的二维集成电路技术在性能提升和芯片密度方面遇到了瓶颈。为了满足日益增长的高性能计算、人工智能等应用需求,3D IC技术应运而生,通过将多个芯片和器件在垂直方向
    的头像 发表于 10-23 14:32 6276次阅读
    西门子<b class='flag-5'>EDA</b>重塑<b class='flag-5'>3D</b> <b class='flag-5'>IC</b>设计:突破高效协同、可靠验证、散热及应力管理多重门

    Cadence AI芯片与3D-IC设计流程支持台积公司N2和A16工艺技术

    上市周期,以满足 AI 和 HPC 客户的应用需求。Cadence 与台积公司在 AI 驱动的 EDA3D-IC、IP 及光子学等领域展开
    的头像 发表于 10-13 13:37 2541次阅读

    玩转 KiCad 3D模型的使用

    时间都在与 2D 的焊盘、走线和丝印打交道。但一个完整的产品,终究是要走向物理世界的。元器件的高度、接插件的朝向、与外壳的配合,这些都是 2D 视图难以表达的。 幸运的是,KiCad 提供了强大的 3D 可视化功能。它不仅能让你
    的头像 发表于 09-16 19:21 1.2w次阅读
    玩转 KiCad <b class='flag-5'>3D</b>模型的使用

    Cadence3D-IC以及AI领域的创新实践

    当前,人工智能正以前所未有的深度重塑半导体产业链的核心环节,而作为芯片设计的“引擎”,EDA(电子设计自动化)领域正经历着从传统规则驱动向数据智能驱动的范式迁移。主流 EDA 厂商纷纷加大 AI
    的头像 发表于 09-09 11:52 4198次阅读
    <b class='flag-5'>Cadence</b>在<b class='flag-5'>3D-IC</b>以及<b class='flag-5'>AI</b>领域的创新实践

    索尼与VAST达成3D业务合作

    近日,索尼空间现实显示屏与VAST旗下的3D大模型Tripo AI正式宣布达成业务合作:双方将围绕裸眼3D显示技术、AI驱动的3D内容生成与
    的头像 发表于 08-28 17:32 1842次阅读

    EDA是什么,有哪些方面

    规模扩大,EDA工具对算力和存储需求极高。 技术更新快:需紧跟半导体工艺进步(如深亚微米设计)和新兴需求(如AI芯片设计)。 趋势: AI赋能:AI算法用于自动优化设计参数和加速验
    发表于 06-23 07:59

    解锁微观测量新境界:光学3D轮廓仪与共聚焦显微成像的结合应用

    ,SuperViewWT3000复合型光学3D表面轮廓仪创新性地集成了白光干涉仪和共聚焦显微镜两种高精度3D测量仪器的性能特点,为微观测量领域带来了的变化。集成带来的测量灵活性飞
    的头像 发表于 06-13 11:41 1156次阅读
    解锁微观测量新境界:光学<b class='flag-5'>3D</b>轮廓仪与共<b class='flag-5'>聚焦</b>显微成像的结合应用

    3D AD库文件

    3D库文件
    发表于 05-28 13:57 6次下载